معرفة ما هي الخطوات ال 6 الرئيسية في عملية الاخرق؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ شهرين

ما هي الخطوات ال 6 الرئيسية في عملية الاخرق؟

الاخرق هو طريقة تستخدم لإنشاء أغشية رقيقة على سطح ما.

هذه التقنية مهمة في العديد من الصناعات، مثل الإلكترونيات والبصريات.

وتتضمن العملية عدة خطوات رئيسية تضمن صنع الفيلم بشكل صحيح.

ما هي الخطوات ال 6 الرئيسية في عملية الاخرق؟

ما هي الخطوات ال 6 الرئيسية في عملية الاخرق؟

1. إنشاء فراغ

أولاً، يتم تفريغ الغرفة التي تتم فيها العملية من الهواء.

ويتم ذلك إلى ضغط منخفض جدًا، حوالي 10^-6 تور.

هذه الخطوة مهمة لأنها تحافظ على نظافة البيئة.

2. إدخال غاز الاخرق

بعد ذلك، يتم إدخال غاز مثل الأرجون إلى الحجرة.

ويعتمد نوع الغاز المستخدم على المادة التي يتم تصنيعها.

3. توليد البلازما

يتم تطبيق جهد كهربائي لإنشاء تفريغ متوهج.

هذا التفريغ هو نوع من البلازما، وهو ضروري للخطوة التالية.

4. تأيين الغاز

في البلازما، تصطدم الإلكترونات بذرات الغاز.

وهذا يجعل الذرات تفقد الإلكترونات وتصبح أيونات موجبة الشحنة.

5. تسريع الأيونات نحو الهدف

ثم يتم دفع الأيونات الموجبة نحو المادة المستهدفة.

تضرب هذه الأيونات الهدف بطاقة كبيرة.

6. ترسيب المادة المقذوفة

تتسبب الضربات عالية الطاقة في خروج مادة من الهدف.

ثم تنتقل هذه المادة بعد ذلك إلى السطح، لتشكل طبقة رقيقة.

مواصلة الاستكشاف، استشر خبرائنا

أطلق العنان لقوة الدقة! اكتشف لماذا تُعد أنظمة الرش الاخرق من KINTEK SOLUTION المعيار الذهبي في ترسيب الأغشية الرقيقة.

بفضل التكنولوجيا المتطورة والفهم العميق لعملية الاخرق بدءًا من إنشاء التفريغ إلى تسريع الأيونات، تضمن حلولنا نقاءً ودقة عالية.

ارتقِ بأبحاثك أو تصنيعك إلى آفاق جديدة - اختبر ميزة KINTEK اليوم!

المنتجات ذات الصلة

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

اكتشف مزايا أفران التلبيد بالبلازما الشرارة لتحضير المواد بسرعة وبدرجة حرارة منخفضة. تسخين موحد ومنخفض التكلفة وصديق للبيئة.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

فرن الصهر بالحث الفراغي فرن الصهر القوسي

فرن الصهر بالحث الفراغي فرن الصهر القوسي

احصل على تركيبة سبيكة دقيقة مع فرن الصهر بالحث الفراغي الخاص بنا. مثالي للفضاء، والطاقة النووية، والصناعات الإلكترونية. اطلب الآن لصهر وسبك المعادن والسبائك بفعالية.

فرن الضغط الساخن الأنبوبي الفراغي

فرن الضغط الساخن الأنبوبي الفراغي

تقليل ضغط التشكيل وتقصير وقت التلبيد باستخدام فرن الضغط الساخن الأنبوبي المفرغ من الهواء للمواد عالية الكثافة والحبيبات الدقيقة. مثالي للمعادن المقاومة للحرارة.

عالية النقاء القصدير (Sn) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

عالية النقاء القصدير (Sn) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من القصدير (Sn) للاستخدام في المختبر؟ يقدم خبراؤنا مواد قابلة للتخصيص من القصدير (Sn) بأسعار معقولة. تحقق من مجموعتنا من المواصفات والأحجام اليوم!

سبائك التنغستن التيتانيوم (WTi) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

سبائك التنغستن التيتانيوم (WTi) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اكتشف مواد سبائك التنغستن التيتانيوم (WTi) للاستخدام المعملي بأسعار معقولة. تسمح لنا خبرتنا بإنتاج مواد مخصصة من درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة. اختر من بين مجموعة كبيرة من الأهداف المتساقطة والمساحيق والمزيد.

سبائك الزركونيوم النحاسية (CuZr) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

سبائك الزركونيوم النحاسية (CuZr) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اكتشف مجموعتنا من مواد سبائك الزركونيوم النحاسية بأسعار معقولة ، مصممة وفقًا لمتطلباتك الفريدة. تصفح مجموعتنا المختارة من أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد.

كبريتيد الزنك (ZnS) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

كبريتيد الزنك (ZnS) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد كبريتيد الزنك (ZnS) ميسورة التكلفة لتلبية احتياجات المختبر. نحن ننتج ونخصص مواد ZnS بدرجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة. اختر من بين مجموعة واسعة من أهداف الرش ، ومواد الطلاء ، والمساحيق ، والمزيد.

كبريتيد القصدير (SnS2) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

كبريتيد القصدير (SnS2) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اعثر على مواد عالية الجودة من كبريتيد القصدير (SnS2) لمختبرك بأسعار معقولة. يقوم خبراؤنا بإنتاج المواد وتخصيصها لتلبية احتياجاتك الخاصة. تحقق من مجموعتنا من أهداف الرش ومواد الطلاء والمساحيق والمزيد.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

الإلكترون شعاع بوتقة

الإلكترون شعاع بوتقة

في سياق تبخر حزمة الإلكترون ، البوتقة عبارة عن حاوية أو حامل مصدر يستخدم لاحتواء وتبخير المادة المراد ترسيبها على الركيزة.

فرن تلبيد الضغط الفراغي

فرن تلبيد الضغط الفراغي

تم تصميم أفران تلبيد الضغط الفراغي لتطبيقات الضغط الساخن ذات درجة الحرارة العالية في تلبيد المعادن والسيراميك. تضمن ميزاته المتقدمة التحكم الدقيق في درجة الحرارة، وصيانة موثوقة للضغط، وتصميمًا قويًا للتشغيل السلس.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.


اترك رسالتك