معرفة ما هي طريقة الترسيب بالرش المغنطروني للترسيب؟ 4 نقاط أساسية يجب فهمها
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ شهرين

ما هي طريقة الترسيب بالرش المغنطروني للترسيب؟ 4 نقاط أساسية يجب فهمها

الرش بالمغناطيسية هو نوع من ترسيب البخار الفيزيائي (PVD) الذي ينطوي على استخدام مجال مغناطيسي لتعزيز عملية الرش بالمغناطيسية.

هذه الطريقة مفيدة بشكل خاص لترسيب الأغشية الرقيقة دون الحاجة إلى ذوبان أو تبخير المادة المصدر.

وهي مناسبة لمجموعة كبيرة من المواد والركائز.

ما هي طريقة الترسيب باستخدام الاخرق المغنطروني؟ 4 نقاط رئيسية يجب فهمها

ما هي طريقة الترسيب بالرش المغنطروني للترسيب؟ 4 نقاط أساسية يجب فهمها

1. آلية الاخرق المغنطروني

في رش المغنطرون المغنطروني، توضع المادة المستهدفة في غرفة مفرغة من الهواء.

يتم قصف الهدف بجسيمات عالية الطاقة، عادةً من غاز خامل مثل الأرجون.

يتم تطبيق مجال مغناطيسي عمودي على المجال الكهربائي.

يحبس هذا المجال المغناطيسي الإلكترونات بالقرب من سطح الهدف، مما يخلق منطقة بلازما كثيفة.

تعمل البلازما الكثيفة على تعزيز تأين غاز الرشاش، مما يؤدي إلى ارتفاع معدل قذف المواد المستهدفة.

2. مزايا الاخرق المغنطروني

معدلات ترسيب عالية: يؤدي استخدام المجال المغناطيسي إلى زيادة كبيرة في معدل رش المواد من الهدف، مما يجعل العملية أكثر كفاءة.

التوافق مع مواد مختلفة: نظرًا لأن مادة المصدر لا تحتاج إلى الصهر أو التبخير، يمكن استخدام الرش بالمغناطيسية مع مجموعة واسعة من المواد، بما في ذلك المعادن والسبائك والمركبات.

الحد الأدنى من الحمل الحراري: لا تعرض العملية الركيزة لدرجات حرارة عالية، وهو أمر مفيد للمواد الحساسة للحرارة.

3. تطبيقات الاخرق المغنطروني

يستخدم رش المغنطرون المغنطروني على نطاق واسع في مختلف الصناعات لترسيب الأغشية الرقيقة على الركائز.

وتشمل التطبيقات طلاء الإلكترونيات الدقيقة، وتعديل خصائص المواد، وإضافة أغشية زخرفية إلى المنتجات.

كما يُستخدم أيضًا في إنتاج الزجاج المعماري والتطبيقات الصناعية الأخرى واسعة النطاق.

4. اختلافات الاخرق المغنطروني

هناك العديد من الاختلافات في رش المغنطرون المغنطروني، بما في ذلك رش المغنطرون المغنطروني بالتيار المباشر (DC)، ورش المغنطرون المغنطروني النبضي بالتيار المستمر، ورش المغنطرون المغنطروني بالترددات الراديوية (RF).

ويتناسب كل نوع مع مواد وتطبيقات مختلفة.

مواصلة الاستكشاف، استشر خبرائنا

جرب الدقة المتطورة في الاخرق المغنطروني مع KINTEK SOLUTION!

تسخِّر أنظمتنا المتقدمة PVD قوة المجالات المغناطيسية للارتقاء بعمليات ترسيب الأغشية الرقيقة.

اكتشف معدلات الترسيب التي لا مثيل لها، وتعدد استخدامات المواد، والحد الأدنى من التأثير الحراري، كل ذلك مع الاستمتاع بالتوافق السلس مع أحدث معداتنا.

ارتقِ بأبحاثك وتصنيعك مع KINTEK SOLUTION - حيث يلتقي الابتكار مع الخبرة الصناعية.

اتصل بنا اليوم لاستكشاف مجموعتنا الكاملة من حلول الرش المغنطروني المغنطروني والارتقاء بتطبيقاتك إلى آفاق جديدة!

المنتجات ذات الصلة

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

الإلكترون شعاع بوتقة

الإلكترون شعاع بوتقة

في سياق تبخر حزمة الإلكترون ، البوتقة عبارة عن حاوية أو حامل مصدر يستخدم لاحتواء وتبخير المادة المراد ترسيبها على الركيزة.

فرن صهر القوس الكهربائي بالحث الفراغي

فرن صهر القوس الكهربائي بالحث الفراغي

قم بتطوير مواد قابلة للثبات بسهولة باستخدام نظام الغزل المصهور بالتفريغ. مثالي للبحث والعمل التجريبي باستخدام المواد غير المتبلورة والجريزوفولفين. اطلب الآن للحصول على نتائج فعالة.

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

اكتشف مزايا أفران التلبيد بالبلازما الشرارة لتحضير المواد بسرعة وبدرجة حرارة منخفضة. تسخين موحد ومنخفض التكلفة وصديق للبيئة.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.

كربيد البورون (BC) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

كربيد البورون (BC) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد كربيد البورون عالية الجودة بأسعار معقولة لاحتياجات معملك. نقوم بتخصيص مواد BC من درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة ، بما في ذلك أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد.

شعاع الإلكترون طلاء التبخر بوتقة النحاس خالية من الأكسجين

شعاع الإلكترون طلاء التبخر بوتقة النحاس خالية من الأكسجين

عند استخدام تقنيات تبخير الحزمة الإلكترونية ، فإن استخدام بوتقات النحاس الخالية من الأكسجين يقلل من خطر تلوث الأكسجين أثناء عملية التبخر.

شعاع الإلكترون التبخر طلاء التنغستن بوتقة / الموليبدينوم بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر طلاء التنغستن بوتقة / الموليبدينوم بوتقة

تُستخدم بوتقات التنجستن والموليبدينوم بشكل شائع في عمليات تبخر الحزمة الإلكترونية نظرًا لخصائصها الحرارية والميكانيكية الممتازة.

فرن تلبيد سلك الموليبدينوم فراغ

فرن تلبيد سلك الموليبدينوم فراغ

إن فرن تلبيد أسلاك الموليبدينوم الفراغي عبارة عن هيكل رأسي أو هيكل غرفة النوم، وهو مناسب لسحب المواد المعدنية وتلبيدها وتفريغها وتفريغها تحت ظروف الفراغ العالي ودرجات الحرارة العالية. كما أنها مناسبة لمعالجة نزع الهيدروكسيل لمواد الكوارتز.

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

915 ميجا هرتز MPCVD الماس آلة الماس 915MHz ونموها الفعال متعدد البلورات، يمكن أن تصل المساحة القصوى إلى 8 بوصات، ويمكن أن تصل مساحة النمو الفعال القصوى للبلورة الواحدة إلى 5 بوصات. تُستخدم هذه المعدات بشكل أساسي لإنتاج أفلام الماس متعدد الكريستالات كبيرة الحجم، ونمو الماس أحادي البلورة الطويل، ونمو الجرافين عالي الجودة في درجات حرارة منخفضة، وغيرها من المواد التي تتطلب طاقة توفرها بلازما الميكروويف للنمو.

بوتقة تبخر الجرافيت

بوتقة تبخر الجرافيت

أوعية للتطبيقات ذات درجات الحرارة العالية ، حيث يتم الاحتفاظ بالمواد في درجات حرارة عالية للغاية حتى تتبخر ، مما يسمح بترسيب الأغشية الرقيقة على ركائز.

هدف رش فلوريد البوتاسيوم (KF) / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هدف رش فلوريد البوتاسيوم (KF) / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد عالية الجودة من فلوريد البوتاسيوم (KF) لاحتياجات مختبرك وبأسعار رائعة. تناسب نقاءاتنا وأشكالنا وأحجامنا المخصصة متطلباتك الفريدة. اعثر على الأهداف المتساقطة ومواد الطلاء والمزيد.

أكسيد المغنيسيوم عالي النقاء (MgO) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

أكسيد المغنيسيوم عالي النقاء (MgO) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

اكتشف مجموعتنا من مواد أكسيد المغنيسيوم (MgO) المصممة للاستخدام في المختبر وبأسعار معقولة. نحن نقدم أشكالًا وأحجامًا مختلفة ، بما في ذلك أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد.

المغنيسيوم عالي النقاء (Mn) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

المغنيسيوم عالي النقاء (Mn) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

هل تبحث عن مواد مغنيسيوم (Mn) ميسورة التكلفة لاحتياجات مختبرك؟ لقد جعلتك الأحجام والأشكال والنقاء المخصصة لدينا مغطاة. اكتشف مجموعتنا المتنوعة اليوم!

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.


اترك رسالتك