المنتجات المواد الاستهلاكية والمواد المعملية مواد المختبر Cadmium Sulfide (CdS) Sputtering Target / Powder / Wire / Block / Granule
تبديل الفئات
هدف رش كبريتيد الكادميوم (CdS) / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

مواد المختبر

هدف رش كبريتيد الكادميوم (CdS) / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

رقم العنصر : LM-CdS

السعر يتغير بناءً على specs and customizations


صيغة كيميائية
قرص مضغوط
نقاء
4N
شكل
أقراص / سلك / كتلة / مسحوق / ألواح / أهداف عمود / هدف الخطوة / حسب الطلب
ISO & CE icon

الشحن:

اتصل بنا للحصول على تفاصيل الشحن استمتع On-time Dispatch Guarantee.

نحن نقدم مواد كبريتيد الكادميوم (CdS) للاستخدام المعملي بأسعار تنافسية. تكمن كفاءتنا في تصنيع مواد كبريتيد الكادميوم (CdS) وتخصيصها بدرجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة لتلبية احتياجاتك المميزة.

نحن نقدم مجموعة متنوعة من المواصفات والأحجام لأهداف الرش (دائرية ، مربعة ، أنبوبية ، غير منتظمة) ، مواد الطلاء ، الأسطوانات ، المخاريط ، الجسيمات ، الرقائق ، المساحيق ، مساحيق الطباعة ثلاثية الأبعاد ، مساحيق النانومتر ، قضبان الأسلاك ، السبائك ، الكتل ، و أكثر.

تفاصيل

هدف رش كبريتيد الكادميوم (CdS)
هدف رش كبريتيد الكادميوم (CdS)
جزيئات كبريتيد الكادميوم (CdS)
جزيئات كبريتيد الكادميوم (CdS)

حول كبريتيد الكادميوم (CdS)

كبريتيد الكادميوم مادة صلبة بلورية تستخدم كأشباه موصلات وفي تطبيقات البصريات الضوئية.

مراقبة جودة المكونات

تحليل تكوين المواد الخام
من خلال استخدام معدات مثل ICP و GDMS ، يتم الكشف عن محتوى الشوائب المعدنية وتحليلها للتأكد من أنها تلبي معيار النقاء ؛

يتم الكشف عن الشوائب غير المعدنية بواسطة معدات مثل أجهزة تحليل الكربون والكبريت وأجهزة تحليل النيتروجين والأكسجين.
تحليل الكشف عن الخلل المعدني
يتم فحص المواد المستهدفة باستخدام معدات الكشف عن الخلل للتأكد من عدم وجود عيوب أو ثقوب انكماش داخل المنتج ؛

من خلال اختبار علم المعادن ، يتم تحليل بنية الحبيبات الداخلية للمادة المستهدفة للتأكد من أن الحبوب دقيقة وكثيفة.
فحص المظهر والأبعاد
يتم قياس أبعاد المنتج باستخدام ميكرومتر وفرجار دقيق لضمان الامتثال للرسومات ؛

يتم قياس تشطيب السطح ونظافة المنتج باستخدام مقياس نظافة السطح.

أحجام الأهداف التقليدية الاخرق

عملية التحضير
الضغط المتساوي الساكن الساخن ، ذوبان الفراغ ، إلخ.
الاخرق شكل الهدف
هدف رشاش مستوي ، هدف رش متعدد القوس ، هدف رشاش متدرج ، هدف رشاش على شكل خاص
حجم الهدف الاخرق جولة
القطر: 25.4 ملم / 50 ملم / 50.8 ملم / 60 ملم / 76.2 ملم / 80 ملم / 100 ملم / 101.6 ملم / 152.4 ملم
السماكة: 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
يمكن تخصيص الحجم.
حجم الهدف الاخرق المربع
50 × 50 × 3 مم / 100 × 100 × 4 مم / 300 × 300 × 5 مم ، يمكن تخصيص الحجم

الأشكال المعدنية المتوفرة

تفاصيل النماذج المعدنية

نقوم بتصنيع جميع المعادن المدرجة في الجدول الدوري تقريبًا في مجموعة واسعة من الأشكال والنقاء ، بالإضافة إلى الأحجام والأبعاد القياسية. يمكننا أيضًا إنتاج منتجات حسب الطلب لتلبية متطلبات العملاء المحددة ، مثل الحجم والشكل ومساحة السطح والتركيب والمزيد. توفر القائمة التالية عينة من النماذج التي نقدمها ، ولكنها ليست شاملة. إذا كنت بحاجة إلى مواد مستهلكة للمختبر ، فيرجى الاتصال بنا مباشرة لطلب عرض أسعار.

  • الأشكال المسطحة / المستوية: لوح ، فيلم ، رقائق معدنية ، ميكروفويل ، ورقة دقيقة ، ورق ، لوح ، شريط ، ورقة ، شريط ، شريط ، رقاقة
  • الأشكال مسبقة التشكيل: الأنودات ، الكرات ، العصابات ، القضبان ، القوارب ، البراغي ، القوالب ، الكاثودات ، الدوائر ، الملفات ، البوتقات ، البلورات ، المكعبات ، الكؤوس ، الأسطوانات ، الأقراص ، الأقطاب الكهربائية ، الألياف ، الشعيرات ، الشفاه ، الشبكات ، العدسات ، المغزل ، المكسرات الأجزاء ، المنشورات ، كرات الصولجان ، الحلقات ، القضبان ، الأشكال ، الدروع ، الأكمام ، الينابيع ، المربعات ، أهداف الرش ، العصي ، الأنابيب ، الغسالات ، النوافذ ، الأسلاك
  • الأحجام الدقيقة: الخرز ، القطع ، الكبسولات ، الرقائق ، العملات المعدنية ، الغبار ، الرقائق ، الحبوب ، الحبيبات ، المسحوق الدقيق ، الإبر ، الجسيمات ، الحصى ، الكريات ، الدبابيس ، الحبوب ، البودرة ، الحلاقة ، الرصاص ، الرخويات ، الكرات ، الأقراص
  • أحجام كبيرة: كتل ، قطع ، قصاصات ، شظايا ، سبائك ، كتل ، شذرات ، قطع ، تثقيب ، صخور ، قصاصات ، شرائح ، خراطة
  • مسامية وشبه مسامية: قماش ، رغوة ، شاش ، قرص العسل ، شبكة ، إسفنج ، صوف
  • المقياس النانوي: الجسيمات النانوية ، المساحيق النانوية ، الأنابيب النانوية ، الأنابيب النانوية ، الأذرع النانوية ، التنظير النانوي
  • أخرى: تركيز ، حبر ، معجون ، راسب ، بقايا ، عينات ، عينات

KinTek متخصصة في تصنيع مواد عالية النقاء وعالية النقاء بنطاق نقاوة 99.999٪ (5N) ، 99.9999٪ (6N) ، 99.99995٪ (6N5) ، وفي بعض الحالات ، تصل إلى 99.99999٪ (7N) ). تتوفر موادنا بدرجات محددة ، بما في ذلك درجات UP / UHP وأشباه الموصلات والإلكترونية والترسب والألياف الضوئية ودرجات MBE. صُنعت معادننا وأكاسيدنا ومركباتنا عالية النقاء خصيصًا لتلبية المتطلبات الصارمة لتطبيقات التكنولوجيا العالية ، وهي مثالية للاستخدام كمشبات ومواد أولية لترسيب الأغشية الرقيقة ، والنمو البلوري لأشباه الموصلات ، وتوليف المواد النانوية. تستخدم هذه المواد في الإلكترونيات الدقيقة المتقدمة والخلايا الشمسية وخلايا الوقود والمواد البصرية والتطبيقات المتطورة الأخرى.

التعبئة والتغليف

نستخدم عبوات مفرغة الهواء لموادنا عالية النقاء ، ولكل مادة تغليف خاص مصمم خصيصًا لخصائصها الفريدة. على سبيل المثال ، يتم تمييز هدف Hf sputter الخاص بنا خارجيًا وتوسيمه لتسهيل التحديد الفعال ومراقبة الجودة. نحن نحرص بشدة على منع أي ضرر قد يحدث أثناء التخزين أو النقل.

FAQ

ما هو ترسيب البخار الفيزيائي (PVD)؟

الترسيب الفيزيائي للبخار (PVD) هو تقنية لترسيب الأغشية الرقيقة عن طريق تبخير مادة صلبة في فراغ ثم ترسيبها على ركيزة. تتميز طلاءات PVD بأنها متينة للغاية ومقاومة للخدش ومقاومة للتآكل ، مما يجعلها مثالية لمجموعة متنوعة من التطبيقات ، من الخلايا الشمسية إلى أشباه الموصلات. ينتج PVD أيضًا أغشية رقيقة يمكنها تحمل درجات الحرارة العالية. ومع ذلك ، يمكن أن يكون PVD مكلفًا ، وتختلف التكلفة اعتمادًا على الطريقة المستخدمة. على سبيل المثال ، يعد التبخر طريقة PVD منخفضة التكلفة ، بينما يعد رش شعاع الأيونات مكلفًا إلى حد ما. من ناحية أخرى ، يعد رش المغنطرون أكثر تكلفة ولكنه أكثر قابلية للتطوير.

ما هو الهدف الاخرق؟

هدف الرش هو مادة مستخدمة في عملية ترسيب الرذاذ ، والتي تتضمن تفتيت المادة المستهدفة إلى جزيئات صغيرة تشكل رذاذًا وتغطي ركيزة ، مثل رقاقة السيليكون. عادةً ما تكون أهداف الرش عبارة عن عناصر معدنية أو سبائك ، على الرغم من توفر بعض الأهداف الخزفية. تأتي في مجموعة متنوعة من الأحجام والأشكال ، مع قيام بعض الشركات المصنعة بإنشاء أهداف مجزأة لمعدات الرش الأكبر. تحتوي أهداف الرش على نطاق واسع من التطبيقات في مجالات مثل الإلكترونيات الدقيقة ، والخلايا الشمسية ذات الأغشية الرقيقة ، والإلكترونيات الضوئية ، والطلاء الزخرفي نظرًا لقدرتها على ترسيب الأغشية الرقيقة بدقة عالية وتوحيد.

ما هي المواد عالية النقاء؟

تشير المواد عالية النقاء إلى المواد الخالية من الشوائب وتمتلك مستوى عالٍ من التجانس الكيميائي. هذه المواد ضرورية في مختلف الصناعات ، لا سيما في مجال الإلكترونيات المتقدمة ، حيث يمكن أن تؤثر الشوائب بشكل كبير على أداء الأجهزة. يتم الحصول على المواد عالية النقاء من خلال طرق مختلفة ، بما في ذلك التنقية الكيميائية وترسيب طور البخار وتكرير المنطقة. عند تحضير الماس البلوري الأحادي الدرجة الإلكترونية ، على سبيل المثال ، يعد غاز المواد الخام عالي النقاء ونظام فراغ فعال ضروريًا لتحقيق المستوى المطلوب من النقاء والتجانس.

ما هو الاخرق المغنطرون؟

رش المغنطرون عبارة عن تقنية طلاء تعتمد على البلازما تُستخدم لإنتاج أغشية شديدة الكثافة ذات التصاق ممتاز ، مما يجعلها طريقة متعددة الاستخدامات لتكوين طلاءات على مواد ذات نقاط انصهار عالية ولا يمكن تبخيرها. تولد هذه الطريقة بلازما محصورة مغناطيسيًا بالقرب من سطح الهدف ، حيث تتصادم أيونات الطاقة موجبة الشحنة مع المادة المستهدفة سالبة الشحنة ، مما يتسبب في طرد الذرات أو "رشها". ثم يتم ترسيب هذه الذرات المقذوفة على ركيزة أو رقاقة لإنشاء الطلاء المطلوب.

كيف يتم الاخرق الاهداف؟

يتم إجراء أهداف الرش باستخدام مجموعة متنوعة من عمليات التصنيع اعتمادًا على خصائص المادة المستهدفة وتطبيقاتها. وتشمل هذه الطرق الصهر والدرفلة بالفراغ ، والضغط الساخن ، والعملية الخاصة بالضغط المتكلس ، والضغط الساخن بالفراغ ، وطرق التزوير. يمكن تصنيع معظم المواد المستهدفة المتساقطة في مجموعة واسعة من الأشكال والأحجام ، مع كون الأشكال الدائرية أو المستطيلة هي الأكثر شيوعًا. تصنع الأهداف عادة من العناصر المعدنية أو السبائك ، ولكن يمكن أيضًا استخدام الأهداف الخزفية. أهداف الاخرق المركب متاحة أيضًا ، مصنوعة من مجموعة متنوعة من المركبات بما في ذلك الأكاسيد ، والنتريدات ، والبوريدات ، والكبريتيدات ، والسيلينيدات ، والتيلورايد ، والكربيدات ، والبلورات ، والمخاليط المركبة.

لماذا الاخرق المغنطرون؟

يُفضل رش المغنطرون نظرًا لقدرته على تحقيق دقة عالية في سماكة الفيلم وكثافة الطلاء ، متجاوزًا طرق التبخر. هذه التقنية مناسبة بشكل خاص لإنشاء طلاءات معدنية أو عازلة ذات خصائص بصرية أو كهربائية محددة. بالإضافة إلى ذلك ، يمكن تكوين أنظمة رش المغنطرون بمصادر مغنطرونية متعددة.

ما هو الهدف الاخرق المستخدم؟

تُستخدم أهداف الرش في عملية تسمى الرش لإيداع أغشية رقيقة من مادة ما على طبقة سفلية باستخدام الأيونات لقصف الهدف. تحتوي هذه الأهداف على مجموعة واسعة من التطبيقات في مختلف المجالات ، بما في ذلك الإلكترونيات الدقيقة ، والخلايا الشمسية ذات الأغشية الرقيقة ، والإلكترونيات الضوئية ، والطلاء الزخرفي. إنها تسمح بترسيب أغشية رقيقة من المواد على مجموعة متنوعة من الركائز بدقة عالية وتوحيد ، مما يجعلها أداة مثالية لإنتاج منتجات دقيقة. تأتي أهداف الرش بأشكال وأحجام مختلفة ويمكن تخصيصها لتلبية المتطلبات المحددة للتطبيق.

ما هي المواد المستخدمة في ترسيب الأغشية الرقيقة؟

عادةً ما يستخدم ترسيب الأغشية الرقيقة المعادن والأكاسيد والمركبات كمواد ، ولكل منها مزاياها وعيوبها الفريدة. تُفضل المعادن لقوة تحملها وسهولة ترسيبها ولكنها غالية الثمن نسبيًا. الأكاسيد شديدة التحمل ، ويمكن أن تتحمل درجات الحرارة العالية ، ويمكن أن تترسب في درجات حرارة منخفضة ، ولكن يمكن أن تكون هشة وصعبة للعمل معها. توفر المركبات القوة والمتانة ، ويمكن ترسيبها في درجات حرارة منخفضة ومصممة لإظهار خصائص محددة.

يعتمد اختيار مادة الطلاء الرقيق على متطلبات التطبيق. المعادن مثالية للتوصيل الحراري والكهربائي ، بينما الأكاسيد فعالة في توفير الحماية. يمكن تصميم المجمعات لتناسب الاحتياجات الخاصة. في النهاية ، ستعتمد أفضل المواد لمشروع معين على الاحتياجات المحددة للتطبيق.

ما هي أهداف الاخرق للإلكترونيات؟

أهداف الرش للإلكترونيات هي أقراص رقيقة أو صفائح من المواد مثل الألمنيوم والنحاس والتيتانيوم التي تُستخدم لإيداع أغشية رقيقة على رقائق السيليكون لإنشاء أجهزة إلكترونية مثل الترانزستورات والصمامات الثنائية والدوائر المتكاملة. تُستخدم هذه الأهداف في عملية تسمى الرش ، حيث يتم طرد ذرات المادة المستهدفة فعليًا من السطح وترسب على ركيزة عن طريق قصف الهدف بالأيونات. تعد أهداف الرش للإلكترونيات ضرورية في إنتاج الإلكترونيات الدقيقة وتتطلب عادةً دقة عالية وتوحيدًا لضمان جودة الأجهزة.

ما هي طرق تحقيق الترسيب الأمثل للأغشية الرقيقة؟

لتحقيق أغشية رقيقة بخصائص مرغوبة ، فإن أهداف الرش عالية الجودة ومواد التبخر ضرورية. يمكن أن تتأثر جودة هذه المواد بعوامل مختلفة ، مثل النقاء وحجم الحبوب وحالة السطح.

تلعب نقاوة أهداف الرش أو مواد التبخر دورًا مهمًا ، حيث يمكن أن تتسبب الشوائب في حدوث عيوب في الطبقة الرقيقة الناتجة. يؤثر حجم الحبوب أيضًا على جودة الأغشية الرقيقة ، حيث تؤدي الحبيبات الأكبر حجمًا إلى خصائص رديئة. بالإضافة إلى ذلك ، تعتبر حالة السطح حاسمة ، حيث يمكن أن تؤدي الأسطح الخشنة إلى حدوث عيوب في الفيلم.

لتحقيق أهداف الرش ومواد التبخر بأعلى جودة ، من الضروري اختيار المواد التي تتميز بدرجة نقاء عالية ، وحجم حبيبات صغير ، وأسطح ناعمة.

استخدامات ترسيب الأغشية الرقيقة

أغشية رقيقة من أكسيد الزنك

تجد أغشية ZnO الرقيقة تطبيقات في العديد من الصناعات مثل الحرارية والضوئية والمغناطيسية والكهربائية ، ولكن استخدامها الأساسي هو في الطلاء وأجهزة أشباه الموصلات.

المقاومات ذات الأغشية الرقيقة

تعتبر مقاومات الأغشية الرقيقة ضرورية للتكنولوجيا الحديثة وتُستخدم في مستقبلات الراديو ولوحات الدوائر وأجهزة الكمبيوتر وأجهزة التردد الراديوي والشاشات وأجهزة التوجيه اللاسلكية ووحدات البلوتوث وأجهزة استقبال الهواتف المحمولة.

أغشية مغناطيسية رقيقة

تُستخدم الأغشية الرقيقة المغناطيسية في الإلكترونيات ، وتخزين البيانات ، وتحديد الترددات الراديوية ، وأجهزة الميكروويف ، والشاشات ، ولوحات الدوائر ، والإلكترونيات الضوئية كمكونات رئيسية.

أغشية بصرية رقيقة

تعتبر الطلاءات الضوئية والإلكترونيات الضوئية من التطبيقات القياسية للأغشية الضوئية الرقيقة. يمكن أن تنتج epitaxy الشعاع الجزيئي أجهزة رقيقة إلكترونية ضوئية (أشباه موصلات) ، حيث تترسب الأغشية فوق المحورية ذرة واحدة في كل مرة على الركيزة.

أغشية رقيقة من البوليمر

تستخدم أغشية البوليمر الرقيقة في رقائق الذاكرة والخلايا الشمسية والأجهزة الإلكترونية. توفر تقنيات الترسيب الكيميائي (CVD) تحكمًا دقيقًا في طلاء أغشية البوليمر ، بما في ذلك المطابقة وسمك الطلاء.

بطاريات الأغشية الرقيقة

تعمل بطاريات الأغشية الرقيقة على تشغيل الأجهزة الإلكترونية مثل الأجهزة الطبية القابلة للزرع ، وقد تقدمت بطارية الليثيوم أيون بشكل كبير بفضل استخدام الأغشية الرقيقة.

طلاء الأغشية الرقيقة

تعزز الطلاءات ذات الأغشية الرقيقة الخصائص الكيميائية والميكانيكية للمواد المستهدفة في مختلف الصناعات والمجالات التكنولوجية. تعتبر الطلاءات المضادة للانعكاس ، والطلاءات المضادة للأشعة فوق البنفسجية أو المضادة للأشعة تحت الحمراء ، والطلاءات المضادة للخدش ، واستقطاب العدسة من الأمثلة الشائعة.

الخلايا الشمسية ذات الأغشية الرقيقة

تعد الخلايا الشمسية ذات الأغشية الرقيقة ضرورية لصناعة الطاقة الشمسية ، مما يتيح إنتاج كهرباء رخيصة ونظيفة نسبيًا. الأنظمة الكهروضوئية والطاقة الحرارية هما التقنيتان الرئيسيتان اللتان يمكن تطبيقهما.

ما هو عمر هدف الاخرق؟

يعتمد عمر هدف الرش على عوامل مثل تكوين المادة والنقاء والتطبيق المحدد الذي يتم استخدامه من أجله. بشكل عام ، يمكن أن تستمر الأهداف لعدة مئات إلى بضعة آلاف من الساعات من الرش ، ولكن هذا يمكن أن يختلف بشكل كبير اعتمادًا على الظروف المحددة لكل تشغيل. يمكن أن تؤدي المعالجة والصيانة المناسبة أيضًا إلى إطالة عمر الهدف. بالإضافة إلى ذلك ، يمكن أن يؤدي استخدام أهداف الرش الدوارة إلى زيادة أوقات التشغيل وتقليل حدوث العيوب ، مما يجعلها خيارًا أكثر فعالية من حيث التكلفة لعمليات الحجم الكبير.

العوامل والمعلمات التي تؤثر على ترسيب الأغشية الرقيقة

معدل الترسيب:

يُعد معدل إنتاج الفيلم ، الذي يُقاس عادةً بالسمك مقسومًا على الوقت ، أمرًا بالغ الأهمية لاختيار تقنية مناسبة للتطبيق. معدلات الترسيب المعتدلة كافية للأغشية الرقيقة ، في حين أن معدلات الترسيب السريع ضرورية للأغشية السميكة. من المهم تحقيق توازن بين السرعة والتحكم الدقيق في سماكة الفيلم.

التوحيد:

يُعرف تناسق الفيلم عبر الركيزة بالتوحيد ، والذي يشير عادةً إلى سمك الفيلم ولكن يمكن أن يرتبط أيضًا بخصائص أخرى مثل مؤشر الانكسار. من المهم أن يكون لديك فهم جيد للتطبيق لتجنب التوحيد أو الإفراط في تحديده.

القدرة على التعبئة:

تشير إمكانية التعبئة أو تغطية الخطوة إلى مدى تغطية عملية الترسيب لتضاريس الركيزة. طريقة الترسيب المستخدمة (على سبيل المثال ، CVD ، أو PVD ، أو IBD ، أو ALD) لها تأثير كبير على تغطية الخطوة والتعبئة.

خصائص الفيلم:

تعتمد خصائص الفيلم على متطلبات التطبيق ، والتي يمكن تصنيفها على أنها فوتونية أو بصرية أو إلكترونية أو ميكانيكية أو كيميائية. يجب أن تفي معظم الأفلام بالمتطلبات في أكثر من فئة واحدة.

درجة حرارة العملية:

تتأثر خصائص الفيلم بدرجة كبيرة بدرجة حرارة العملية ، والتي قد تكون محدودة بالتطبيق.

ضرر:

كل تقنية ترسيب لديها القدرة على إتلاف المواد التي يتم ترسيبها ، حيث تكون الميزات الأصغر أكثر عرضة لتلف العملية. يعد التلوث والأشعة فوق البنفسجية والقصف الأيوني من بين المصادر المحتملة للضرر. من الأهمية بمكان فهم قيود المواد والأدوات.

عرض المزيد من الأسئلة الشائعة لهذا المنتج

4.8

out of

5

KINTEK SOLUTION's sputtering targets are of top-notch quality, ensuring precise and consistent thin-film deposition.

Abdoulaye Ndiaye

4.9

out of

5

I've been using KINTEK SOLUTION's CdS sputtering targets for my optoelectronic research, and their performance is remarkable.

Natalia Ivanova

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's fast delivery and excellent customer service made my research project a breeze.

Liam O'Brien

4.8

out of

5

The quality of KINTEK SOLUTION's sputtering targets is exceptional, leading to high-quality thin films in my solar cell research.

Hanako Sato

4.6

out of

5

KINTEK SOLUTION's sputtering targets are worth every penny, providing great value for money and exceptional results.

Aisha Mohammed

4.9

out of

5

I highly recommend KINTEK SOLUTION's sputtering targets; their durability is unmatched, ensuring long-lasting performance.

Oliver Schmidt

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's technological advancements in sputtering targets have revolutionized my thin-film deposition process.

Maria Rodriguez

4.8

out of

5

The purity and consistency of KINTEK SOLUTION's CdS sputtering targets are impressive, enabling precise control over thin-film properties.

Jackson Kim

4.9

out of

5

KINTEK SOLUTION's commitment to quality is evident in their sputtering targets, leading to superior thin-film deposition outcomes.

Sophia Patel

4.7

out of

5

I appreciate KINTEK SOLUTION's customization options for sputtering targets, allowing me to tailor them to my specific research needs.

Ahmed Hassan

4.8

out of

5

KINTEK SOLUTION's sputtering targets are a game-changer, enabling precise and efficient thin-film deposition in my research.

Isabella Garcia

4.9

out of

5

I'm continually impressed by KINTEK SOLUTION's sputtering targets; their reliability is exceptional.

Ethan Cohen

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's sputtering targets have transformed my thin-film deposition process, resulting in remarkable film quality.

Olivia Jones

4.8

out of

5

The accuracy and precision of KINTEK SOLUTION's sputtering targets are unmatched, enabling precise control over thin-film properties.

Samuel Brown

4.9

out of

5

KINTEK SOLUTION's sputtering targets are a testament to their commitment to innovation and quality.

Aaliyah Khan

4.7

out of

5

I highly recommend KINTEK SOLUTION's sputtering targets; their durability and consistency are exceptional.

Lucas Chen

4.8

out of

5

KINTEK SOLUTION's sputtering targets are a valuable asset to my research, enabling groundbreaking advancements in thin-film technology.

Mia White

4.9

out of

5

I'm thoroughly impressed with KINTEK SOLUTION's sputtering targets; their performance is simply outstanding.

Alexander Kim

PDF of LM-CdS

تنزيل

كتالوج مواد المختبر

تنزيل

كتالوج أهداف الاخرق

تنزيل

كتالوج مواد عالية النقاء

تنزيل

كتالوج مواد ترسب الأغشية الرقيقة

تنزيل

اطلب اقتباس

سيقوم فريقنا المحترف بالرد عليك في غضون يوم عمل واحد. لا تتردد في الاتصال بنا!

المنتجات ذات الصلة

كبريتيد الزنك (ZnS) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

كبريتيد الزنك (ZnS) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد كبريتيد الزنك (ZnS) ميسورة التكلفة لتلبية احتياجات المختبر. نحن ننتج ونخصص مواد ZnS بدرجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة. اختر من بين مجموعة واسعة من أهداف الرش ، ومواد الطلاء ، والمساحيق ، والمزيد.

كبريتيد التنجستن (WS2) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

كبريتيد التنجستن (WS2) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد كبريتيد التنجستن (WS2) لمختبرك؟ نحن نقدم مجموعة من الخيارات القابلة للتخصيص بأسعار رائعة ، بما في ذلك أهداف الرش ومواد الطلاء والمساحيق والمزيد. اطلب الان!

عالية النقاء الكوبالت (Co) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

عالية النقاء الكوبالت (Co) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد Cobalt (Co) بأسعار معقولة للاستخدام في المختبر ، ومصممة خصيصًا لاحتياجاتك الفريدة. يشمل نطاقنا أهداف الرش ، والمساحيق ، والرقائق ، والمزيد. اتصل بنا اليوم للحصول على حلول مخصصة!

كبريتيد القصدير (SnS2) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

كبريتيد القصدير (SnS2) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اعثر على مواد عالية الجودة من كبريتيد القصدير (SnS2) لمختبرك بأسعار معقولة. يقوم خبراؤنا بإنتاج المواد وتخصيصها لتلبية احتياجاتك الخاصة. تحقق من مجموعتنا من أهداف الرش ومواد الطلاء والمساحيق والمزيد.

الكوبالت سيليسيد (CoSi2) الهدف الرشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

الكوبالت سيليسيد (CoSi2) الهدف الرشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

هل تبحث عن مواد Cobalt Silicide ميسورة التكلفة لأبحاثك المختبرية؟ نحن نقدم حلولًا مصممة خصيصًا لأنقى وأشكال وأحجام مختلفة ، بما في ذلك أهداف الرش ، ومواد الطلاء ، والمزيد. اكتشف مجموعتنا الآن!

سبائك الزركونيوم النحاسية (CuZr) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

سبائك الزركونيوم النحاسية (CuZr) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اكتشف مجموعتنا من مواد سبائك الزركونيوم النحاسية بأسعار معقولة ، مصممة وفقًا لمتطلباتك الفريدة. تصفح مجموعتنا المختارة من أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد.

كربيد التنجستن (WC) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

كربيد التنجستن (WC) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

هل تبحث عن مواد ميسورة التكلفة من كربيد التنجستن لمختبرك؟ تأتي منتجاتنا المصممة بخبرة بأشكال وأحجام مختلفة ، من أهداف الرش إلى مساحيق النانومتر. تسوق الآن للحصول على مواد عالية الجودة تناسب احتياجاتك الفريدة.

الزنك سيلينيد (ZnSe) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

الزنك سيلينيد (ZnSe) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد Zinc Selenide (ZnSe) لمختبرك؟ أسعارنا المعقولة وخياراتنا المصممة بخبرة تجعلنا الخيار الأمثل. اكتشف مجموعتنا الواسعة من المواصفات والأحجام اليوم!

الكربون عالي النقاء (C) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

الكربون عالي النقاء (C) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد كربونية (C) ميسورة التكلفة لاحتياجات مختبرك؟ لا مزيد من البحث! تأتي موادنا المُنتجة والمصممة بخبرة في مجموعة متنوعة من الأشكال والأحجام والنقاء. اختر من بين الأهداف المتساقطة ومواد الطلاء والمساحيق والمزيد.

كربيد السيليكون (SiC) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

كربيد السيليكون (SiC) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من كربيد السيليكون (SiC) لمختبرك؟ لا مزيد من البحث! يقوم فريق الخبراء لدينا بإنتاج وتصنيع مواد كربيد السيليكون وفقًا لاحتياجاتك الدقيقة وبأسعار معقولة. تصفح مجموعتنا من أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد اليوم.

نافذة كبريتيد الزنك (ZnS) / لوح ملح

نافذة كبريتيد الزنك (ZnS) / لوح ملح

تتمتع نوافذ Optics Zinc Sulphide (ZnS) بنقل الأشعة تحت الحمراء الممتاز بين 8-14 ميكرون ، وقوة ميكانيكية ممتازة وخمول كيميائي للبيئات القاسية (أصعب من ZnSe Windows)

سبائك نيكل الكوبالت المنغنيز (MnCoNi) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

سبائك نيكل الكوبالت المنغنيز (MnCoNi) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

احصل على مواد سبائك النيكل والكوبالت والمنغنيز عالية الجودة لاحتياجات المختبر بأسعار معقولة. تأتي منتجاتنا المخصصة بأحجام وأشكال مختلفة ، بما في ذلك أهداف الرش ومواد الطلاء والمساحيق وغير ذلك.

السيليكون عالي النقاء (Si) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

السيليكون عالي النقاء (Si) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من السيليكون لمختبرك؟ لا مزيد من البحث! تأتي مواد السيليكون (Si) المُنتجة حسب الطلب لدينا في درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة لتناسب متطلباتك الفريدة. تصفح مجموعتنا المختارة من الأهداف المتساقطة والمساحيق والرقائق والمزيد. اطلب الان!

السيلينيوم عالي النقاء (Se) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

السيلينيوم عالي النقاء (Se) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد السيلينيوم (Se) ميسورة التكلفة للاستخدام المخبري؟ نحن متخصصون في إنتاج وتفصيل المواد بمختلف النقاء والأشكال والأحجام لتناسب متطلباتك الفريدة. اكتشف مجموعتنا من أهداف الرش ومواد الطلاء والمساحيق والمزيد.

سيلينيد الزنك ، ZnSe ، نافذة / ركيزة / عدسة بصرية

سيلينيد الزنك ، ZnSe ، نافذة / ركيزة / عدسة بصرية

يتكون سيلينيد الزنك عن طريق تصنيع بخار الزنك مع غاز H2Se ، مما ينتج عنه رواسب تشبه الصفائح على حساسات الجرافيت.

عالية النقاء الجادولينيوم (Gd) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

عالية النقاء الجادولينيوم (Gd) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اعثر على مواد عالية الجودة من مادة الجادولينيوم (Gd) للاستخدام المعملي وبأسعار معقولة. يصمم خبراؤنا المواد لتناسب احتياجاتك الفريدة مع مجموعة من الأحجام والأشكال المتاحة. تسوق أهداف الاخرق ومواد الطلاء والمزيد اليوم.

لوح سيراميك من كربيد السيليكون (SIC) مسطح / مموج بالوعة الحرارة

لوح سيراميك من كربيد السيليكون (SIC) مسطح / مموج بالوعة الحرارة

لا يولد المشتت الحراري الخزفي من كربيد السيليكون (كذا) موجات كهرومغناطيسية فحسب ، بل يمكنه أيضًا عزل الموجات الكهرومغناطيسية وامتصاص جزء من الموجات الكهرومغناطيسية.

أكسيد السيريوم عالي النقاء (CeO2) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

أكسيد السيريوم عالي النقاء (CeO2) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

مواد عالية الجودة من أكسيد السيريوم (CeO2) للاستخدام المعملي وبأسعار معقولة. أشكال وأحجام قابلة للتخصيص. أهداف الرش والمساحيق ومساحيق الطباعة ثلاثية الأبعاد والمزيد. اطلب الان!

كبريتيد الأنتيمون (Sb2S3) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

كبريتيد الأنتيمون (Sb2S3) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد عالية الجودة من كبريتيد الأنتيمون (Sb2S3) لمختبرك بأسعار معقولة. تشمل منتجاتنا القابلة للتخصيص أهداف الرش والمساحيق والرقائق والمزيد. اطلب الان!

عالية النقاء ثاني أكسيد السيليكون (SiO2) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

عالية النقاء ثاني أكسيد السيليكون (SiO2) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

هل تبحث عن مواد ثاني أكسيد السيليكون لمختبرك؟ تأتي مواد SiO2 المصممة بخبرة في درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة. تصفح مجموعتنا الواسعة من المواصفات اليوم!

إنديوم (II) سيلينيد (InSe) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

إنديوم (II) سيلينيد (InSe) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد سيلينيد Indium (II) عالية الجودة لمختبرك وبأسعار معقولة؟ تأتي منتجات InSe المصممة والقابلة للتخصيص لدينا في درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة لتناسب احتياجاتك الفريدة. اختر من بين مجموعة من أهداف الرش ، ومواد الطلاء ، والمساحيق ، والمزيد.

عالية النقاء البلاديوم (Pd) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

عالية النقاء البلاديوم (Pd) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد بلاديوم ميسورة التكلفة لمختبرك؟ نحن نقدم حلولًا مخصصة بنقاوة وأشكال وأحجام مختلفة - من أهداف الرش إلى مساحيق نانومتر ومساحيق الطباعة ثلاثية الأبعاد. تصفح مجموعتنا الآن!

سيلينيد الإنديوم (In2Se3) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

سيلينيد الإنديوم (In2Se3) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اعثر على مواد Indium Selenide (In2Se3) ذات درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة لاحتياجات معملك. يشمل نطاقنا أهداف الرش والطلاء والجزيئات والمزيد بأسعار معقولة. اطلب الان!

السيريوم عالي النقاء (Ce) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

السيريوم عالي النقاء (Ce) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من السيريوم لمختبرك؟ تكمن خبرتنا في إنتاج وتفصيل مواد مختلفة النقاء والأشكال والأحجام لتناسب متطلباتك الفريدة. نحن نقدم مجموعة من المواصفات والأحجام ، بما في ذلك أهداف الرش ومواد الطلاء والمساحيق والمزيد ، وكل ذلك بأسعار معقولة.

الركيزة CaF2 / النافذة / العدسة

الركيزة CaF2 / النافذة / العدسة

نافذة CaF2 هي نافذة بصرية مصنوعة من فلوريد الكالسيوم البلوري. هذه النوافذ متعددة الاستخدامات ومستقرة بيئيًا ومقاومة لتلف الليزر ، كما أنها تعرض انتقالًا عاليًا ومستقرًا من 200 نانومتر إلى حوالي 7 ميكرومتر.

CVD Diamond للإدارة الحرارية

CVD Diamond للإدارة الحرارية

ألماس CVD للإدارة الحرارية: ألماس عالي الجودة مع موصلية حرارية تصل إلى 2000 واط/م ك، مثالي لموزعات الحرارة، وثنائيات الليزر، وتطبيقات GaN على الماس (GOD).