مواد المختبر
أكسيد الفاناديوم عالي النقاء (V2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة
رقم العنصر : LM-V2O3
السعر يتغير بناءً على المواصفات والتخصيصات
- صيغة كيميائية
- V2O3
- نقاء
- 4N
- شكل
الشحن:
اتصل بنا للحصول على تفاصيل الشحن استمتع ضمان التسليم في الموعد المحدد.
اطلب عرض السعر المخصص الخاص بك 👋
احصل على عرض أسعارك الآن! ترك رسالة الحصول على الاقتباس السريع Via الدردشة عبر الإنترنتبأسعار معقولة ، نقدم مواد أكسيد الفاناديوم (V2O3) للاستخدام المعملي. تتمثل خبرتنا في إنتاج مواد أكسيد الفاناديوم (V2O3) وتخصيصها بدرجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة لتلبية احتياجاتك الخاصة.
نحن نقدم مجموعة متنوعة من المواصفات والأحجام لأنواع مختلفة من أهداف الرش (دائرية ، مربعة ، أنبوبية ، غير منتظمة) ، مواد الطلاء ، الأسطوانات ، المخاريط ، الجسيمات ، الرقائق ، المساحيق ، مساحيق الطباعة ثلاثية الأبعاد ، مساحيق نانومتر ، قضبان الأسلاك ، السبائك ، وكتل ، من بين أمور أخرى.
تفاصيل
حول أكسيد الفاناديوم (V2O3)
أكسيد الفاناديوم (III) (Vanadium Sesquioxide) هو شكل من أشكال أكسيد الفاناديوم مناسب لتطبيقات مختلفة في الزجاج والبصريات والسيراميك. في حين أن مركبات الأكسيد ليست موصلة للكهرباء بشكل عام ، فإن بعض أكاسيد البيروفسكايت المركبة موصلة إلكترونيًا وتستخدم في كاثود خلايا وقود الأكسيد الصلب وأنظمة توليد الأكسجين.
تحتوي مركبات الأكسيد عادةً على أنيون أكسجين واحد على الأقل وكاتيون معدني واحد. إنها غير قابلة للذوبان في المحاليل المائية ومستقرة للغاية ، مما يجعلها مفيدة في مجموعة من التطبيقات من إنتاج الأوعية الفخارية إلى الإلكترونيات المتقدمة والمكونات الهيكلية خفيفة الوزن في الفضاء والأنظمة الكهروكيميائية مثل خلايا الوقود ، حيث تظهر الموصلية الأيونية.
مركبات أكسيد المعادن هي أنهيدريدات أساسية ويمكن أن تتفاعل مع الأحماض وعوامل الاختزال القوية في تفاعلات الأكسدة والاختزال. يتوفر أكسيد الفاناديوم بشكل عام في معظم الأحجام ، ويمكن أيضًا النظر في أشكال عالية النقاء وشبه الميكرون والنانو مسحوق.
مراقبة جودة المكونات
- تحليل تكوين المواد الخام
- من خلال استخدام معدات مثل ICP و GDMS ، يتم الكشف عن محتوى الشوائب المعدنية وتحليلها للتأكد من أنها تلبي معيار النقاء ؛
يتم الكشف عن الشوائب غير المعدنية بواسطة معدات مثل أجهزة تحليل الكربون والكبريت وأجهزة تحليل النيتروجين والأكسجين. - تحليل الكشف عن الخلل المعدني
- يتم فحص المواد المستهدفة باستخدام معدات الكشف عن الخلل للتأكد من عدم وجود عيوب أو ثقوب انكماش داخل المنتج ؛
من خلال اختبار علم المعادن ، يتم تحليل بنية الحبيبات الداخلية للمادة المستهدفة للتأكد من أن الحبوب دقيقة وكثيفة. - فحص المظهر والأبعاد
- يتم قياس أبعاد المنتج باستخدام ميكرومتر وفرجار دقيق لضمان الامتثال للرسومات ؛
يتم قياس تشطيب السطح ونظافة المنتج باستخدام مقياس نظافة السطح.
أحجام الأهداف التقليدية الاخرق
- عملية التحضير
- الضغط المتساوي الساكن الساخن ، ذوبان الفراغ ، إلخ.
- الاخرق شكل الهدف
- هدف رشاش مستوي ، هدف رش متعدد القوس ، هدف رشاش متدرج ، هدف رشاش على شكل خاص
- حجم الهدف الاخرق جولة
- القطر: 25.4 ملم / 50 ملم / 50.8 ملم / 60 ملم / 76.2 ملم / 80 ملم / 100 ملم / 101.6 ملم / 152.4 ملم
السماكة: 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
يمكن تخصيص الحجم. - حجم الهدف الاخرق المربع
- 50 × 50 × 3 مم / 100 × 100 × 4 مم / 300 × 300 × 5 مم ، يمكن تخصيص الحجم
الأشكال المعدنية المتوفرة
تفاصيل النماذج المعدنية
نقوم بتصنيع جميع المعادن المدرجة في الجدول الدوري تقريبًا في مجموعة واسعة من الأشكال والنقاء ، بالإضافة إلى الأحجام والأبعاد القياسية. يمكننا أيضًا إنتاج منتجات حسب الطلب لتلبية متطلبات العملاء المحددة ، مثل الحجم والشكل ومساحة السطح والتركيب والمزيد. توفر القائمة التالية عينة من النماذج التي نقدمها ، ولكنها ليست شاملة. إذا كنت بحاجة إلى مواد مستهلكة للمختبر ، فيرجى الاتصال بنا مباشرة لطلب عرض أسعار.
- الأشكال المسطحة / المستوية: لوح ، فيلم ، رقائق معدنية ، ميكروفويل ، ورقة دقيقة ، ورق ، لوح ، شريط ، ورقة ، شريط ، شريط ، رقاقة
- الأشكال مسبقة التشكيل: الأنودات ، الكرات ، العصابات ، القضبان ، القوارب ، البراغي ، القوالب ، الكاثودات ، الدوائر ، الملفات ، البوتقات ، البلورات ، المكعبات ، الكؤوس ، الأسطوانات ، الأقراص ، الأقطاب الكهربائية ، الألياف ، الشعيرات ، الشفاه ، الشبكات ، العدسات ، المغزل ، المكسرات الأجزاء ، المنشورات ، كرات الصولجان ، الحلقات ، القضبان ، الأشكال ، الدروع ، الأكمام ، الينابيع ، المربعات ، أهداف الرش ، العصي ، الأنابيب ، الغسالات ، النوافذ ، الأسلاك
- الأحجام الدقيقة: الخرز ، القطع ، الكبسولات ، الرقائق ، العملات المعدنية ، الغبار ، الرقائق ، الحبوب ، الحبيبات ، المسحوق الدقيق ، الإبر ، الجسيمات ، الحصى ، الكريات ، الدبابيس ، الحبوب ، البودرة ، الحلاقة ، الرصاص ، الرخويات ، الكرات ، الأقراص
- أحجام كبيرة: كتل ، قطع ، قصاصات ، شظايا ، سبائك ، كتل ، شذرات ، قطع ، تثقيب ، صخور ، قصاصات ، شرائح ، خراطة
- مسامية وشبه مسامية: قماش ، رغوة ، شاش ، قرص العسل ، شبكة ، إسفنج ، صوف
- المقياس النانوي: الجسيمات النانوية ، المساحيق النانوية ، الأنابيب النانوية ، الأنابيب النانوية ، الأذرع النانوية ، التنظير النانوي
- أخرى: تركيز ، حبر ، معجون ، راسب ، بقايا ، عينات ، عينات
KinTek متخصصة في تصنيع مواد عالية النقاء وعالية النقاء بنطاق نقاوة 99.999٪ (5N) ، 99.9999٪ (6N) ، 99.99995٪ (6N5) ، وفي بعض الحالات ، تصل إلى 99.99999٪ (7N) ). تتوفر موادنا بدرجات محددة ، بما في ذلك درجات UP / UHP وأشباه الموصلات والإلكترونية والترسب والألياف الضوئية ودرجات MBE. صُنعت معادننا وأكاسيدنا ومركباتنا عالية النقاء خصيصًا لتلبية المتطلبات الصارمة لتطبيقات التكنولوجيا العالية ، وهي مثالية للاستخدام كمشبات ومواد أولية لترسيب الأغشية الرقيقة ، والنمو البلوري لأشباه الموصلات ، وتوليف المواد النانوية. تستخدم هذه المواد في الإلكترونيات الدقيقة المتقدمة والخلايا الشمسية وخلايا الوقود والمواد البصرية والتطبيقات المتطورة الأخرى.
التعبئة والتغليف
نستخدم عبوات مفرغة الهواء لموادنا عالية النقاء ، ولكل مادة تغليف خاص مصمم خصيصًا لخصائصها الفريدة. على سبيل المثال ، يتم تمييز هدف Hf sputter الخاص بنا خارجيًا وتوسيمه لتسهيل التحديد الفعال ومراقبة الجودة. نحن نحرص بشدة على منع أي ضرر قد يحدث أثناء التخزين أو النقل.
4.9
out of
5
KinTek's Vanadium Oxide (V2O3) Sputtering Target is a lifesaver. It's so pure and consistent that it's made our thin film deposition process so much easier.
4.8
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for years, and they've never let me down. The quality is always top-notch, and the prices are unbeatable.
4.7
out of
5
KinTek's Vanadium Oxide (V2O3) Sputtering Target is the best I've ever used. It's so easy to work with, and the results are always amazing.
4.9
out of
5
I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.
4.8
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.
4.7
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.
4.9
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.
4.8
out of
5
I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.
4.7
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.
4.9
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.
4.8
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.
4.7
out of
5
I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.
4.9
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.
4.8
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.
4.7
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.
4.9
out of
5
I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.
4.8
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.
4.7
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.
4.9
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.
PDF - أكسيد الفاناديوم عالي النقاء (V2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة
disabled = false, 3000)"> تنزيلكتالوج مواد المختبر
disabled = false, 3000)"> تنزيلاطلب اقتباس
سيقوم فريقنا المحترف بالرد عليك في غضون يوم عمل واحد. لا تتردد في الاتصال بنا!
المنتجات ذات الصلة
الفاناديوم عالي النقاء (V) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة
هل تبحث عن مواد عالية الجودة من الفاناديوم (V) لمختبرك؟ نحن نقدم مجموعة واسعة من الخيارات القابلة للتخصيص لتناسب احتياجاتك الفريدة ، بما في ذلك أهداف الرش ، والمساحيق ، والمزيد. اتصل بنا اليوم للحصول على أسعار تنافسية.
أكسيد التنغستن عالي النقاء (WO3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة
هل تبحث عن مواد عالية الجودة من أكسيد التنجستن (WO3)؟ تم تصميم منتجاتنا من فئة المعامل وفقًا لاحتياجاتك الخاصة ، مع توفر مجموعة من النقاوة والأشكال والأحجام. تسوق أهداف الاخرق ومواد الطلاء والمزيد.
أكسيد الكروم عالي النقاء (Cr2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات
هل تبحث عن مواد عالية الجودة من أكسيد الكروم لمختبرك؟ تشمل مجموعتنا أهداف الرش ، والمساحيق ، والرقائق ، والمزيد ، المخصصة لاحتياجاتك. تسوق الآن للحصول على أسعار معقولة.
أكسيد الموليبدينوم عالي النقاء (MoO3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة
هل تبحث عن مواد عالية الجودة من أكسيد الموليبدينوم (MoO3) لاحتياجات المختبر؟ تقدم شركتنا حلولًا مصممة خصيصًا بأسعار معقولة. نحن نقدم مجموعة واسعة من أهداف الرش ، ومواد الطلاء ، والمساحيق ، وأكثر من ذلك. اتصل بنا اليوم!
أكسيد التنتالوم عالي النقاء (Ta2O5) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة
اعثر على مواد عالية الجودة من أكسيد التنتالوم (Ta2O5) لاحتياجات المختبر بأسعار معقولة. يمكن لخبرائنا تصميم مواد ذات درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة لتلبية متطلباتك الخاصة. تحقق من مجموعتنا من أهداف الرش ومواد الطلاء والمساحيق والمزيد.
أكسيد الزنك عالي النقاء (ZnO) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة
اعثر على مواد عالية الجودة من أكسيد الزنك (ZnO) لاحتياجات المختبر بأسعار رائعة. ينتج فريق الخبراء لدينا مواد مخصصة بأشكال ونقاء وأحجام مختلفة ، بما في ذلك أهداف الرش ، ومواد الطلاء ، والمساحيق ، وغير ذلك. تسوق الآن!
أكسيد الألومنيوم عالي النقاء (Al2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة
هل تبحث عن مواد من أكسيد الألومنيوم لمختبرك؟ نحن نقدم منتجات Al2O3 عالية الجودة بأسعار معقولة بأشكال وأحجام قابلة للتخصيص لتلبية احتياجاتك الخاصة. اعثر على الأهداف المتساقطة ومواد الطلاء والمساحيق والمزيد.
أكسيد الحديد عالي النقاء (Fe3O4) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات
احصل على مواد من أكسيد الحديد (Fe3O4) بأنقى وأشكال وأحجام مختلفة للاستخدام المعملي. تشمل مجموعتنا أهداف الرش ومواد الطلاء والمساحيق وقضبان الأسلاك والمزيد. اتصل بنا الآن.
أكسيد البزموت عالي النقاء (Bi2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة
احصل على مواد عالية الجودة من أكسيد البزموت (Bi2O3) للاستخدام المعملي وبأسعار معقولة. اختر من بين مجموعة كبيرة من الأحجام والأشكال لتناسب احتياجاتك الفريدة. اطلب الان!
الماس المغطى بالبورون CVD: مادة متعددة الاستخدامات تتيح التوصيل الكهربائي المخصص والشفافية البصرية والخصائص الحرارية الاستثنائية للتطبيقات في مجال الإلكترونيات والبصريات والاستشعار وتقنيات الكم.
أكسيد الزركونيوم عالي النقاء (ZrO2) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة
احصل على مواد عالية الجودة من أكسيد الزركونيوم (ZrO2) مصممة خصيصًا لتلبية احتياجاتك. نحن نقدم مجموعة متنوعة من الأشكال والأحجام ، بما في ذلك أهداف الرش ، والمساحيق ، وأكثر من ذلك ، بأسعار معقولة.
ثاني أكسيد الإيريديوم IrO2 للتحليل الكهربائي للماء
ثاني أكسيد الإيريديوم ، الذي تكون شبكته البلورية عبارة عن هيكل روتيل. يمكن استخدام ثاني أكسيد الإيريديوم وأكاسيد المعادن النادرة الأخرى في أقطاب الأنود للتحليل الكهربائي الصناعي والأقطاب الكهربائية الدقيقة لأبحاث الفيزيولوجيا الكهربية.
عالية النقاء ثاني أكسيد السيليكون (SiO2) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات
هل تبحث عن مواد ثاني أكسيد السيليكون لمختبرك؟ تأتي مواد SiO2 المصممة بخبرة في درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة. تصفح مجموعتنا الواسعة من المواصفات اليوم!
طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية
لوحة الكربون الجرافيت - متوازنة
يتم ضغط الجرافيت الكربوني المتساوي الساكن من الجرافيت عالي النقاء. إنها مادة ممتازة لتصنيع فوهات الصواريخ ومواد التباطؤ والمواد العاكسة لمفاعل الجرافيت.
المقالات ذات الصلة
أهداف الاخرق بالطباعة بالانبعاث الفوتوفولطاضي، والضغط المتساوي الحرارة: الجزء 1
يستكشف استخدام الكبس المتساوي الاستاتيكي الساخن في إنتاج أهداف رشاش عالية الجودة وتطبيقات تقنية الرش بالانبعاثات البفطاضية المتساوية.
أهداف الاخرق بالطباعة بالانبعاث الفوتوفولطاضي، والضغط المتساوي الحرارة: الجزء 2
تناقش هذه المقالة تصنيع أهداف الرش بالانبثاق الضوئي بالطباعة بالانبعاثات الكهروضوئية وتحسينها، مع التركيز على تقنيات مثل الكبس المتساوي الحرارة الساخن والمعالجة الحرارية عالية الضغط.