المنتجات المواد الاستهلاكية والمواد المعملية مواد المختبر High Purity Vanadium Oxide (V2O3) Sputtering Target / Powder / Wire / Block / Granule
تبديل الفئات
أكسيد الفاناديوم عالي النقاء (V2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

مواد المختبر

أكسيد الفاناديوم عالي النقاء (V2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

رقم العنصر : LM-V2O3

السعر يتغير بناءً على specs and customizations


صيغة كيميائية
V2O3
نقاء
4N
شكل
ISO & CE icon

الشحن:

اتصل بنا للحصول على تفاصيل الشحن استمتع On-time Dispatch Guarantee.

بأسعار معقولة ، نقدم مواد أكسيد الفاناديوم (V2O3) للاستخدام المعملي. تتمثل خبرتنا في إنتاج مواد أكسيد الفاناديوم (V2O3) وتخصيصها بدرجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة لتلبية احتياجاتك الخاصة.

نحن نقدم مجموعة متنوعة من المواصفات والأحجام لأنواع مختلفة من أهداف الرش (دائرية ، مربعة ، أنبوبية ، غير منتظمة) ، مواد الطلاء ، الأسطوانات ، المخاريط ، الجسيمات ، الرقائق ، المساحيق ، مساحيق الطباعة ثلاثية الأبعاد ، مساحيق نانومتر ، قضبان الأسلاك ، السبائك ، وكتل ، من بين أمور أخرى.

تفاصيل

أكسيد الفاناديوم (V2O3) الهدف الرش
أكسيد الفاناديوم (V2O3) الهدف الرش

حول أكسيد الفاناديوم (V2O3)

أكسيد الفاناديوم (III) (Vanadium Sesquioxide) هو شكل من أشكال أكسيد الفاناديوم مناسب لتطبيقات مختلفة في الزجاج والبصريات والسيراميك. في حين أن مركبات الأكسيد ليست موصلة للكهرباء بشكل عام ، فإن بعض أكاسيد البيروفسكايت المركبة موصلة إلكترونيًا وتستخدم في كاثود خلايا وقود الأكسيد الصلب وأنظمة توليد الأكسجين.

تحتوي مركبات الأكسيد عادةً على أنيون أكسجين واحد على الأقل وكاتيون معدني واحد. إنها غير قابلة للذوبان في المحاليل المائية ومستقرة للغاية ، مما يجعلها مفيدة في مجموعة من التطبيقات من إنتاج الأوعية الفخارية إلى الإلكترونيات المتقدمة والمكونات الهيكلية خفيفة الوزن في الفضاء والأنظمة الكهروكيميائية مثل خلايا الوقود ، حيث تظهر الموصلية الأيونية.

مركبات أكسيد المعادن هي أنهيدريدات أساسية ويمكن أن تتفاعل مع الأحماض وعوامل الاختزال القوية في تفاعلات الأكسدة والاختزال. يتوفر أكسيد الفاناديوم بشكل عام في معظم الأحجام ، ويمكن أيضًا النظر في أشكال عالية النقاء وشبه الميكرون والنانو مسحوق.

مراقبة جودة المكونات

تحليل تكوين المواد الخام
من خلال استخدام معدات مثل ICP و GDMS ، يتم الكشف عن محتوى الشوائب المعدنية وتحليلها للتأكد من أنها تلبي معيار النقاء ؛

يتم الكشف عن الشوائب غير المعدنية بواسطة معدات مثل أجهزة تحليل الكربون والكبريت وأجهزة تحليل النيتروجين والأكسجين.
تحليل الكشف عن الخلل المعدني
يتم فحص المواد المستهدفة باستخدام معدات الكشف عن الخلل للتأكد من عدم وجود عيوب أو ثقوب انكماش داخل المنتج ؛

من خلال اختبار علم المعادن ، يتم تحليل بنية الحبيبات الداخلية للمادة المستهدفة للتأكد من أن الحبوب دقيقة وكثيفة.
فحص المظهر والأبعاد
يتم قياس أبعاد المنتج باستخدام ميكرومتر وفرجار دقيق لضمان الامتثال للرسومات ؛

يتم قياس تشطيب السطح ونظافة المنتج باستخدام مقياس نظافة السطح.

أحجام الأهداف التقليدية الاخرق

عملية التحضير
الضغط المتساوي الساكن الساخن ، ذوبان الفراغ ، إلخ.
الاخرق شكل الهدف
هدف رشاش مستوي ، هدف رش متعدد القوس ، هدف رشاش متدرج ، هدف رشاش على شكل خاص
حجم الهدف الاخرق جولة
القطر: 25.4 ملم / 50 ملم / 50.8 ملم / 60 ملم / 76.2 ملم / 80 ملم / 100 ملم / 101.6 ملم / 152.4 ملم
السماكة: 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
يمكن تخصيص الحجم.
حجم الهدف الاخرق المربع
50 × 50 × 3 مم / 100 × 100 × 4 مم / 300 × 300 × 5 مم ، يمكن تخصيص الحجم

الأشكال المعدنية المتوفرة

تفاصيل النماذج المعدنية

نقوم بتصنيع جميع المعادن المدرجة في الجدول الدوري تقريبًا في مجموعة واسعة من الأشكال والنقاء ، بالإضافة إلى الأحجام والأبعاد القياسية. يمكننا أيضًا إنتاج منتجات حسب الطلب لتلبية متطلبات العملاء المحددة ، مثل الحجم والشكل ومساحة السطح والتركيب والمزيد. توفر القائمة التالية عينة من النماذج التي نقدمها ، ولكنها ليست شاملة. إذا كنت بحاجة إلى مواد مستهلكة للمختبر ، فيرجى الاتصال بنا مباشرة لطلب عرض أسعار.

  • الأشكال المسطحة / المستوية: لوح ، فيلم ، رقائق معدنية ، ميكروفويل ، ورقة دقيقة ، ورق ، لوح ، شريط ، ورقة ، شريط ، شريط ، رقاقة
  • الأشكال مسبقة التشكيل: الأنودات ، الكرات ، العصابات ، القضبان ، القوارب ، البراغي ، القوالب ، الكاثودات ، الدوائر ، الملفات ، البوتقات ، البلورات ، المكعبات ، الكؤوس ، الأسطوانات ، الأقراص ، الأقطاب الكهربائية ، الألياف ، الشعيرات ، الشفاه ، الشبكات ، العدسات ، المغزل ، المكسرات الأجزاء ، المنشورات ، كرات الصولجان ، الحلقات ، القضبان ، الأشكال ، الدروع ، الأكمام ، الينابيع ، المربعات ، أهداف الرش ، العصي ، الأنابيب ، الغسالات ، النوافذ ، الأسلاك
  • الأحجام الدقيقة: الخرز ، القطع ، الكبسولات ، الرقائق ، العملات المعدنية ، الغبار ، الرقائق ، الحبوب ، الحبيبات ، المسحوق الدقيق ، الإبر ، الجسيمات ، الحصى ، الكريات ، الدبابيس ، الحبوب ، البودرة ، الحلاقة ، الرصاص ، الرخويات ، الكرات ، الأقراص
  • أحجام كبيرة: كتل ، قطع ، قصاصات ، شظايا ، سبائك ، كتل ، شذرات ، قطع ، تثقيب ، صخور ، قصاصات ، شرائح ، خراطة
  • مسامية وشبه مسامية: قماش ، رغوة ، شاش ، قرص العسل ، شبكة ، إسفنج ، صوف
  • المقياس النانوي: الجسيمات النانوية ، المساحيق النانوية ، الأنابيب النانوية ، الأنابيب النانوية ، الأذرع النانوية ، التنظير النانوي
  • أخرى: تركيز ، حبر ، معجون ، راسب ، بقايا ، عينات ، عينات

KinTek متخصصة في تصنيع مواد عالية النقاء وعالية النقاء بنطاق نقاوة 99.999٪ (5N) ، 99.9999٪ (6N) ، 99.99995٪ (6N5) ، وفي بعض الحالات ، تصل إلى 99.99999٪ (7N) ). تتوفر موادنا بدرجات محددة ، بما في ذلك درجات UP / UHP وأشباه الموصلات والإلكترونية والترسب والألياف الضوئية ودرجات MBE. صُنعت معادننا وأكاسيدنا ومركباتنا عالية النقاء خصيصًا لتلبية المتطلبات الصارمة لتطبيقات التكنولوجيا العالية ، وهي مثالية للاستخدام كمشبات ومواد أولية لترسيب الأغشية الرقيقة ، والنمو البلوري لأشباه الموصلات ، وتوليف المواد النانوية. تستخدم هذه المواد في الإلكترونيات الدقيقة المتقدمة والخلايا الشمسية وخلايا الوقود والمواد البصرية والتطبيقات المتطورة الأخرى.

التعبئة والتغليف

نستخدم عبوات مفرغة الهواء لموادنا عالية النقاء ، ولكل مادة تغليف خاص مصمم خصيصًا لخصائصها الفريدة. على سبيل المثال ، يتم تمييز هدف Hf sputter الخاص بنا خارجيًا وتوسيمه لتسهيل التحديد الفعال ومراقبة الجودة. نحن نحرص بشدة على منع أي ضرر قد يحدث أثناء التخزين أو النقل.

FAQ

ما هو ترسيب البخار الفيزيائي (PVD)؟

الترسيب الفيزيائي للبخار (PVD) هو تقنية لترسيب الأغشية الرقيقة عن طريق تبخير مادة صلبة في فراغ ثم ترسيبها على ركيزة. تتميز طلاءات PVD بأنها متينة للغاية ومقاومة للخدش ومقاومة للتآكل ، مما يجعلها مثالية لمجموعة متنوعة من التطبيقات ، من الخلايا الشمسية إلى أشباه الموصلات. ينتج PVD أيضًا أغشية رقيقة يمكنها تحمل درجات الحرارة العالية. ومع ذلك ، يمكن أن يكون PVD مكلفًا ، وتختلف التكلفة اعتمادًا على الطريقة المستخدمة. على سبيل المثال ، يعد التبخر طريقة PVD منخفضة التكلفة ، بينما يعد رش شعاع الأيونات مكلفًا إلى حد ما. من ناحية أخرى ، يعد رش المغنطرون أكثر تكلفة ولكنه أكثر قابلية للتطوير.

ما هو الهدف الاخرق؟

هدف الرش هو مادة مستخدمة في عملية ترسيب الرذاذ ، والتي تتضمن تفتيت المادة المستهدفة إلى جزيئات صغيرة تشكل رذاذًا وتغطي ركيزة ، مثل رقاقة السيليكون. عادةً ما تكون أهداف الرش عبارة عن عناصر معدنية أو سبائك ، على الرغم من توفر بعض الأهداف الخزفية. تأتي في مجموعة متنوعة من الأحجام والأشكال ، مع قيام بعض الشركات المصنعة بإنشاء أهداف مجزأة لمعدات الرش الأكبر. تحتوي أهداف الرش على نطاق واسع من التطبيقات في مجالات مثل الإلكترونيات الدقيقة ، والخلايا الشمسية ذات الأغشية الرقيقة ، والإلكترونيات الضوئية ، والطلاء الزخرفي نظرًا لقدرتها على ترسيب الأغشية الرقيقة بدقة عالية وتوحيد.

ما هي المواد عالية النقاء؟

تشير المواد عالية النقاء إلى المواد الخالية من الشوائب وتمتلك مستوى عالٍ من التجانس الكيميائي. هذه المواد ضرورية في مختلف الصناعات ، لا سيما في مجال الإلكترونيات المتقدمة ، حيث يمكن أن تؤثر الشوائب بشكل كبير على أداء الأجهزة. يتم الحصول على المواد عالية النقاء من خلال طرق مختلفة ، بما في ذلك التنقية الكيميائية وترسيب طور البخار وتكرير المنطقة. عند تحضير الماس البلوري الأحادي الدرجة الإلكترونية ، على سبيل المثال ، يعد غاز المواد الخام عالي النقاء ونظام فراغ فعال ضروريًا لتحقيق المستوى المطلوب من النقاء والتجانس.

ما هو الاخرق المغنطرون؟

رش المغنطرون عبارة عن تقنية طلاء تعتمد على البلازما تُستخدم لإنتاج أغشية شديدة الكثافة ذات التصاق ممتاز ، مما يجعلها طريقة متعددة الاستخدامات لتكوين طلاءات على مواد ذات نقاط انصهار عالية ولا يمكن تبخيرها. تولد هذه الطريقة بلازما محصورة مغناطيسيًا بالقرب من سطح الهدف ، حيث تتصادم أيونات الطاقة موجبة الشحنة مع المادة المستهدفة سالبة الشحنة ، مما يتسبب في طرد الذرات أو "رشها". ثم يتم ترسيب هذه الذرات المقذوفة على ركيزة أو رقاقة لإنشاء الطلاء المطلوب.

كيف يتم الاخرق الاهداف؟

يتم إجراء أهداف الرش باستخدام مجموعة متنوعة من عمليات التصنيع اعتمادًا على خصائص المادة المستهدفة وتطبيقاتها. وتشمل هذه الطرق الصهر والدرفلة بالفراغ ، والضغط الساخن ، والعملية الخاصة بالضغط المتكلس ، والضغط الساخن بالفراغ ، وطرق التزوير. يمكن تصنيع معظم المواد المستهدفة المتساقطة في مجموعة واسعة من الأشكال والأحجام ، مع كون الأشكال الدائرية أو المستطيلة هي الأكثر شيوعًا. تصنع الأهداف عادة من العناصر المعدنية أو السبائك ، ولكن يمكن أيضًا استخدام الأهداف الخزفية. أهداف الاخرق المركب متاحة أيضًا ، مصنوعة من مجموعة متنوعة من المركبات بما في ذلك الأكاسيد ، والنتريدات ، والبوريدات ، والكبريتيدات ، والسيلينيدات ، والتيلورايد ، والكربيدات ، والبلورات ، والمخاليط المركبة.

لماذا الاخرق المغنطرون؟

يُفضل رش المغنطرون نظرًا لقدرته على تحقيق دقة عالية في سماكة الفيلم وكثافة الطلاء ، متجاوزًا طرق التبخر. هذه التقنية مناسبة بشكل خاص لإنشاء طلاءات معدنية أو عازلة ذات خصائص بصرية أو كهربائية محددة. بالإضافة إلى ذلك ، يمكن تكوين أنظمة رش المغنطرون بمصادر مغنطرونية متعددة.

ما هو الهدف الاخرق المستخدم؟

تُستخدم أهداف الرش في عملية تسمى الرش لإيداع أغشية رقيقة من مادة ما على طبقة سفلية باستخدام الأيونات لقصف الهدف. تحتوي هذه الأهداف على مجموعة واسعة من التطبيقات في مختلف المجالات ، بما في ذلك الإلكترونيات الدقيقة ، والخلايا الشمسية ذات الأغشية الرقيقة ، والإلكترونيات الضوئية ، والطلاء الزخرفي. إنها تسمح بترسيب أغشية رقيقة من المواد على مجموعة متنوعة من الركائز بدقة عالية وتوحيد ، مما يجعلها أداة مثالية لإنتاج منتجات دقيقة. تأتي أهداف الرش بأشكال وأحجام مختلفة ويمكن تخصيصها لتلبية المتطلبات المحددة للتطبيق.

ما هي المواد المستخدمة في ترسيب الأغشية الرقيقة؟

عادةً ما يستخدم ترسيب الأغشية الرقيقة المعادن والأكاسيد والمركبات كمواد ، ولكل منها مزاياها وعيوبها الفريدة. تُفضل المعادن لقوة تحملها وسهولة ترسيبها ولكنها غالية الثمن نسبيًا. الأكاسيد شديدة التحمل ، ويمكن أن تتحمل درجات الحرارة العالية ، ويمكن أن تترسب في درجات حرارة منخفضة ، ولكن يمكن أن تكون هشة وصعبة للعمل معها. توفر المركبات القوة والمتانة ، ويمكن ترسيبها في درجات حرارة منخفضة ومصممة لإظهار خصائص محددة.

يعتمد اختيار مادة الطلاء الرقيق على متطلبات التطبيق. المعادن مثالية للتوصيل الحراري والكهربائي ، بينما الأكاسيد فعالة في توفير الحماية. يمكن تصميم المجمعات لتناسب الاحتياجات الخاصة. في النهاية ، ستعتمد أفضل المواد لمشروع معين على الاحتياجات المحددة للتطبيق.

ما هي أهداف الاخرق للإلكترونيات؟

أهداف الرش للإلكترونيات هي أقراص رقيقة أو صفائح من المواد مثل الألمنيوم والنحاس والتيتانيوم التي تُستخدم لإيداع أغشية رقيقة على رقائق السيليكون لإنشاء أجهزة إلكترونية مثل الترانزستورات والصمامات الثنائية والدوائر المتكاملة. تُستخدم هذه الأهداف في عملية تسمى الرش ، حيث يتم طرد ذرات المادة المستهدفة فعليًا من السطح وترسب على ركيزة عن طريق قصف الهدف بالأيونات. تعد أهداف الرش للإلكترونيات ضرورية في إنتاج الإلكترونيات الدقيقة وتتطلب عادةً دقة عالية وتوحيدًا لضمان جودة الأجهزة.

ما هي طرق تحقيق الترسيب الأمثل للأغشية الرقيقة؟

لتحقيق أغشية رقيقة بخصائص مرغوبة ، فإن أهداف الرش عالية الجودة ومواد التبخر ضرورية. يمكن أن تتأثر جودة هذه المواد بعوامل مختلفة ، مثل النقاء وحجم الحبوب وحالة السطح.

تلعب نقاوة أهداف الرش أو مواد التبخر دورًا مهمًا ، حيث يمكن أن تتسبب الشوائب في حدوث عيوب في الطبقة الرقيقة الناتجة. يؤثر حجم الحبوب أيضًا على جودة الأغشية الرقيقة ، حيث تؤدي الحبيبات الأكبر حجمًا إلى خصائص رديئة. بالإضافة إلى ذلك ، تعتبر حالة السطح حاسمة ، حيث يمكن أن تؤدي الأسطح الخشنة إلى حدوث عيوب في الفيلم.

لتحقيق أهداف الرش ومواد التبخر بأعلى جودة ، من الضروري اختيار المواد التي تتميز بدرجة نقاء عالية ، وحجم حبيبات صغير ، وأسطح ناعمة.

استخدامات ترسيب الأغشية الرقيقة

أغشية رقيقة من أكسيد الزنك

تجد أغشية ZnO الرقيقة تطبيقات في العديد من الصناعات مثل الحرارية والضوئية والمغناطيسية والكهربائية ، ولكن استخدامها الأساسي هو في الطلاء وأجهزة أشباه الموصلات.

المقاومات ذات الأغشية الرقيقة

تعتبر مقاومات الأغشية الرقيقة ضرورية للتكنولوجيا الحديثة وتُستخدم في مستقبلات الراديو ولوحات الدوائر وأجهزة الكمبيوتر وأجهزة التردد الراديوي والشاشات وأجهزة التوجيه اللاسلكية ووحدات البلوتوث وأجهزة استقبال الهواتف المحمولة.

أغشية مغناطيسية رقيقة

تُستخدم الأغشية الرقيقة المغناطيسية في الإلكترونيات ، وتخزين البيانات ، وتحديد الترددات الراديوية ، وأجهزة الميكروويف ، والشاشات ، ولوحات الدوائر ، والإلكترونيات الضوئية كمكونات رئيسية.

أغشية بصرية رقيقة

تعتبر الطلاءات الضوئية والإلكترونيات الضوئية من التطبيقات القياسية للأغشية الضوئية الرقيقة. يمكن أن تنتج epitaxy الشعاع الجزيئي أجهزة رقيقة إلكترونية ضوئية (أشباه موصلات) ، حيث تترسب الأغشية فوق المحورية ذرة واحدة في كل مرة على الركيزة.

أغشية رقيقة من البوليمر

تستخدم أغشية البوليمر الرقيقة في رقائق الذاكرة والخلايا الشمسية والأجهزة الإلكترونية. توفر تقنيات الترسيب الكيميائي (CVD) تحكمًا دقيقًا في طلاء أغشية البوليمر ، بما في ذلك المطابقة وسمك الطلاء.

بطاريات الأغشية الرقيقة

تعمل بطاريات الأغشية الرقيقة على تشغيل الأجهزة الإلكترونية مثل الأجهزة الطبية القابلة للزرع ، وقد تقدمت بطارية الليثيوم أيون بشكل كبير بفضل استخدام الأغشية الرقيقة.

طلاء الأغشية الرقيقة

تعزز الطلاءات ذات الأغشية الرقيقة الخصائص الكيميائية والميكانيكية للمواد المستهدفة في مختلف الصناعات والمجالات التكنولوجية. تعتبر الطلاءات المضادة للانعكاس ، والطلاءات المضادة للأشعة فوق البنفسجية أو المضادة للأشعة تحت الحمراء ، والطلاءات المضادة للخدش ، واستقطاب العدسة من الأمثلة الشائعة.

الخلايا الشمسية ذات الأغشية الرقيقة

تعد الخلايا الشمسية ذات الأغشية الرقيقة ضرورية لصناعة الطاقة الشمسية ، مما يتيح إنتاج كهرباء رخيصة ونظيفة نسبيًا. الأنظمة الكهروضوئية والطاقة الحرارية هما التقنيتان الرئيسيتان اللتان يمكن تطبيقهما.

ما هو عمر هدف الاخرق؟

يعتمد عمر هدف الرش على عوامل مثل تكوين المادة والنقاء والتطبيق المحدد الذي يتم استخدامه من أجله. بشكل عام ، يمكن أن تستمر الأهداف لعدة مئات إلى بضعة آلاف من الساعات من الرش ، ولكن هذا يمكن أن يختلف بشكل كبير اعتمادًا على الظروف المحددة لكل تشغيل. يمكن أن تؤدي المعالجة والصيانة المناسبة أيضًا إلى إطالة عمر الهدف. بالإضافة إلى ذلك ، يمكن أن يؤدي استخدام أهداف الرش الدوارة إلى زيادة أوقات التشغيل وتقليل حدوث العيوب ، مما يجعلها خيارًا أكثر فعالية من حيث التكلفة لعمليات الحجم الكبير.

العوامل والمعلمات التي تؤثر على ترسيب الأغشية الرقيقة

معدل الترسيب:

يُعد معدل إنتاج الفيلم ، الذي يُقاس عادةً بالسمك مقسومًا على الوقت ، أمرًا بالغ الأهمية لاختيار تقنية مناسبة للتطبيق. معدلات الترسيب المعتدلة كافية للأغشية الرقيقة ، في حين أن معدلات الترسيب السريع ضرورية للأغشية السميكة. من المهم تحقيق توازن بين السرعة والتحكم الدقيق في سماكة الفيلم.

التوحيد:

يُعرف تناسق الفيلم عبر الركيزة بالتوحيد ، والذي يشير عادةً إلى سمك الفيلم ولكن يمكن أن يرتبط أيضًا بخصائص أخرى مثل مؤشر الانكسار. من المهم أن يكون لديك فهم جيد للتطبيق لتجنب التوحيد أو الإفراط في تحديده.

القدرة على التعبئة:

تشير إمكانية التعبئة أو تغطية الخطوة إلى مدى تغطية عملية الترسيب لتضاريس الركيزة. طريقة الترسيب المستخدمة (على سبيل المثال ، CVD ، أو PVD ، أو IBD ، أو ALD) لها تأثير كبير على تغطية الخطوة والتعبئة.

خصائص الفيلم:

تعتمد خصائص الفيلم على متطلبات التطبيق ، والتي يمكن تصنيفها على أنها فوتونية أو بصرية أو إلكترونية أو ميكانيكية أو كيميائية. يجب أن تفي معظم الأفلام بالمتطلبات في أكثر من فئة واحدة.

درجة حرارة العملية:

تتأثر خصائص الفيلم بدرجة كبيرة بدرجة حرارة العملية ، والتي قد تكون محدودة بالتطبيق.

ضرر:

كل تقنية ترسيب لديها القدرة على إتلاف المواد التي يتم ترسيبها ، حيث تكون الميزات الأصغر أكثر عرضة لتلف العملية. يعد التلوث والأشعة فوق البنفسجية والقصف الأيوني من بين المصادر المحتملة للضرر. من الأهمية بمكان فهم قيود المواد والأدوات.

عرض المزيد من الأسئلة الشائعة لهذا المنتج

4.9

out of

5

KinTek's Vanadium Oxide (V2O3) Sputtering Target is a lifesaver. It's so pure and consistent that it's made our thin film deposition process so much easier.

Aiden Murphy

4.8

out of

5

I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for years, and they've never let me down. The quality is always top-notch, and the prices are unbeatable.

Elena Petrova

4.7

out of

5

KinTek's Vanadium Oxide (V2O3) Sputtering Target is the best I've ever used. It's so easy to work with, and the results are always amazing.

Lucas Silva

4.9

out of

5

I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.

Sophia Patel

4.8

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.

Ethan Cohen

4.7

out of

5

I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.

Isabella Garcia

4.9

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.

Liam Jones

4.8

out of

5

I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.

Mia Rodriguez

4.7

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.

Noah Brown

4.9

out of

5

I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.

Olivia Smith

4.8

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.

Alexander Johnson

4.7

out of

5

I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.

Emma White

4.9

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.

Oliver Green

4.8

out of

5

I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.

Ava Williams

4.7

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.

Elijah Wilson

4.9

out of

5

I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.

Isabella Garcia

4.8

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.

Liam Jones

4.7

out of

5

I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.

Mia Rodriguez

4.9

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.

Noah Brown

PDF of LM-V2O3

تنزيل

كتالوج مواد المختبر

تنزيل

كتالوج أهداف الاخرق

تنزيل

كتالوج مواد عالية النقاء

تنزيل

كتالوج مواد ترسب الأغشية الرقيقة

تنزيل

اطلب اقتباس

سيقوم فريقنا المحترف بالرد عليك في غضون يوم عمل واحد. لا تتردد في الاتصال بنا!

المنتجات ذات الصلة

الفاناديوم عالي النقاء (V) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

الفاناديوم عالي النقاء (V) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من الفاناديوم (V) لمختبرك؟ نحن نقدم مجموعة واسعة من الخيارات القابلة للتخصيص لتناسب احتياجاتك الفريدة ، بما في ذلك أهداف الرش ، والمساحيق ، والمزيد. اتصل بنا اليوم للحصول على أسعار تنافسية.

أكسيد التنغستن عالي النقاء (WO3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

أكسيد التنغستن عالي النقاء (WO3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من أكسيد التنجستن (WO3)؟ تم تصميم منتجاتنا من فئة المعامل وفقًا لاحتياجاتك الخاصة ، مع توفر مجموعة من النقاوة والأشكال والأحجام. تسوق أهداف الاخرق ومواد الطلاء والمزيد.

أكسيد الكروم عالي النقاء (Cr2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

أكسيد الكروم عالي النقاء (Cr2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من أكسيد الكروم لمختبرك؟ تشمل مجموعتنا أهداف الرش ، والمساحيق ، والرقائق ، والمزيد ، المخصصة لاحتياجاتك. تسوق الآن للحصول على أسعار معقولة.

أكسيد الإيتريوم عالي النقاء (Y2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

أكسيد الإيتريوم عالي النقاء (Y2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

احصل على مواد عالية الجودة من أكسيد الإيتريوم (Y2O3) مصممة خصيصًا لمتطلبات معملك الفريدة. يشمل نطاقنا أهداف الرش ومواد الطلاء والمساحيق وغير ذلك ، وكل ذلك بأسعار معقولة.

أكسيد الموليبدينوم عالي النقاء (MoO3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

أكسيد الموليبدينوم عالي النقاء (MoO3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من أكسيد الموليبدينوم (MoO3) لاحتياجات المختبر؟ تقدم شركتنا حلولًا مصممة خصيصًا بأسعار معقولة. نحن نقدم مجموعة واسعة من أهداف الرش ، ومواد الطلاء ، والمساحيق ، وأكثر من ذلك. اتصل بنا اليوم!

أكسيد التنتالوم عالي النقاء (Ta2O5) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

أكسيد التنتالوم عالي النقاء (Ta2O5) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اعثر على مواد عالية الجودة من أكسيد التنتالوم (Ta2O5) لاحتياجات المختبر بأسعار معقولة. يمكن لخبرائنا تصميم مواد ذات درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة لتلبية متطلباتك الخاصة. تحقق من مجموعتنا من أهداف الرش ومواد الطلاء والمساحيق والمزيد.

أكسيد الزنك عالي النقاء (ZnO) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

أكسيد الزنك عالي النقاء (ZnO) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اعثر على مواد عالية الجودة من أكسيد الزنك (ZnO) لاحتياجات المختبر بأسعار رائعة. ينتج فريق الخبراء لدينا مواد مخصصة بأشكال ونقاء وأحجام مختلفة ، بما في ذلك أهداف الرش ، ومواد الطلاء ، والمساحيق ، وغير ذلك. تسوق الآن!

أكسيد الألومنيوم عالي النقاء (Al2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

أكسيد الألومنيوم عالي النقاء (Al2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد من أكسيد الألومنيوم لمختبرك؟ نحن نقدم منتجات Al2O3 عالية الجودة بأسعار معقولة بأشكال وأحجام قابلة للتخصيص لتلبية احتياجاتك الخاصة. اعثر على الأهداف المتساقطة ومواد الطلاء والمساحيق والمزيد.

أكسيد النيوديميوم عالي النقاء (Nd2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

أكسيد النيوديميوم عالي النقاء (Nd2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

تسوق مواد أكسيد النيوديميوم عالية الجودة للاستخدام المخبري بأسعار معقولة. تأتي منتجاتنا المصممة خصيصًا في درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة لتلبية متطلباتك الفريدة. اختر من بين مجموعة كبيرة من الأهداف المتساقطة والمساحيق والمزيد.

أكسيد الحديد عالي النقاء (Fe3O4) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

أكسيد الحديد عالي النقاء (Fe3O4) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

احصل على مواد من أكسيد الحديد (Fe3O4) بأنقى وأشكال وأحجام مختلفة للاستخدام المعملي. تشمل مجموعتنا أهداف الرش ومواد الطلاء والمساحيق وقضبان الأسلاك والمزيد. اتصل بنا الآن.

أكسيد البزموت عالي النقاء (Bi2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

أكسيد البزموت عالي النقاء (Bi2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد عالية الجودة من أكسيد البزموت (Bi2O3) للاستخدام المعملي وبأسعار معقولة. اختر من بين مجموعة كبيرة من الأحجام والأشكال لتناسب احتياجاتك الفريدة. اطلب الان!

CVD البورون مخدر الماس

CVD البورون مخدر الماس

الماس المغطى بالبورون CVD: مادة متعددة الاستخدامات تتيح التوصيل الكهربائي المخصص والشفافية البصرية والخصائص الحرارية الاستثنائية للتطبيقات في مجال الإلكترونيات والبصريات والاستشعار وتقنيات الكم.

أكسيد الزركونيوم عالي النقاء (ZrO2) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

أكسيد الزركونيوم عالي النقاء (ZrO2) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد عالية الجودة من أكسيد الزركونيوم (ZrO2) مصممة خصيصًا لتلبية احتياجاتك. نحن نقدم مجموعة متنوعة من الأشكال والأحجام ، بما في ذلك أهداف الرش ، والمساحيق ، وأكثر من ذلك ، بأسعار معقولة.

ثاني أكسيد الإيريديوم IrO2 للتحليل الكهربائي للماء

ثاني أكسيد الإيريديوم IrO2 للتحليل الكهربائي للماء

ثاني أكسيد الإيريديوم ، الذي تكون شبكته البلورية عبارة عن هيكل روتيل. يمكن استخدام ثاني أكسيد الإيريديوم وأكاسيد المعادن النادرة الأخرى في أقطاب الأنود للتحليل الكهربائي الصناعي والأقطاب الكهربائية الدقيقة لأبحاث الفيزيولوجيا الكهربية.

عالية النقاء ثاني أكسيد السيليكون (SiO2) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

عالية النقاء ثاني أكسيد السيليكون (SiO2) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

هل تبحث عن مواد ثاني أكسيد السيليكون لمختبرك؟ تأتي مواد SiO2 المصممة بخبرة في درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة. تصفح مجموعتنا الواسعة من المواصفات اليوم!

أكسيد السماريوم عالي النقاء (Sm2O3) رش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

أكسيد السماريوم عالي النقاء (Sm2O3) رش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد عالية الجودة من أكسيد السماريوم (Sm2O3) للاستخدام المعملي وبأسعار معقولة. تأتي خاماتنا المنتجة والمصممة بخبرة بأشكال وأحجام مختلفة لتناسب احتياجاتك. تصفح مجموعتنا من أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

أكسيد سكانديوم عالي النقاء (Sc2O3) رش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

أكسيد سكانديوم عالي النقاء (Sc2O3) رش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اعثر على مواد عالية الجودة من أكسيد سكانديوم (Sc2O3) للاستخدام المعملي وبأسعار معقولة. تتوافق حلولنا المصممة خصيصًا مع درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة لتناسب متطلباتك. تحقق من مجموعتنا من أهداف الرش ، والمساحيق ، والرقائق ، والمزيد.

لوحة الكربون الجرافيت - متوازنة

لوحة الكربون الجرافيت - متوازنة

يتم ضغط الجرافيت الكربوني المتساوي الساكن من الجرافيت عالي النقاء. إنها مادة ممتازة لتصنيع فوهات الصواريخ ومواد التباطؤ والمواد العاكسة لمفاعل الجرافيت.