معرفة هل PVD هو نفس الاخرق؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوع

هل PVD هو نفس الاخرق؟

هل PVD هو نفسه الترسيب الفيزيائي بالتبخير الفيزيائي؟

لا، PVD (الترسيب الفيزيائي بالبخار الفيزيائي) ليس هو نفسه عملية الرش بالمبخرة، ولكن الرش بالمبخرة هو نوع من عمليات الترسيب الفيزيائي بالبخار.

ملخص:

الترسيب الفيزيائي بالبخار الفيزيائي (PVD) هو فئة واسعة من عمليات الطلاء القائمة على التفريغ التي تستخدم طرق فيزيائية لترسيب الأغشية الرقيقة على الركائز. تتضمن عملية الترسيب بالرش، وهي طريقة محددة ضمن عملية الترسيب الفيزيائي بالبخار بالتقنية الفائقة (PVD)، قذف المواد من مصدر مستهدف على الركيزة لإنشاء طبقات رقيقة.

  1. الشرح:ترسيب البخار الفيزيائي (PVD):

  2. الترسيب الفيزيائي بالتقنية الفيزيائية (PVD) هو مصطلح عام يشمل العديد من التقنيات المستخدمة لترسيب الأغشية الرقيقة على ركائز مختلفة. تتميز هذه التقنيات باستخدام طرق فيزيائية لتبخير وترسيب المواد في بيئة مفرغة من الهواء. ويتمثل الهدف الأساسي من تقنية PVD في إنشاء طبقة رقيقة وموحدة ومتماسكة على سطح الركيزة.

  3. أنواع عمليات PVD:

  4. توجد طرق متعددة في مجال التفريغ الكهروضوئي الطفيف، بما في ذلك التبخير والترسيب بالتبخير والتبخير بالحزمة الإلكترونية والحزمة الأيونية والليزر النبضي والترسيب القوسي الكاثودي. ولكل من هذه الطرق تطبيقات ومزايا محددة اعتمادًا على المادة والخصائص المرغوبة للطلاء.الاخرق كعملية PVD:

  5. الاصطرار هو تقنية محددة للتقنية بالترسيب بالبطاريات البفديوية الطيفية حيث يتم إخراج المادة من مصدر مستهدف (عادةً ما يكون معدنًا صلبًا أو مركبًا) بواسطة جسيمات عالية الطاقة (عادةً أيونات الأرجون). ثم تترسب هذه المادة المقذوفة على ركيزة مكونة طبقة رقيقة. ويحظى الاخرق بتقدير خاص لقدرته على ترسيب مجموعة واسعة من المواد وملاءمته لأنواع مختلفة من الركائز، مما يجعله خياراً متعدد الاستخدامات وقابلاً للتطبيق اقتصادياً في العديد من الصناعات، بما في ذلك أشباه الموصلات والبصريات والزجاج المعماري.

مزايا الاخرق:

المنتجات ذات الصلة

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

عالية النقاء البلاديوم (Pd) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

عالية النقاء البلاديوم (Pd) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد بلاديوم ميسورة التكلفة لمختبرك؟ نحن نقدم حلولًا مخصصة بنقاوة وأشكال وأحجام مختلفة - من أهداف الرش إلى مساحيق نانومتر ومساحيق الطباعة ثلاثية الأبعاد. تصفح مجموعتنا الآن!

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

KT-PE12 Slide PECVD System: نطاق طاقة واسع ، تحكم في درجة الحرارة قابل للبرمجة ، تسخين / تبريد سريع مع نظام انزلاقي ، تحكم في التدفق الكتلي MFC ومضخة تفريغ.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

الفاناديوم عالي النقاء (V) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

الفاناديوم عالي النقاء (V) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من الفاناديوم (V) لمختبرك؟ نحن نقدم مجموعة واسعة من الخيارات القابلة للتخصيص لتناسب احتياجاتك الفريدة ، بما في ذلك أهداف الرش ، والمساحيق ، والمزيد. اتصل بنا اليوم للحصول على أسعار تنافسية.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

عالية النقاء البلاتين (نقطة) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

عالية النقاء البلاتين (نقطة) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

أهداف رش البلاتين عالية النقاء (Pt) ومساحيق وأسلاك وكتل وحبيبات بأسعار معقولة. تم تصميمه وفقًا لاحتياجاتك الخاصة بأحجام وأشكال متنوعة متاحة للتطبيقات المختلفة.

عالية النقاء الرصاص (الرصاص) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

عالية النقاء الرصاص (الرصاص) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من الرصاص (Pb) لاحتياجات المختبر؟ لا تنظر إلى أبعد من اختيارنا المتخصص للخيارات القابلة للتخصيص ، بما في ذلك أهداف الرش ، ومواد الطلاء ، والمزيد. اتصل بنا اليوم للحصول على أسعار تنافسية!

أكسيد الفاناديوم عالي النقاء (V2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

أكسيد الفاناديوم عالي النقاء (V2O3) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اشترِ مواد أكسيد الفاناديوم (V2O3) لمختبرك بأسعار معقولة. نحن نقدم حلولًا مخصصة من درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة لتلبية متطلباتك الفريدة. تصفح مجموعتنا المختارة من الأهداف المتساقطة والمساحيق والرقائق والمزيد.

بوتقة تبخر الجرافيت

بوتقة تبخر الجرافيت

أوعية للتطبيقات ذات درجات الحرارة العالية ، حيث يتم الاحتفاظ بالمواد في درجات حرارة عالية للغاية حتى تتبخر ، مما يسمح بترسيب الأغشية الرقيقة على ركائز.


اترك رسالتك