معرفة ما هي التطبيقات الستة الرئيسية لطريقة الترسيب الفيزيائي للبخار الفيزيائي (PVD)؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ 3 أسابيع

ما هي التطبيقات الستة الرئيسية لطريقة الترسيب الفيزيائي للبخار الفيزيائي (PVD)؟

الترسيب الفيزيائي للبخار الفيزيائي (PVD) هو تقنية متعددة الاستخدامات مع مجموعة واسعة من التطبيقات في مختلف الصناعات.

6 تطبيقات رئيسية لطريقة الترسيب الفيزيائي للبخار الفيزيائي (PVD)

ما هي التطبيقات الستة الرئيسية لطريقة الترسيب الفيزيائي للبخار الفيزيائي (PVD)؟

أجهزة أشباه الموصلات

يشيع استخدام تقنية الترسيب الفيزيائي بالبخار الفيزيائي (PVD) في تصنيع أجهزة أشباه الموصلات.

ويتم استخدامه لترسيب أغشية رقيقة من مواد مختلفة على ركائز أشباه الموصلات، مثل رقائق السيليكون.

تستخدم هذه الأغشية الرقيقة لأغراض مثل العزل وحواجز الانتشار والتلامس المعدني.

الطلاءات والمرشحات البصرية

تُستخدم تقنية PVD لترسيب الأغشية الرقيقة من المواد ذات الخصائص البصرية المحددة على المكونات البصرية.

تعمل هذه الطلاءات على تحسين انعكاسية ونفاذية ومتانة الأسطح البصرية.

وهي تُستخدم في تطبيقات مثل الطلاءات المضادة للانعكاس، وطلاءات المرايا، والمرشحات لاختيار الطول الموجي.

أدوات القطع المغلفة

تُستخدم تقنية PVD لتطبيق الطلاءات الصلبة على أدوات القطع، مثل المثاقب والمطاحن الطرفية والإدخالات.

تعمل هذه الطلاءات على تحسين مقاومة التآكل والصلابة لأدوات القطع.

ويؤدي ذلك إلى إطالة عمر الأداة وتحسين أداء القطع.

الطلاءات الزخرفية

تُستخدم تقنية PVD لترسيب أغشية عاكسة للغاية على الأسطح، مثل الزجاج أو البلاستيك، لأغراض التزيين.

تخلق هذه الرقائق لمسة نهائية تشبه المرآة وتستخدم عادةً في منتجات مثل الهواتف الذكية والأجهزة اللوحية وشاشات عرض السيارات.الخلايا الشمسيةتُستخدم تقنية PVD في تصنيع الخلايا الشمسية.ويُستخدم لترسيب أغشية رقيقة من المواد، مثل السيليكون، على سطح الخلية الشمسية.وتعزز هذه الأغشية الرقيقة كفاءة الخلية الشمسية من خلال تحسين امتصاص الضوء ونقل الإلكترونات.

المنتجات ذات الصلة

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

بوتقة تبخر الجرافيت

بوتقة تبخر الجرافيت

أوعية للتطبيقات ذات درجات الحرارة العالية ، حيث يتم الاحتفاظ بالمواد في درجات حرارة عالية للغاية حتى تتبخر ، مما يسمح بترسيب الأغشية الرقيقة على ركائز.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

مجموعة قارب تبخير السيراميك

مجموعة قارب تبخير السيراميك

يمكن استخدامه لترسيب البخار للعديد من المعادن والسبائك. يمكن أن تتبخر معظم المعادن تمامًا دون خسارة. سلال التبخر قابلة لإعادة الاستخدام.

CVD Diamond للإدارة الحرارية

CVD Diamond للإدارة الحرارية

ألماس CVD للإدارة الحرارية: ألماس عالي الجودة مع موصلية حرارية تصل إلى 2000 واط/م ك، مثالي لموزعات الحرارة، وثنائيات الليزر، وتطبيقات GaN على الماس (GOD).

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

CVD البورون مخدر الماس

CVD البورون مخدر الماس

الماس المغطى بالبورون CVD: مادة متعددة الاستخدامات تتيح التوصيل الكهربائي المخصص والشفافية البصرية والخصائص الحرارية الاستثنائية للتطبيقات في مجال الإلكترونيات والبصريات والاستشعار وتقنيات الكم.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.

الفراغات أداة القطع

الفراغات أداة القطع

أدوات القطع الماسية CVD: مقاومة فائقة للتآكل، واحتكاك منخفض، وموصلية حرارية عالية للمواد غير الحديدية، والسيراميك، وتصنيع المركبات

CVD Diamond لأدوات التضميد

CVD Diamond لأدوات التضميد

استمتع بأداء لا يضاهى لفراغات CVD Diamond Dresser: التوصيل الحراري العالي، ومقاومة التآكل الاستثنائية، واستقلالية التوجيه.

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

915 ميجا هرتز MPCVD الماس آلة الماس 915MHz ونموها الفعال متعدد البلورات، يمكن أن تصل المساحة القصوى إلى 8 بوصات، ويمكن أن تصل مساحة النمو الفعال القصوى للبلورة الواحدة إلى 5 بوصات. تُستخدم هذه المعدات بشكل أساسي لإنتاج أفلام الماس متعدد الكريستالات كبيرة الحجم، ونمو الماس أحادي البلورة الطويل، ونمو الجرافين عالي الجودة في درجات حرارة منخفضة، وغيرها من المواد التي تتطلب طاقة توفرها بلازما الميكروويف للنمو.

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!


اترك رسالتك