معرفة كم عدد أنواع الرش هناك؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوعين

كم عدد أنواع الرش هناك؟

هناك عدة أنواع من تقنيات الاخرق، وأكثرها شيوعًا هي تقنية الاخرق المغنطروني بالتيار المباشر (DC) وتقنية الاخرق التفاعلي. لكل تقنية خصائص ومزايا فريدة من نوعها.

رش المغنطرون المغنطروني بالتيار المباشر (DC):

في هذه الطريقة، يتم استخدام مصدر طاقة تيار مباشر لتوليد بلازما في بيئة غازية منخفضة الضغط. يتم إنشاء البلازما بالقرب من مادة مستهدفة، عادةً ما تكون مصنوعة من المعدن أو السيراميك، والتي سيتم رشها. تتسبب البلازما في تصادم أيونات الغاز مع الهدف، مما يؤدي إلى إزاحة الذرات من السطح وقذفها إلى المرحلة الغازية. ويساعد المجال المغناطيسي الناتج عن مجموعة المغناطيس على زيادة معدل الرش بالمغناطيس ويضمن ترسيباً أكثر اتساقاً للمادة المرشوشة على الركيزة. يمكن حساب معدل الاخرق باستخدام معادلة محددة تأخذ في الاعتبار عوامل مثل كثافة تدفق الأيونات، وعدد ذرات الهدف لكل وحدة حجم، والوزن الذري للمادة المستهدفة، وغير ذلك.الاخرق التفاعلي:

تنطوي هذه العملية على الجمع بين غاز غير خامل، مثل الأكسجين، ومادة مستهدفة عنصرية، مثل السيليكون. يتفاعل الغاز كيميائياً مع ذرات الرذاذ داخل الغرفة، مما يولد مركباً جديداً يعمل كمادة طلاء بدلاً من المادة المستهدفة النقية الأصلية. وهذه التقنية مفيدة بشكل خاص لإنشاء مركبات كيميائية محددة في عملية الترسيب.

باختصار، في حين أن هناك العديد من المتغيرات في تقنيات الرش بالمغناطيسية، فإن الأنواع الأساسية التي تمت مناقشتها هنا هي الرش المغنطروني بالتيار المستمر والرش التفاعلي. كل طريقة مصممة خصيصًا لتطبيقات ومواد محددة، مما يوفر تحكمًا دقيقًا في عملية الترسيب لمختلف الأغراض الصناعية والعلمية.

المنتجات ذات الصلة

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

اكتشف مزايا أفران التلبيد بالبلازما الشرارة لتحضير المواد بسرعة وبدرجة حرارة منخفضة. تسخين موحد ومنخفض التكلفة وصديق للبيئة.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.

الألومنيوم عالي النقاء (Al) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

الألومنيوم عالي النقاء (Al) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد الألمنيوم (Al) عالية الجودة للاستخدام المخبري وبأسعار معقولة. نحن نقدم حلولًا مخصصة بما في ذلك أهداف الرش ، والمساحيق ، والرقائق ، والسبائك والمزيد لتلبية احتياجاتك الفريدة. اطلب الان!

الأنتيمون عالي النقاء (Sb) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

الأنتيمون عالي النقاء (Sb) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد عالية الجودة من الأنتيمون (Sb) مصممة وفقًا لاحتياجاتك الخاصة. نقدم مجموعة كبيرة من الأشكال والأحجام بأسعار مناسبة. تصفح أهدافنا المتساقطة والمساحيق والرقائق والمزيد.

سبائك التنغستن التيتانيوم (WTi) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

سبائك التنغستن التيتانيوم (WTi) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اكتشف مواد سبائك التنغستن التيتانيوم (WTi) للاستخدام المعملي بأسعار معقولة. تسمح لنا خبرتنا بإنتاج مواد مخصصة من درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة. اختر من بين مجموعة كبيرة من الأهداف المتساقطة والمساحيق والمزيد.

عالية النقاء التيلوريوم (تي) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

عالية النقاء التيلوريوم (تي) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

اكتشف مجموعتنا من مواد التيلوريوم (تي) عالية الجودة للاستخدام المعملي وبأسعار معقولة. ينتج فريق الخبراء لدينا أحجامًا ونقاوة مخصصة لتناسب احتياجاتك الفريدة. تسوق الأهداف المتساقطة والمساحيق والسبائك والمزيد.

الإلكترون شعاع بوتقة

الإلكترون شعاع بوتقة

في سياق تبخر حزمة الإلكترون ، البوتقة عبارة عن حاوية أو حامل مصدر يستخدم لاحتواء وتبخير المادة المراد ترسيبها على الركيزة.

كربيد البورون (BC) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

كربيد البورون (BC) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد كربيد البورون عالية الجودة بأسعار معقولة لاحتياجات معملك. نقوم بتخصيص مواد BC من درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة ، بما في ذلك أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد.

سبائك الزركونيوم النحاسية (CuZr) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

سبائك الزركونيوم النحاسية (CuZr) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اكتشف مجموعتنا من مواد سبائك الزركونيوم النحاسية بأسعار معقولة ، مصممة وفقًا لمتطلباتك الفريدة. تصفح مجموعتنا المختارة من أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد.

سبائك التيتانيوم السيليكون (TiSi) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

سبائك التيتانيوم السيليكون (TiSi) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اكتشف مواد سبائك التيتانيوم السليكونية (TiSi) ذات الأسعار المعقولة للاستخدام المعملي. يوفر إنتاجنا المخصص درجات نقاء وأشكال وأحجام متنوعة لأهداف الرش والطلاء والمساحيق وغير ذلك. اعثر على التطابق المثالي لاحتياجاتك الفريدة.

عالية النقاء الكوبالت (Co) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

عالية النقاء الكوبالت (Co) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد Cobalt (Co) بأسعار معقولة للاستخدام في المختبر ، ومصممة خصيصًا لاحتياجاتك الفريدة. يشمل نطاقنا أهداف الرش ، والمساحيق ، والرقائق ، والمزيد. اتصل بنا اليوم للحصول على حلول مخصصة!

عالية النقاء البلاتين (نقطة) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

عالية النقاء البلاتين (نقطة) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

أهداف رش البلاتين عالية النقاء (Pt) ومساحيق وأسلاك وكتل وحبيبات بأسعار معقولة. تم تصميمه وفقًا لاحتياجاتك الخاصة بأحجام وأشكال متنوعة متاحة للتطبيقات المختلفة.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.


اترك رسالتك