ترسيب البخار الكيميائي (CVD) هو عملية تُستخدم في المجوهرات لتحسين سطح المواد عن طريق ترسيب طلاءات رقيقة تحسّن من خصائص مثل التزليق وقابلية التآكل والقدرة على مقاومة العوامل الجوية والماء. ويتم تحقيق ذلك من خلال إدخال سلائف متطايرة في غرفة مفرغة من الهواء، وتسخينها إلى درجة حرارة التفاعل، والسماح لها بالتفاعل أو التفتت إلى مادة الطلاء المرغوبة، والتي ترتبط بعد ذلك بسطح مكون المجوهرات.
الشرح التفصيلي:
-
آلية العملية:
-
في عملية التفريد القابل للذوبان بالقنوات المقطعية يتم إدخال سلائف غازية، وهي عبارة عن بخار سائل يحمله الغاز، في غرفة ترسيب تحت ضغط منخفض. يتم تسخين الحجرة إلى درجة حرارة محددة، مما يؤدي إلى تفاعل السلائف مع جزيء آخر في الطور الغازي أو مع الركيزة المسخنة. وينتج عن هذا التفاعل تكوين مادة الطلاء المرغوبة التي تترسب على سطح الركيزة (في هذه الحالة، المجوهرات).المواد والتطبيقات في المجوهرات:
-
يمكن استخدام تقنية CVD لترسيب مواد مختلفة على المجوهرات، مما يعزز خصائصها الجمالية والوظيفية. على سبيل المثال، يمكن استخدامه لترسيب أغشية الألماس التي تُعتبر ذات قيمة عالية في المجوهرات لصلابتها ولمعانها. بالإضافة إلى ذلك، يمكن أن ترسب CVD معادن مثل التنغستن الذي يمكن استخدامه لتشكيل وصلات موصلة وتعزيز متانة مكونات المجوهرات.
-
المزايا والقيود:
تشمل مزايا تقنية CVD في المجوهرات القدرة على إنشاء طلاءات رقيقة وموحدة يمكنها تحسين خصائص سطح المجوهرات بشكل كبير. هذه التقنية سهلة التشغيل نسبيًا ولا تتطلب إعدادًا معقدًا. ومع ذلك، فإن لها قيود، مثل القيود الحرارية. يمكن أن تكون درجات الحرارة العالية المطلوبة للتفاعل كثيفة الاستهلاك للطاقة وقد لا تكون مناسبة لجميع أنواع المواد، خاصة تلك التي لها نقاط انصهار منخفضة.
أمثلة محددة في المجوهرات:
