المنتجات المعدات الحرارية MPCVD آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس
تبديل الفئات
الفئات

الاختصار

تحدث معنا للتواصل السريع والمباشر.

الرد فورًا في أيام العمل (خلال 8 ساعات في أيام العطلات)

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

MPCVD

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

رقم العنصر : KTWB315

السعر يتغير بناءً على المواصفات والتخصيصات


قوة الميكروويف
تردد الميكروويف 2450 ± 15 ميجا هرتز
انتاج الطاقة
1 ~ 10 KW قابل للتعديل بشكل مستمر
تسرب الميكروويف
≤ 2 ميجا واط / سم 2
واجهة دليل موجة الإخراج
WR340 ، 430 مع FD-340 ، شفة قياسية 430
حامل العينة
قطر عينة الجدول 72 مم ، منطقة الاستخدام الفعال 66 مم
ISO & CE icon

الشحن:

اتصل بنا للحصول على تفاصيل الشحن استمتع ضمان التسليم في الموعد المحدد.

يرمز MPCVD إلى ترسيب البخار الكيميائي لبلازما الميكروويف. إنها طريقة لزراعة أغشية الماس عالية الجودة في المختبر باستخدام غاز يحتوي على الكربون وبلازما ميكروويف.

KinTek MPCVD

نظام MPCVD

نظام MPCVD (ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف) هو عملية تستخدم لإيداع أغشية رقيقة على سطح الركيزة. يتكون النظام من غرفة مفرغة حيث تتم عملية الترسيب ، ومولد ميكروويف ، ونظام لتوصيل الغاز. يتم استخدام مولد الميكروويف لتوليد بلازما داخل حجرة التفريغ ، والتي تستخدم لتحلل وترسيب أنواع الغاز على الركيزة.

عادة ما يكون مولد الميكروويف عبارة عن مغنطرون أو كليسترون ، والذي يولد أفران ميكروويف في نطاق 2.45 جيجاهرتز. يتم توصيل أفران الميكروويف بغرفة التفريغ من خلال نافذة كوارتز.

يتكون نظام توصيل الغاز من وحدات تحكم في التدفق الكتلي (MFCs) تتحكم في تدفق الغاز إلى غرفة التفريغ. يتم معايرة MFCs بالسنتيمتر المكعب القياسي في الدقيقة (sccm).

يتم التحكم في درجة حرارة الركيزة من خلال موضع البلازما ويتم قياسها بواسطة مزدوج حراري. يتم استخدام البلازما لتسخين الركيزة ، ويتم مراقبة درجة الحرارة بواسطة المزدوج الحراري للتأكد من أن الركيزة في درجة الحرارة المطلوبة أثناء عملية الترسيب.

التطبيقات

MPCVD هي تقنية واعدة لإنتاج ماسات كبيرة منخفضة التكلفة وعالية الجودة.

خصائص الماس الفريدة ، بما في ذلك صلابته ، وصلابة ، وموصلية حرارية عالية ، وتمدد حراري منخفض ، وصلابة إشعاعية ، وخمول كيميائي ، تجعله مادة قيمة.

على الرغم من إمكاناته الكبيرة ، فإن التكلفة العالية ، والحجم المحدود ، وصعوبة التحكم في الشوائب من الماس الطبيعي والاصطناعي عالي الضغط ودرجات الحرارة المرتفعة قد حد من تطبيقاته.

MPCVD هي المعدات الأساسية المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية.

يمكن أن يكون نمو الفيلم الماسي إما أحادي البلورة أو متعدد البلورات ، ويستخدم على نطاق واسع في صناعة أشباه الموصلات لركائز الماس كبيرة الحجم وكذلك في صناعة أدوات القطع أو الحفر.

بالمقارنة مع طريقة HPHT للماس المزروع في المختبر ، فإن طريقة الميكروويف CVD مفيدة لنمو الماس كبير الحجم بتكلفة أقل ، مما يجعلها حلاً مثاليًا لتطبيقات الماس شبه الموصل ، ونمو الماس البصري ، وألماس المجوهرات الكبيرة احتياجات السوق.

الماس الخام المزروع بواسطة KINTEK MPCVD
الماس الخام المزروع بواسطة KINTEK MPCVD
في آلة KinTek MPCVD ، ينمو الماس
في آلة KinTek MPCVD ، ينمو الماس
في آلة KinTek MPCVD ، ينمو الماس
في آلة KinTek MPCVD ، ينمو الماس
في آلة KinTek MPCVD ، ينمو الماس
في آلة KinTek MPCVD ، ينمو الماس
في آلة KinTek MPCVD ، ينمو الماس
في آلة KinTek MPCVD ، ينمو الماس
في آلة KinTek MPCVD ، ينمو الماس
في آلة KinTek MPCVD ، ينمو الماس
الماس الخام المزروع بواسطة آلة KINTEK MPCVD
الماس الخام المزروع بواسطة آلة KINTEK MPCVD
الماس الخام المزروع بواسطة آلة KINTEK MPCVD
الماس الخام المزروع بواسطة آلة KINTEK MPCVD
الماس الخام المزروع بواسطة آلة KINTEK MPCVD
الماس الخام المزروع بواسطة آلة KINTEK MPCVD
نمت MPCVD الماس بعد التلميع
نمت MPCVD الماس بعد التلميع
متعدد البلورات بواسطة KinTek MPCVD
متعدد البلورات بواسطة KinTek MPCVD

مزايا MPCVD

MPCVD هي طريقة تخليق الماس لها العديد من المزايا مقارنة بالطرق الأخرى ، مثل HFCVD و DC-PJ CVD. يتجنب تلوث الماس بالأسلاك الساخنة ويسمح باستخدام غازات متعددة لتلبية الاحتياجات الصناعية المختلفة. بالمقارنة مع DC-PJ CVD ، فإنه يتيح التعديل السلس والمستمر لطاقة الميكروويف والتحكم المستقر في درجة حرارة التفاعل ، مما يمنع بذور الكريستال من السقوط من الركيزة بسبب الانحناء وانهيار اللهب. مع وجود مساحة كبيرة من بلازما التفريغ المستقر ، تعتبر طريقة MPCVD أكثر طرق تخليق الماس الواعدة للتطبيقات الصناعية.

الماس المنتج من خلال MPCVD ذو نقاوة أعلى مقارنة بتلك المنتجة باستخدام طريقة HPHT ، وتستهلك عملية الإنتاج طاقة أقل. بالإضافة إلى ذلك ، تسهل طريقة MPCVD إنتاج الماس الأكبر حجمًا.

مزايا نظام MPCVD الخاص بنا

لقد شاركنا بعمق في الصناعة لسنوات عديدة ، ونتيجة لذلك ، لدينا قاعدة عملاء واسعة يثقون ويستخدمون معداتنا. تعمل معدات MPCVD الخاصة بنا بثبات لأكثر من 40.000 ساعة ، مما يدل على استقرار استثنائي وموثوقية وتكرار وفعالية من حيث التكلفة. تشمل مزايا نظام MPCVD الخاص بنا ما يلي:

  • مساحة نمو الركيزة 3 بوصات ، كحد أقصى. دفعة تحميل تصل إلى 45 قطعة الماس
  • طاقة ميكروويف ناتجة قابلة للتعديل 1-10Kw لاستهلاك أقل للكهرباء
  • فريق بحث غني من ذوي الخبرة مع دعم وصفة الماس المتنامية
  • برنامج دعم فني حصري لفريق خبرة Zero Diamond المتنامي

من خلال الاستفادة من تقنيتنا المتقدمة المتراكمة ، قمنا بتنفيذ جولات متعددة من الترقيات والتحسينات لنظام MPCVD الخاص بنا ، مما أدى إلى تحسين الكفاءة بشكل كبير وتقليل تكاليف المعدات. نتيجة لذلك ، فإن معدات MPCVD الخاصة بنا في طليعة التطورات التكنولوجية ويتم تقديمها بأسعار تنافسية. مرحبا بكم للتشاور معنا.

محاكاة KinTek MPCVD
محاكاة KinTek MPCVD

معالجة العمل

تتحكم آلة MPCVD في تدفق كل مسار غاز وضغط تجويف أثناء إدخال الغازات المتفاعلة (مثل CH4 ، H2 ، Ar ، O2 ، N2 ، إلخ) في التجويف تحت ضغط معين. بعد تثبيت تدفق الهواء ، يولد مولد الميكروويف ذو الحالة الصلبة 6KW الموجات الدقيقة التي يتم إدخالها بعد ذلك في التجويف من خلال الدليل الموجي.

يتحول غاز التفاعل إلى حالة بلازما تحت مجال الميكروويف ، مكونًا كرة بلازما تحوم فوق طبقة الماس. تعمل درجة حرارة البلازما المرتفعة على تسخين الركيزة إلى درجة حرارة معينة. يتم تبديد الحرارة الزائدة الناتجة في التجويف بواسطة وحدة تبريد الماء.

لضمان ظروف النمو المثلى أثناء عملية نمو الماس البلوري الأحادي MPCVD ، نقوم بتعديل عوامل مثل الطاقة وتكوين مصدر الغاز وضغط التجويف. علاوة على ذلك ، نظرًا لأن كرة البلازما لا تلامس جدار التجويف ، فإن عملية نمو الألماس خالية من الشوائب ، وبالتالي تحسين جودة الماس.

التفاصيل وقطع الغيار

نظام الميكروويف

نظام الميكروويف

غرفة التفاعل

غرفة التفاعل

نظام تدفق الغاز

نظام تدفق الغاز

نظام الفراغ والحساس

نظام الفراغ والحساس

المواصفات الفنية

نظام الميكروويف
  • تردد الميكروويف 2450 ± 15 ميجا هرتز ،
  • طاقة الإخراج 1 10 KW قابلة للتعديل بشكل مستمر
  • استقرار طاقة خرج الميكروويف: <± 1٪
  • تسرب الميكروويف ≤2MW / سم 2
  • واجهة دليل موجة الإخراج: WR340 ، 430 مع FD-340 ، شفة قياسية 430
  • تدفق مياه التبريد: 6-12 لتر / دقيقة
  • معامل الموجة الدائمة للنظام: VSWR ≤ 1.5
  • ضابط الميكروويف اليدوي 3 سنون ، تجويف الإثارة ، حمولة عالية الطاقة
  • مصدر طاقة الإدخال: 380VAC / 50Hz ± 10٪ ، ثلاث مراحل
غرفة التفاعل
  • معدل تسرب الفراغ <5 × 10-9 Pa .m3 / s
  • ضغط الحد أقل من 0.7 باسكال (إعداد قياسي مع مقياس فراغ بيراني)
  • يجب ألا يتجاوز ارتفاع ضغط الغرفة 50 باسكال بعد 12 ساعة من الحفاظ على الضغط
  • طريقة عمل غرفة التفاعل: وضع TM021 أو TM023
  • نوع التجويف: تجويف طنين أسطواني ، بقوة تحمل قصوى تصل إلى 10KW ، مصنوع من الفولاذ المقاوم للصدأ 304 ، مع طبقة داخلية مبردة بالماء ، وطريقة ختم لوحة الكوارتز عالية النقاء.
  • وضع سحب الهواء: مدخل هواء موحد حلقي علوي
  • ختم الفراغ: يتم إغلاق الوصلة السفلية للغرفة الرئيسية وباب الحقن بحلقات مطاطية ، ومضخة التفريغ والأنابيب محكمة الغلق بـ KF ، ولوحة الكوارتز محكمة الغلق بحلقة C معدنية ، والباقي مغلق بـ CF
  • نافذة المراقبة وقياس درجة الحرارة: 8 منافذ مراقبة
  • منفذ تحميل العينة أمام الغرفة
  • تفريغ مستقر في نطاق ضغط يتراوح بين 0.7KPa ~ 30KPa (يجب أن يكون ضغط الطاقة مطابقًا)
حامل العينة
  • قطر عينة الجدول 72 مم ، منطقة الاستخدام الفعال 66 مم
  • قاعدة لوحة منصة هيكل شطيرة المياه المبردة
  • يمكن رفع حامل العينة وخفضه بالتساوي كهربائيًا في التجويف
نظام تدفق الغاز
  • جميع قرص هواء اللحام المعدني
  • يجب استخدام وصلات اللحام أو VCR لجميع دوائر الغاز الداخلية للجهاز.
  • 5 قنوات مقياس تدفق MFC ، H2 / CH4 / O2 / N / Ar. H2: 1000 سم مكعب ؛ CH4: 100 سم مكعب ؛ O2: 2 سم مكعب ؛ N2: 2 سم مكعب ؛ Ar: 10 سم مكعب
  • مكبس عمل 0.05-0.3 ميجا باسكال ، دقة ± 2٪
  • تحكم صمام هوائي مستقل لكل مقياس تدفق قناة
نظام التبريد
  • 3 خطوط تبريد المياه ، مراقبة الوقت الحقيقي لدرجة الحرارة والتدفق.
  • تدفق مياه تبريد النظام هو 50 لتر / دقيقة
  • ضغط ماء التبريد <4KG ، ودرجة حرارة الماء الداخل 20-25 ℃.
جهاز استشعار درجة الحرارة
  • مقياس الحرارة الخارجي بالأشعة تحت الحمراء لديه نطاق درجة حرارة 300-1400 ℃
  • دقة التحكم في درجة الحرارة <2 ℃ أو 2٪
نظام التحكم
  • تم اعتماد Siemens smart 200 PLC والتحكم بشاشة اللمس.
  • يحتوي النظام على مجموعة متنوعة من البرامج ، والتي يمكن أن تحقق التوازن التلقائي لدرجة حرارة النمو ، والتحكم الدقيق في ضغط هواء النمو ، وارتفاع درجة الحرارة تلقائيًا ، وانخفاض درجة الحرارة تلقائيًا وغيرها من الوظائف.
  • يمكن تحقيق التشغيل المستقر للمعدات والحماية الشاملة للمعدات من خلال مراقبة تدفق المياه ودرجة الحرارة والضغط والمعلمات الأخرى ، ويمكن ضمان موثوقية وسلامة العملية من خلال التشابك الوظيفي.
وظيفة اختيارية
  • نظام مراقبة المركز
  • قوة قاعدة الركيزة

تحذيرات

سلامة المشغل هي أهم قضية! يرجى تشغيل الجهاز بحذر. يعد العمل بالغازات القابلة للاشتعال والانفجار أو السامة أمرًا خطيرًا للغاية ، ويجب على المشغلين اتخاذ جميع الاحتياطات اللازمة قبل بدء تشغيل الجهاز. يعد العمل بالضغط الإيجابي داخل المفاعلات أو الغرف أمرًا خطيرًا ، ويجب على المشغل الالتزام بإجراءات السلامة بدقة. يجب أيضًا توخي الحذر الشديد عند العمل بمواد تفاعلية للهواء ، خاصة في حالة الفراغ. يمكن أن يؤدي التسرب إلى سحب الهواء إلى الجهاز مما يؤدي إلى حدوث رد فعل عنيف.

مصممة لك

تقدم KinTek خدمة ومعدات مخصصة عميقة للعملاء في جميع أنحاء العالم ، والعمل الجماعي المتخصص لدينا والمهندسون ذوو الخبرة الأثرياء قادرون على تنفيذ متطلبات أجهزة ومعدات البرمجيات المخصصة ، ومساعدة عملائنا على بناء المعدات والحلول الحصرية والشخصية!

هل تسمح بإسقاط أفكارك إلينا من فضلك ، مهندسونا جاهزون لك الآن!

FAQ

ما هو الـ Mpcvd؟

يرمز MPCVD إلى ترسيب البخار الكيميائي لبلازما الميكروويف وهي عملية ترسيب أغشية رقيقة على السطح. إنها تستخدم حجرة تفريغ ومولد ميكروويف ونظام توصيل الغاز لإنشاء بلازما مكونة من مواد كيميائية متفاعلة ومحفزات ضرورية. يتم استخدام MPCVD بكثافة في شبكة ANFF لإيداع طبقات من الماس باستخدام الميثان والهيدروجين لتنمية ماس جديد على ركيزة مصقولة بالماس. إنها تقنية واعدة لإنتاج ماسات كبيرة منخفضة التكلفة وعالية الجودة وتستخدم على نطاق واسع في صناعة أشباه الموصلات وقطع الماس.

ما هي آلة الماس CVD؟

آلة الماس CVD هي جهاز يستخدم لإنتاج الماس الصناعي من خلال عملية تسمى ترسيب البخار الكيميائي (CVD). تتضمن هذه العملية ترسيب الأبخرة الكيميائية لتكوين الماس ، الذي له خصائص مكافئة للماس الطبيعي. آلات الماس CVD بما في ذلك CVD الحرارية بمساعدة الفتيل ، و CVD المعزز بالبلازما ، و CVD بمساعدة اللهب وما إلى ذلك. الماس CVD الناتج مفيد في صناعة أدوات القطع نظرًا لصلابتها العالية وعمر أداة طويل الأمد ، مما يجعلها مهمة وأداة فعالة من حيث التكلفة لقطع المواد غير الحديدية.

ما هي آلة Mpcvd؟

آلة MPCVD (ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف) هي عبارة عن معدات معملية تستخدم في إنتاج أغشية الماس عالية الجودة. يستخدم غازًا يحتوي على الكربون وبلازما ميكروويف لتكوين كرة بلازما فوق طبقة الألماس ، والتي تقوم بتسخينها إلى درجة حرارة معينة. لا تلامس كرة البلازما جدار التجويف ، مما يجعل عملية نمو الماس خالية من الشوائب ويعزز جودة الماس. يتكون نظام MPCVD من غرفة مفرغة ومولد ميكروويف ونظام توصيل غاز يتحكم في تدفق الغاز إلى الغرفة.

ما هي مزايا Mpcvd؟

تتمتع MPCVD بالعديد من المزايا مقارنة بالطرق الأخرى لإنتاج الماس ، مثل درجة نقاء أعلى ، واستهلاك أقل للطاقة ، والقدرة على إنتاج ماس أكبر.

هل ألماس الأمراض القلبية الوعائية حقيقي أم مزيف؟

الماس CVD هو الماس الحقيقي وليس المزيف. تزرع في المختبر من خلال عملية تسمى ترسيب البخار الكيميائي (CVD). على عكس الماس الطبيعي الذي يتم استخراجه من تحت سطح الأرض ، يتم إنشاء ألماس CVD باستخدام تقنية متقدمة في المختبرات. هذه الماسات عبارة عن كربون بنسبة 100٪ وهي أنقى أشكال الماس المعروفة باسم الماس من النوع IIa. لديهم نفس الخصائص البصرية والحرارية والفيزيائية والكيميائية مثل الماس الطبيعي. والفرق الوحيد هو أن ألماس الأمراض القلبية الوعائية يتم إنشاؤه في المختبر ولا يُستخرج من الأرض.
عرض المزيد من الأسئلة الشائعة لهذا المنتج

4.9

out of

5

KINTEK's MPCVD machine is a game-changer! Its 1-10Kw adjustable output microwave power feature not only saves electricity but also ensures precise control over the diamond growth process.

Harshitha Gujjar

4.8

out of

5

As a lab manager, I appreciate the stability and reliability of the KINTEK MPCVD system. It has been running non-stop for over 40,000 hours, providing us with consistent, high-quality diamond growth.

Elvin Wang

4.7

out of

5

The rich experience and frontier diamond growing recipe support from KINTEK's research team have been invaluable. Their expertise has helped us optimize our MPCVD process and achieve exceptional results.

Sophia Mitchell

4.8

out of

5

KINTEK's exclusive technical support program for teams with zero diamond growing experience is a lifesaver. Their guidance and assistance have been instrumental in our successful adoption of the MPCVD system.

Mustafa Kamal

5.0

out of

5

The 3 inches substrate growing area and max. batch load of up to 45 pieces diamonds make the KINTEK MPCVD machine a highly efficient and productive choice for our lab. We can now produce more diamonds in less time.

Isabella Garcia

4.9

out of

5

The KINTEK MPCVD system is a technological marvel. Its advanced features and continuous upgrades have kept us at the forefront of diamond growth innovation.

Oliver Chen

4.7

out of

5

The competitive price of the KINTEK MPCVD equipment makes it an affordable and accessible solution for labs like ours. We're grateful for the opportunity to leverage its cutting-edge technology without breaking the bank.

Aisha Khan

5.0

out of

5

The KINTEK MPCVD machine has exceeded our expectations. Its user-friendly interface, stable performance, and exceptional diamond quality have made it an indispensable tool in our lab.

Elijah Harper

PDF - آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تنزيل

كتالوج Mpcvd

تنزيل

كتالوج آلة Mpcvd

تنزيل

كتالوج آلة الماس Cvd

تنزيل

اطلب اقتباس

سيقوم فريقنا المحترف بالرد عليك في غضون يوم عمل واحد. لا تتردد في الاتصال بنا!

المنتجات ذات الصلة

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

915 ميجا هرتز MPCVD الماس آلة الماس 915MHz ونموها الفعال متعدد البلورات، يمكن أن تصل المساحة القصوى إلى 8 بوصات، ويمكن أن تصل مساحة النمو الفعال القصوى للبلورة الواحدة إلى 5 بوصات. تُستخدم هذه المعدات بشكل أساسي لإنتاج أفلام الماس متعدد الكريستالات كبيرة الحجم، ونمو الماس أحادي البلورة الطويل، ونمو الجرافين عالي الجودة في درجات حرارة منخفضة، وغيرها من المواد التي تتطلب طاقة توفرها بلازما الميكروويف للنمو.

CVD Diamond للإدارة الحرارية

CVD Diamond للإدارة الحرارية

ألماس CVD للإدارة الحرارية: ألماس عالي الجودة مع موصلية حرارية تصل إلى 2000 واط/م ك، مثالي لموزعات الحرارة، وثنائيات الليزر، وتطبيقات GaN على الماس (GOD).

القباب الماسية CVD

القباب الماسية CVD

اكتشف القباب الماسية CVD، الحل الأمثل لمكبرات الصوت عالية الأداء. توفر هذه القباب، المصنوعة باستخدام تقنية DC Arc Plasma Jet، جودة صوت استثنائية ومتانة ومعالجة للطاقة.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

CVD البورون مخدر الماس

CVD البورون مخدر الماس

الماس المغطى بالبورون CVD: مادة متعددة الاستخدامات تتيح التوصيل الكهربائي المخصص والشفافية البصرية والخصائص الحرارية الاستثنائية للتطبيقات في مجال الإلكترونيات والبصريات والاستشعار وتقنيات الكم.

CVD Diamond لأدوات التضميد

CVD Diamond لأدوات التضميد

استمتع بأداء لا يضاهى لفراغات CVD Diamond Dresser: التوصيل الحراري العالي، ومقاومة التآكل الاستثنائية، واستقلالية التوجيه.

آلة قطع الأسلاك الماسية عالية الدقة

آلة قطع الأسلاك الماسية عالية الدقة

إن آلة قطع الأسلاك الماسية ذات الدقة العالية هي أداة قطع متعددة الاستخدامات ودقيقة مصممة خصيصًا للباحثين في مجال المواد. إنها تستخدم آلية قطع الأسلاك الماسية المستمرة، مما يتيح القطع الدقيق للمواد الهشة مثل السيراميك، البلورات، الزجاج، المعادن، الصخور، ومواد أخرى متنوعة.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

KT-PE12 Slide PECVD System: نطاق طاقة واسع ، تحكم في درجة الحرارة قابل للبرمجة ، تسخين / تبريد سريع مع نظام انزلاقي ، تحكم في التدفق الكتلي MFC ومضخة تفريغ.

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

فرن أنبوبة CVD ذو الحجرة المنقسمة مع ماكينة التفريغ بالبطاريات القابلة للتفريغ بالقنوات المرارية

فرن أنبوبة CVD ذو الحجرة المنقسمة مع ماكينة التفريغ بالبطاريات القابلة للتفريغ بالقنوات المرارية

فرن CVD ذو حجرة مجزأة فعالة ذات حجرة مجزأة مع محطة تفريغ لفحص العينة بسهولة وتبريد سريع. درجة حرارة قصوى تصل إلى 1200 درجة مئوية مع تحكم دقيق في مقياس التدفق الكتلي MFC.

الفراغات أداة القطع

الفراغات أداة القطع

أدوات القطع الماسية CVD: مقاومة فائقة للتآكل، واحتكاك منخفض، وموصلية حرارية عالية للمواد غير الحديدية، والسيراميك، وتصنيع المركبات

فرن صهر القوس الكهربائي بالحث الفراغي

فرن صهر القوس الكهربائي بالحث الفراغي

قم بتطوير مواد قابلة للثبات بسهولة باستخدام نظام الغزل المصهور بالتفريغ. مثالي للبحث والعمل التجريبي باستخدام المواد غير المتبلورة والجريزوفولفين. اطلب الآن للحصول على نتائج فعالة.

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن KT-CTF14 متعدد مناطق التسخين CVD - تحكم دقيق في درجة الحرارة وتدفق الغاز للتطبيقات المتقدمة. درجة حرارة قصوى تصل إلى 1200 درجة مئوية، ومقياس تدفق الكتلة MFC بـ 4 قنوات، وجهاز تحكم بشاشة TFT تعمل باللمس مقاس 7 بوصة.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

مطحنة اهتزازية قرصية / كوب

مطحنة اهتزازية قرصية / كوب

المطحنة القرصية الاهتزازية مناسبة للتكسير غير المدمر والطحن الدقيق للعينات ذات الأحجام الكبيرة للجسيمات ، ويمكنها تحضير العينات بسرعة بدقة ونقاء تحليلي.

قوالب سحب الأسلاك الماسية CVD

قوالب سحب الأسلاك الماسية CVD

قوالب سحب الأسلاك الماسية CVD: صلابة فائقة، ومقاومة للتآكل، وقابلية للتطبيق في سحب الأسلاك بمواد مختلفة. مثالية لتطبيقات تصنيع التآكل الكاشطة مثل معالجة الجرافيت.

المقالات ذات الصلة

كيفية تحقيق جودة عالية من الماس أحادي البلورة باستخدام MPCVD

كيفية تحقيق جودة عالية من الماس أحادي البلورة باستخدام MPCVD

يعد ترسيب البخار الكيميائي لبلازما الميكروويف (MPCVD) تقنية شائعة لإنتاج الماس أحادي البلورة عالي الجودة.

اعرف المزيد
عملية تصنيع الماس CVD بواسطة آلة MPCVD

عملية تصنيع الماس CVD بواسطة آلة MPCVD

اكتسبت آلات الماس CVD أهمية كبيرة في مختلف الصناعات والبحث العلمي.

اعرف المزيد
التطورات في أنظمة MPCVD للألماس البلوري الأحادي كبير الحجم

التطورات في أنظمة MPCVD للألماس البلوري الأحادي كبير الحجم

مكنت التطورات في أنظمة MPCVD من إنتاج ماس أحادي البلورة أكبر وأعلى جودة ، مما يوفر إمكانات واعدة للتطبيقات المستقبلية.

اعرف المزيد
مقدمة عن ترسيب البخار الكيميائي (CVD)

مقدمة عن ترسيب البخار الكيميائي (CVD)

ترسيب البخار الكيميائي ، أو CVD ، هو عملية طلاء تتضمن استخدام المواد المتفاعلة الغازية لإنتاج أغشية وطبقات رقيقة عالية الجودة.

اعرف المزيد
ترسيب البخار الكيميائي المعزز بالبلازما (PECVD): دليل شامل

ترسيب البخار الكيميائي المعزز بالبلازما (PECVD): دليل شامل

تعرّف على كل ما تحتاج إلى معرفته عن الترسيب الكيميائي المحسّن بالبلازما بالبخار الكيميائي (PECVD)، وهي تقنية ترسيب الأغشية الرقيقة المستخدمة في صناعة أشباه الموصلات. استكشف مبادئها وتطبيقاتها وفوائدها.

اعرف المزيد
فهم PECVD: دليل لترسب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

فهم PECVD: دليل لترسب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

PECVD هي تقنية مفيدة لإنشاء أغشية رقيقة لأنها تسمح بترسيب مجموعة متنوعة من المواد ، بما في ذلك الأكاسيد والنتريد والكربيدات.

اعرف المزيد
فرن CVD لنمو الأنابيب النانوية الكربونية

فرن CVD لنمو الأنابيب النانوية الكربونية

تقنية فرن ترسيب البخار الكيميائي (CVD) هي طريقة مستخدمة على نطاق واسع لزراعة الأنابيب النانوية الكربونية.

اعرف المزيد
مزايا ومساوئ الترسيب الكيميائي للبخار الكيميائي (CVD)

مزايا ومساوئ الترسيب الكيميائي للبخار الكيميائي (CVD)

الترسيب الكيميائي للبخار الكيميائي (CVD) هو تقنية ترسيب الأغشية الرقيقة متعددة الاستخدامات المستخدمة على نطاق واسع في مختلف الصناعات. استكشف مزاياها وعيوبها وتطبيقاتها الجديدة المحتملة.

اعرف المزيد
دليل شامل لMPCVD: تركيب الماس وتطبيقاته

دليل شامل لMPCVD: تركيب الماس وتطبيقاته

استكشف أساسيات ومزايا وتطبيقات ترسيب البخار الكيميائي للبلازما بالميكروويف (MPCVD) في تصنيع الماس. تعرف على قدراتها الفريدة وكيفية مقارنتها بطرق نمو الماس الأخرى.

اعرف المزيد
آلات CVD لترسيب الأغشية الرقيقة

آلات CVD لترسيب الأغشية الرقيقة

ترسيب البخار الكيميائي (CVD) هي تقنية مستخدمة على نطاق واسع لترسيب الأغشية الرقيقة على ركائز مختلفة.

اعرف المزيد
دليل المبتدئين لأجهزة MPCVD

دليل المبتدئين لأجهزة MPCVD

MPCVD (ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف) هي عملية تستخدم لإيداع أغشية رقيقة من المواد على ركيزة باستخدام البلازما الناتجة عن أفران الميكروويف.

اعرف المزيد
فرن PECVD حل منخفض الطاقة ومنخفض درجة الحرارة للمواد اللينة

فرن PECVD حل منخفض الطاقة ومنخفض درجة الحرارة للمواد اللينة

أصبحت أفران PECVD (ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما) حلاً شائعًا لترسيب الأغشية الرقيقة على أسطح المواد اللينة.

اعرف المزيد

الوسوم الساخنة

آلة mpcvd آلة الماس cvd