معرفة ما هي خطوات عملية ALD؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوع

ما هي خطوات عملية ALD؟

تنطوي عملية ترسيب الطبقة الذرية (ALD) على تفاعلات كيميائية متسلسلة وذاتية الحد بين السلائف في المرحلة الغازية والأنواع السطحية النشطة لترسيب أغشية رقيقة ذات تجانس عالٍ وتوافق ممتاز. وتتميز هذه العملية بقدرتها على التحكم في نمو الطبقة الذرية وتستخدم على نطاق واسع في صناعة أشباه الموصلات لتطوير طبقات عازلة رقيقة عالية الكيلوميترول للبوابة.

  1. مقدمة السلائف: تبدأ عملية التفريد الذري المستخلص الأحادي الذري بإدخال سليفة في غرفة معالجة عالية التفريغ تحتوي على الركيزة. وتشكل السليفة طبقة أحادية مرتبطة كيميائيًا على سطح الركيزة. هذه الخطوة محدودة ذاتيًا، مما يعني أن طبقة واحدة فقط من جزيئات السلائف ترتبط كيميائيًا بالسطح، مما يضمن التحكم الدقيق في سمك الطبقة.

  2. إزالة السلائف الزائدة: بعد تكوين الطبقة الأحادية، يتم إعادة تفريغ الحجرة وتطهيرها لإزالة أي سلائف زائدة غير ملتصقة كيميائيًا. تضمن هذه الخطوة بقاء الطبقة الأحادية المرغوبة فقط على الركيزة، مما يمنع الطبقات الإضافية غير المرغوب فيها.

  3. إدخال المفاعل: تتضمن الخطوة التالية إدخال مادة متفاعلة في الحجرة. وتتفاعل هذه المادة المتفاعلة كيميائيًا مع الطبقة الأحادية من السلائف لتكوين المركب المطلوب على سطح الركيزة. هذا التفاعل محدود ذاتيًا أيضًا، مما يضمن استهلاك الطبقة الأحادية من السليفة فقط.

  4. إزالة المنتجات الثانوية للتفاعل: بعد التفاعل، يتم ضخ أي منتجات ثانوية بعيدًا عن الغرفة، مما يمهد الطريق للدورة التالية من نبضات السلائف والمتفاعلات. هذه الخطوة ضرورية للحفاظ على نقاء وجودة الفيلم الذي يتم ترسيبه.

وتساهم كل دورة من نبضات السلائف والنبضات المتفاعلة بطبقة رقيقة جدًا في الفيلم الكلي، تتراوح سماكتها عادةً من 0.04 نانومتر إلى 0.10 نانومتر. تتكرر العملية حتى يتم تحقيق سمك الفيلم المطلوب. تشتهر عملية الاستحلاب الذائب الأحادي الذائب بتغطيتها الممتازة المتدرجة، حتى على الملامح ذات نسب العرض إلى الارتفاع، وقدرتها على ترسيب الأفلام بشكل متوقع وموحد، حتى بسماكات أقل من 10 نانومتر. وتجعل هذه الدقة والتحكم من تقنية ALD تقنية قيّمة في تصنيع الإلكترونيات الدقيقة وغيرها من الأجهزة الرقيقة.

استكشف مستقبل تكنولوجيا النانو مع أنظمة KINTEK SOLUTION المتطورة للتجريد الذائب الأحادي الذائب! توفر تقنيتنا المتقدمة للتحلل الذري المستطيل الذري تحكماً لا مثيل له في نمو الطبقة الذرية للأغشية الرقيقة، مما يضمن الدقة والتوحيد لتطبيقات أشباه الموصلات والإلكترونيات الدقيقة. جرب ترسيب الأغشية الرقيقة التي لا مثيل لها مع مطابقة استثنائية وتوحيد عالي - حيث يلتقي الابتكار مع التطبيق. اتصل ب KINTEK SOLUTION اليوم وارتقِ بأبحاثك إلى آفاق جديدة!

المنتجات ذات الصلة

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

آلة ضغط الحبيبات المعملية الأوتوماتيكية 20T / 30T / 40T / 60T / 100T

آلة ضغط الحبيبات المعملية الأوتوماتيكية 20T / 30T / 40T / 60T / 100T

استمتع بتجربة تحضير العينات بكفاءة مع ماكينة ضغط المختبر الأوتوماتيكية. مثالية لأبحاث المواد والصيدلة والسيراميك وغيرها. تتميز بحجم صغير ووظيفة الضغط الهيدروليكي مع ألواح تسخين. متوفرة بأحجام مختلفة.

مكبس التصفيح بالتفريغ

مكبس التصفيح بالتفريغ

استمتع بتجربة التصفيح النظيف والدقيق مع مكبس التصفيح بالتفريغ الهوائي. مثالية لربط الرقاقات وتحويلات الأغشية الرقيقة وتصفيح LCP. اطلب الآن!

مكبس الحبيبات المختبرية الأوتوماتيكي المسخن 25T / 30T / 50T

مكبس الحبيبات المختبرية الأوتوماتيكي المسخن 25T / 30T / 50T

قم بتحضير عيناتك بكفاءة مع مكبس المختبر الأوتوماتيكي المسخّن الخاص بنا. بفضل نطاق الضغط الذي يصل إلى 50T والتحكم الدقيق، فهي مثالية لمختلف الصناعات.

سبائك ألومنيوم الليثيوم (AlLi) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

سبائك ألومنيوم الليثيوم (AlLi) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد من سبائك الليثيوم والألومنيوم لمختبرك؟ تأتي مواد AlLi المُنتجة والمُصممة بخبرة في درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة ، بما في ذلك أهداف الرش والطلاء والمساحيق وغير ذلك. احصل على أسعار معقولة وحلول فريدة اليوم.

بوريد الألومنيوم (AlB2) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

بوريد الألومنيوم (AlB2) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من بوريد الألومنيوم لمختبرك؟ تأتي منتجاتنا AlB2 المصممة خصيصًا بأشكال وأحجام مختلفة لتناسب احتياجاتك. تحقق من مجموعتنا من أهداف الرش ومواد الطلاء والمساحيق والمزيد.

مكبس كريات المختبر الهيدروليكي الساخن 24T / 30T / 60T

مكبس كريات المختبر الهيدروليكي الساخن 24T / 30T / 60T

هل تبحث عن مكبس مختبر هيدروليكي ساخن موثوق به؟ يُعد طرازنا 24T/40T مثاليًا لمختبرات أبحاث المواد والصيدلة والسيراميك وغيرها. بفضل المساحة الصغيرة والقدرة على العمل داخل صندوق قفازات التفريغ، فهو الحل الفعال والمتعدد الاستخدامات لاحتياجات تحضير العينات الخاصة بك.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

مكبس الحبيبات المعملية الأوتوماتيكي المسخن المنفصل 30T/40T

مكبس الحبيبات المعملية الأوتوماتيكي المسخن المنفصل 30T/40T

اكتشف مكبسنا المختبري المسخّن الأوتوماتيكي المنفصل 30T/40T لتحضير العينات بدقة في أبحاث المواد والصيدلة والسيراميك والصناعات الإلكترونية. بفضل مساحتها الصغيرة وتسخينها حتى 300 درجة مئوية، فهي مثالية للمعالجة في بيئة التفريغ.

مواد تلميع القطب

مواد تلميع القطب

هل تبحث عن طريقة لتلميع الأقطاب الكهربائية لإجراء التجارب الكهروكيميائية؟ مواد التلميع لدينا هنا للمساعدة! اتبع تعليماتنا السهلة للحصول على أفضل النتائج.

الألومنيوم عالي النقاء (Al) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

الألومنيوم عالي النقاء (Al) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد الألمنيوم (Al) عالية الجودة للاستخدام المخبري وبأسعار معقولة. نحن نقدم حلولًا مخصصة بما في ذلك أهداف الرش ، والمساحيق ، والرقائق ، والسبائك والمزيد لتلبية احتياجاتك الفريدة. اطلب الان!

مكبس الحبيبات اليدوي المسخّن اليدوي المتكامل 120 مم / 180 مم / 200 مم / 300 مم

مكبس الحبيبات اليدوي المسخّن اليدوي المتكامل 120 مم / 180 مم / 200 مم / 300 مم

يمكنك معالجة العينات بالكبس الحراري بكفاءة باستخدام مكبس المختبر اليدوي المسخّن المتكامل الخاص بنا. مع نطاق تسخين يصل إلى 500 درجة مئوية، فهي مثالية لمختلف الصناعات.


اترك رسالتك