معرفة كيف يعمل الاخرق المغنطروني؟ شرح 7 خطوات رئيسية
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ شهرين

كيف يعمل الاخرق المغنطروني؟ شرح 7 خطوات رئيسية

الرش بالمغناطيسية هو تقنية ترسيب بخار فيزيائي (PVD) تستخدم لترسيب الأغشية الرقيقة على الركائز.

وتعمل هذه التقنية عن طريق تأيين المادة المستهدفة داخل غرفة تفريغ باستخدام بلازما مولدة بواسطة مجال مغناطيسي.

ثم تتبخر المادة المؤينة المستهدفة أو تتبخر، وتترسب على الركيزة.

كيف يعمل الرش المغنطروني المغنطروني؟ شرح 7 خطوات رئيسية

كيف يعمل الاخرق المغنطروني؟ شرح 7 خطوات رئيسية

1. إعداد غرفة التفريغ

تبدأ العملية في حجرة تفريغ الهواء حيث يتم تقليل الضغط لتسهيل عملية الاخرق.

تقلل هذه البيئة من وجود غازات أخرى يمكن أن تتداخل مع عملية الترسيب.

2. إدخال الغاز الخامل

يتم إدخال غاز خامل، عادةً الأرجون، في الغرفة.

غاز الأرجون ضروري لأنه يعمل كوسيط يحدث من خلاله التأين.

3. توليد البلازما

تولد صفائف المغناطيس داخل الحجرة مجالاً مغناطيسياً فوق سطح الهدف.

ويولد هذا المجال المغناطيسي، إلى جانب الجهد العالي المطبق على الهدف، بلازما بالقرب من الهدف.

تتكون البلازما من ذرات غاز الأرجون وأيونات الأرجون والإلكترونات الحرة.

4. التأين والرشّ

تتصادم الإلكترونات الموجودة في البلازما مع ذرات الأرجون، مما يخلق أيونات الأرجون موجبة الشحنة.

تنجذب هذه الأيونات إلى الهدف سالب الشحنة.

وعندما تصطدم بالهدف، تقذف الذرات من المادة المستهدفة.

5. الترسيب على الركيزة

تنتقل الذرات المقذوفة من المادة المستهدفة عبر الفراغ وتترسب على الركيزة مكونة طبقة رقيقة.

ويتم التحكم في هذه العملية بشكل كبير، مما يسمح بالترسيب الدقيق للمواد ذات الخصائص المحددة.

6. التحكم بواسطة المغنطرونات

تلعب المغنطرونات دوراً حاسماً في التحكم في مسار الذرات المقذوفة.

فهي تساعد في الحفاظ على كثافة البلازما بالقرب من الهدف، مما يعزز كفاءة عملية الرش بالمغناطيس.

ويؤدي المجال المغناطيسي إلى حصر الإلكترونات بالقرب من الهدف، مما يزيد من تفاعلها مع غاز الأرجون وبالتالي معدل التأين.

7. تكوين الغشاء الرقيق

تتكثف الذرات التي يتم قذفها من الهدف على سطح الركيزة مكونة طبقة رقيقة.

يمكن أن يكون هذا الفيلم من مواد مختلفة اعتمادًا على تركيبة الهدف.

مواصلة الاستكشاف، استشر خبرائنا

اكتشف الإمكانيات المتقدمة لمعدات KINTEK SOLUTION الدقيقة لتلبية احتياجاتك من ترسيب الأغشية الرقيقة!

استفد من قوة الرش المغنطروني المغنطروني من خلال تقنيتنا المتطورة المصممة لتحكم وكفاءة لا مثيل لها.

ارتقِ بأداء مختبرك اليوم واختبر فرق KINTEK في جودة الأغشية الرقيقة وموثوقية العملية.

استكشف مجموعتنا وأحدث ثورة في أبحاثك مع KINTEK SOLUTION.

المنتجات ذات الصلة

فرن صهر القوس الكهربائي بالحث الفراغي

فرن صهر القوس الكهربائي بالحث الفراغي

قم بتطوير مواد قابلة للثبات بسهولة باستخدام نظام الغزل المصهور بالتفريغ. مثالي للبحث والعمل التجريبي باستخدام المواد غير المتبلورة والجريزوفولفين. اطلب الآن للحصول على نتائج فعالة.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

اكتشف مزايا أفران التلبيد بالبلازما الشرارة لتحضير المواد بسرعة وبدرجة حرارة منخفضة. تسخين موحد ومنخفض التكلفة وصديق للبيئة.

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

فرن تلبيد سلك التنغستن فراغ صغير

فرن تلبيد سلك التنغستن فراغ صغير

فرن تلبيد سلك التنغستن بالفراغ الصغير هو عبارة عن فرن فراغ تجريبي مدمج مصمم خصيصًا للجامعات ومعاهد البحث العلمي. يتميز الفرن بغطاء ملحوم باستخدام الحاسب الآلي وأنابيب مفرغة لضمان التشغيل الخالي من التسرب. التوصيلات الكهربائية سريعة التوصيل تسهل عملية النقل والتصحيح، كما أن خزانة التحكم الكهربائية القياسية آمنة ومريحة في التشغيل.

فرن تلبيد سلك الموليبدينوم فراغ

فرن تلبيد سلك الموليبدينوم فراغ

إن فرن تلبيد أسلاك الموليبدينوم الفراغي عبارة عن هيكل رأسي أو هيكل غرفة النوم، وهو مناسب لسحب المواد المعدنية وتلبيدها وتفريغها وتفريغها تحت ظروف الفراغ العالي ودرجات الحرارة العالية. كما أنها مناسبة لمعالجة نزع الهيدروكسيل لمواد الكوارتز.

الإلكترون شعاع بوتقة

الإلكترون شعاع بوتقة

في سياق تبخر حزمة الإلكترون ، البوتقة عبارة عن حاوية أو حامل مصدر يستخدم لاحتواء وتبخير المادة المراد ترسيبها على الركيزة.

المغنيسيوم عالي النقاء (Mn) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

المغنيسيوم عالي النقاء (Mn) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

هل تبحث عن مواد مغنيسيوم (Mn) ميسورة التكلفة لاحتياجات مختبرك؟ لقد جعلتك الأحجام والأشكال والنقاء المخصصة لدينا مغطاة. اكتشف مجموعتنا المتنوعة اليوم!

فرن الصهر بالحث الفراغي فرن الصهر القوسي

فرن الصهر بالحث الفراغي فرن الصهر القوسي

احصل على تركيبة سبيكة دقيقة مع فرن الصهر بالحث الفراغي الخاص بنا. مثالي للفضاء، والطاقة النووية، والصناعات الإلكترونية. اطلب الآن لصهر وسبك المعادن والسبائك بفعالية.

فرن الغلاف الجوي المتحكم فيه بحزام شبكي

فرن الغلاف الجوي المتحكم فيه بحزام شبكي

اكتشف فرن التلبيد الشبكي بالحزام الشبكي KT-MB - وهو مثالي للتلبيد بدرجة حرارة عالية للمكونات الإلكترونية والعوازل الزجاجية. متاح لبيئات الهواء الطلق أو بيئات الغلاف الجوي الخاضعة للتحكم.

فرن تفريغ الموليبدينوم

فرن تفريغ الموليبدينوم

اكتشف مزايا فرن تفريغ الموليبدينوم عالي التكوين المزود بدرع عازل للحرارة. مثالي لبيئات التفريغ عالية النقاء مثل نمو بلورات الياقوت والمعالجة الحرارية.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

KT-PE12 Slide PECVD System: نطاق طاقة واسع ، تحكم في درجة الحرارة قابل للبرمجة ، تسخين / تبريد سريع مع نظام انزلاقي ، تحكم في التدفق الكتلي MFC ومضخة تفريغ.

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

شعاع الإلكترون طلاء التبخر بوتقة النحاس خالية من الأكسجين

شعاع الإلكترون طلاء التبخر بوتقة النحاس خالية من الأكسجين

عند استخدام تقنيات تبخير الحزمة الإلكترونية ، فإن استخدام بوتقات النحاس الخالية من الأكسجين يقلل من خطر تلوث الأكسجين أثناء عملية التبخر.

فرن الصهر بالحث الفراغي

فرن الصهر بالحث الفراغي

اختبر الصهر الدقيق مع فرن الصهر بالرفع الفراغي. مثالية للمعادن أو السبائك عالية نقطة الانصهار ، مع التكنولوجيا المتقدمة للصهر الفعال. اطلب الآن للحصول على نتائج عالية الجودة.


اترك رسالتك