ويشمل بديل التفلور بالأشعة السينية (XRF) لتحليل العناصر تقنيات مثل قياس طيف الانبعاثات الضوئية (OES) وقياس الطيف التحليلي المستحث بالليزر (LIBS). يمكن لهذه الأساليب تحليل قطع العمل مباشرةً دون إعداد عينة واسعة النطاق، ولكن لها قيود مقارنةً بالتفلور بالأشعة السينية. قد يترك مطيافي OES وLIBS علامات مرئية على العينات، وهو ما يمكن أن يكون عيبًا عندما يكون الحفاظ على سلامة قطعة العمل أمرًا بالغ الأهمية.
مطياف الانبعاث البصري (OES):
OES هي تقنية تستخدم الضوء المنبعث من الذرات المثارة لتحديد التركيب العنصري للمادة. وهي مفيدة بشكل خاص للكشف عن العناصر ذات الأعداد الذرية المنخفضة ويمكن أن توفر تحليلاً كمياً دقيقاً. ومع ذلك، تتطلب تقنية OES شرارة لإثارة الذرات، مما قد يتسبب في ضرر مادي للعينة، مما يجعلها أقل ملاءمة للاختبارات غير المتلفة.مطياف الانهيار المستحث بالليزر (LIBS):
يستخدم LIBS نبضة ليزر عالية الطاقة لإنشاء بلازما دقيقة على سطح العينة، والتي تبعث الضوء. ثم يتم تحليل طيف هذا الضوء لتحديد التركيب العنصري. ويتميز LIBS بقدرته على تحليل المواد الصلبة والسوائل والغازات دون الحاجة إلى تحضير عينة كبيرة. ومع ذلك، مثل OES، يمكن أن يترك علامات على العينة بسبب تأثير الليزر عالي الطاقة.
