التفلور بالأشعة السينية (XRF) والتحليل الطيفي هما تقنيتان تحليليتان مرتبطتان ولكنهما مختلفتان. يشير XRF على وجه التحديد إلى طريقة يتم فيها تحليل المواد عن طريق قياس الإشعاع المنبعث عند قصفها بالأشعة السينية. وفي المقابل، فإن التحليل الطيفي هو مصطلح أوسع نطاقاً يشمل طرقاً مختلفة لتحليل المواد من خلال دراسة تفاعلها مع الطاقة المشعة، والتي يمكن أن تشمل الضوء أو الصوت أو أشكال أخرى من الإشعاع.
التفلور بالأشعة السينية (XRF):
XRF هي تقنية تستخدم لتحديد التركيب العنصري للمواد. وهي تنطوي على قصف عينة بالأشعة السينية، مما يؤدي إلى استثارة الذرات في العينة. عندما تتجاوز موجة الأشعة السينية طاقة الارتباط للغلاف الإلكتروني الداخلي، ينزاح إلكترون ويخرج. ثم تستقر الذرة بعد ذلك عن طريق ملء هذا الفراغ بإلكترون من غلاف مداري ذي طاقة أعلى، مما يؤدي إلى إطلاق أشعة سينية فلورية في هذه العملية. تتوافق طاقة هذه الأشعة السينية الفلورية مع الفرق في مستويات الطاقة بين الغلاف الإلكتروني الأصلي والجديد، وينتج كل عنصر طيفًا فريدًا من هذه الأشعة السينية، مما يسمح بتحديد العناصر الموجودة في العينة. يمكن إجراء التفلور الراديوي بالأشعة السينية باستخدام مطياف التشتت الطاقوي (ED-XRF) أو مطياف التشتت الطولي للأشعة السينية (WD-XRF)، حيث يوفر الأخير دقة أعلى ولكنه أكثر تعقيداً وتكلفة.التحليل الطيفي:
وعلى النقيض من ذلك، فإن التحليل الطيفي هو مصطلح أكثر عمومية يشمل أي تقنية تُستخدم لمراقبة استجابة من مادة ما عندما تتفاعل مع إشعاع ساقط. ويمكن أن يؤدي هذا التفاعل إلى امتصاص أو انبعاث أو تشتت الإشعاع، ويمكن أن يوفر الطيف الناتج معلومات حول تركيب المادة وبنيتها وخصائصها الأخرى. يمكن أن تستخدم تقنيات التحليل الطيفي أنواعًا مختلفة من الإشعاع، بما في ذلك الضوء المرئي والأشعة تحت الحمراء والأشعة فوق البنفسجية والأشعة السينية وغيرها، اعتمادًا على التطبيق المحدد والمعلومات المطلوبة.
الفرق:
