معرفة ما هي خطوات عملية الرش؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوع

ما هي خطوات عملية الرش؟

الاسبترنج هو عملية تستخدم لترسيب الأغشية الرقيقة على ركيزة عن طريق قذف الذرات من مادة مستهدفة صلبة من خلال القصف بالأيونات النشطة. ويمكن تلخيص العملية في ست خطوات رئيسية:

  1. تفريغ غرفة الترسيب: يتم تفريغ حجرة الترسيب إلى ضغط منخفض للغاية، عادةً حوالي 10^-6 تورور. هذه الخطوة ضرورية لخلق بيئة محكومة خالية من الملوثات ولتسهيل تكوين البلازما.

  2. إدخال غاز الاخرق: يتم إدخال غاز خامل، مثل الأرجون أو الزينون، في الغرفة. هذا الغاز ضروري لتوليد البلازما وعملية الاخرق اللاحقة.

  3. تطبيق الجهد لتوليد البلازما: يتم تطبيق جهد بين قطبين كهربائيين في الغرفة لتوليد تفريغ متوهج، وهو نوع من البلازما. هذه البلازما أساسية لتأيين غاز الاخرق.

  4. تكوين الأيونات الموجبة: في التفريغ المتوهج، تتصادم الإلكترونات الحرة مع ذرات غاز الاخرق، مما يؤدي إلى تكوين أيونات موجبة. وهذه الأيونات ضرورية لعملية الاخرق لأنها تحمل الطاقة اللازمة لإزاحة الذرات من المادة المستهدفة.

  5. تسارع الأيونات الموجبة نحو الكاثود: بسبب الجهد المطبق، يتم تسريع الأيونات الموجبة لغاز الاخرق نحو المهبط (القطب السالب). ويضفي هذا التسارع طاقة حركية على الأيونات، وهو أمر ضروري لتأثير الاخرق.

  6. طرد وترسيب المادة المستهدفة: تتصادم الأيونات المتسارعة مع المادة المستهدفة، مما يتسبب في طرد الذرات أو الجزيئات. وتنتقل هذه الجسيمات المقذوفة عبر الحجرة وتترسب على الركيزة، مكونة طبقة رقيقة.

يمكن تصور عملية الاخرق كسلسلة من التصادمات على المستوى الذري، على غرار لعبة البلياردو، حيث تصطدم الأيونات (التي تعمل ككرة البلياردو) بمجموعة من الذرات (كرات البلياردو)، مما يتسبب في طرد بعض الذرات القريبة من السطح. وتقاس كفاءة هذه العملية من خلال مردود الرذاذ، وهو عدد الذرات المقذوفة لكل أيون ساقط. وتشمل العوامل التي تؤثر على مردود الاخرق طاقة الأيونات الساقطة وكتلها وكتل الذرات المستهدفة وطاقة الرابطة للمادة الصلبة.

يُستخدم الاسبترينغ على نطاق واسع في تطبيقات مختلفة، بما في ذلك تشكيل الأغشية الرقيقة وتقنيات النقش والطرق التحليلية، وذلك لقدرته على التحكم الدقيق في ترسيب المواد على المستوى الذري.

اكتشف دقة وكفاءة تقنية الرش بالتفريغ مع مجموعة معدات KINTEK SOLUTION عالية الجودة. بدءًا من غرف التفريغ إلى أهداف الرذاذ، تم تصميم حلولنا لتلبية المتطلبات المعقدة لترسيب الأغشية الرقيقة وما بعدها. ارتقِ بقدرات مختبرك من خلال أنظمة التفريغ المتطورة التي تضمن إنتاجية استثنائية وجودة فائقة للأغشية الرقيقة. استكشف مخزوننا اليوم وأحدث ثورة في أبحاثك مع حلول KINTEK SOLUTION المتفوقة في مجال الاخرق!

المنتجات ذات الصلة

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

اكتشف مزايا أفران التلبيد بالبلازما الشرارة لتحضير المواد بسرعة وبدرجة حرارة منخفضة. تسخين موحد ومنخفض التكلفة وصديق للبيئة.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

الألومنيوم عالي النقاء (Al) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

الألومنيوم عالي النقاء (Al) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد الألمنيوم (Al) عالية الجودة للاستخدام المخبري وبأسعار معقولة. نحن نقدم حلولًا مخصصة بما في ذلك أهداف الرش ، والمساحيق ، والرقائق ، والسبائك والمزيد لتلبية احتياجاتك الفريدة. اطلب الان!

سبائك التنغستن التيتانيوم (WTi) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

سبائك التنغستن التيتانيوم (WTi) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اكتشف مواد سبائك التنغستن التيتانيوم (WTi) للاستخدام المعملي بأسعار معقولة. تسمح لنا خبرتنا بإنتاج مواد مخصصة من درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة. اختر من بين مجموعة كبيرة من الأهداف المتساقطة والمساحيق والمزيد.

سبائك الزركونيوم النحاسية (CuZr) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

سبائك الزركونيوم النحاسية (CuZr) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اكتشف مجموعتنا من مواد سبائك الزركونيوم النحاسية بأسعار معقولة ، مصممة وفقًا لمتطلباتك الفريدة. تصفح مجموعتنا المختارة من أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد.

كبريتيد الزنك (ZnS) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

كبريتيد الزنك (ZnS) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد كبريتيد الزنك (ZnS) ميسورة التكلفة لتلبية احتياجات المختبر. نحن ننتج ونخصص مواد ZnS بدرجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة. اختر من بين مجموعة واسعة من أهداف الرش ، ومواد الطلاء ، والمساحيق ، والمزيد.

فرن تلبيد الضغط الفراغي

فرن تلبيد الضغط الفراغي

تم تصميم أفران تلبيد الضغط الفراغي لتطبيقات الضغط الساخن ذات درجة الحرارة العالية في تلبيد المعادن والسيراميك. تضمن ميزاته المتقدمة التحكم الدقيق في درجة الحرارة، وصيانة موثوقة للضغط، وتصميمًا قويًا للتشغيل السلس.

فرن الصهر بالحث الفراغي فرن الصهر القوسي

فرن الصهر بالحث الفراغي فرن الصهر القوسي

احصل على تركيبة سبيكة دقيقة مع فرن الصهر بالحث الفراغي الخاص بنا. مثالي للفضاء، والطاقة النووية، والصناعات الإلكترونية. اطلب الآن لصهر وسبك المعادن والسبائك بفعالية.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

فرن الضغط الساخن الأنبوبي الفراغي

فرن الضغط الساخن الأنبوبي الفراغي

تقليل ضغط التشكيل وتقصير وقت التلبيد باستخدام فرن الضغط الساخن الأنبوبي المفرغ من الهواء للمواد عالية الكثافة والحبيبات الدقيقة. مثالي للمعادن المقاومة للحرارة.

عالية النقاء الجرمانيوم (Ge) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

عالية النقاء الجرمانيوم (Ge) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد ذهبية عالية الجودة لاحتياجات مختبرك وبأسعار معقولة. تأتي خاماتنا المصنوعة من الذهب حسب الطلب بأشكال وأحجام وأنقى مختلفة لتناسب متطلباتك الفريدة. اكتشف مجموعتنا من أهداف الرش ومواد الطلاء والرقائق والمساحيق والمزيد.

عالية النقاء الرصاص (الرصاص) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

عالية النقاء الرصاص (الرصاص) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من الرصاص (Pb) لاحتياجات المختبر؟ لا تنظر إلى أبعد من اختيارنا المتخصص للخيارات القابلة للتخصيص ، بما في ذلك أهداف الرش ، ومواد الطلاء ، والمزيد. اتصل بنا اليوم للحصول على أسعار تنافسية!

عالية النقاء القصدير (Sn) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

عالية النقاء القصدير (Sn) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من القصدير (Sn) للاستخدام في المختبر؟ يقدم خبراؤنا مواد قابلة للتخصيص من القصدير (Sn) بأسعار معقولة. تحقق من مجموعتنا من المواصفات والأحجام اليوم!

كبريتيد القصدير (SnS2) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

كبريتيد القصدير (SnS2) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اعثر على مواد عالية الجودة من كبريتيد القصدير (SnS2) لمختبرك بأسعار معقولة. يقوم خبراؤنا بإنتاج المواد وتخصيصها لتلبية احتياجاتك الخاصة. تحقق من مجموعتنا من أهداف الرش ومواد الطلاء والمساحيق والمزيد.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.


اترك رسالتك