معرفة ما هو مبدأ ترسيب شعاع الإلكترون؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوع

ما هو مبدأ ترسيب شعاع الإلكترون؟

ينطوي مبدأ الترسيب بالحزمة الإلكترونية على استخدام شعاع إلكتروني لتسخين وتبخير مادة في الفراغ، والتي تترسب بعد ذلك كغشاء رقيق على ركيزة. هذه العملية هي شكل من أشكال ترسيب البخار الفيزيائي (PVD) وهي فعالة بشكل خاص بسبب قدرتها على تحقيق معدلات ترسيب عالية وكفاءة استخدام المواد في درجات حرارة منخفضة نسبياً على الركيزة.

الشرح التفصيلي:

  1. توليد شعاع الإلكترون:

  2. تبدأ العملية بتوليد شعاع إلكتروني في مدفع إلكتروني. يحتوي هذا المسدس على خيوط مصنوعة عادةً من التنجستن، والتي يتم تسخينها عن طريق تمرير تيار عالي الجهد من خلاله. ويسبب هذا التسخين انبعاثاً بالتأين الحراري، مما يؤدي إلى إطلاق إلكترونات من سطح الفتيل. ثم يتم تسريع هذه الإلكترونات وتركيزها في حزمة باستخدام المجالات الكهربائية والمغناطيسية.انتشار وتركيز حزمة الإلكترونات:

  3. يتم إخلاء كل من غرفة العمل ونظام توليد الحزمة لخلق بيئة فراغية. هذا التفريغ ضروري لانتشار حزمة الإلكترونات دون عوائق ولمنع الإلكترونات من الاصطدام بجزيئات الهواء. ثم يتم توجيه الحزمة وتركيزها على بوتقة تحتوي على المادة المراد تبخيرها.

  4. تسخين وتبخير المادة:

  5. عندما تصطدم حزمة الإلكترونات بالمادة الموجودة في البوتقة، تنتقل الطاقة الحركية للإلكترونات إلى المادة، مما يؤدي إلى تسخينها. واعتمادًا على المادة، قد تنصهر أولاً ثم تتبخر (كما في حالة المعادن مثل الألومنيوم) أو تتبخر مباشرة (كما في حالة السيراميك). ويحدث التبخر لأن الطاقة الصادرة من الشعاع ترفع درجة حرارة المادة إلى درجة غليانها، مما يحولها إلى بخار.ترسيب الغشاء الرقيق:

تنتقل المادة المتبخرة بعد ذلك من البوتقة وتترسب على ركيزة موضوعة داخل غرفة التفريغ. ويشكل هذا الترسيب طبقة رقيقة على الركيزة. ويمكن التحكم في هذه العملية بشكل كبير، مما يسمح بالتحكم الدقيق في سمك وتوحيد الطبقة المترسبة.المزايا والتطبيقات:

المنتجات ذات الصلة

شعاع الإلكترون طلاء التبخر بوتقة النحاس خالية من الأكسجين

شعاع الإلكترون طلاء التبخر بوتقة النحاس خالية من الأكسجين

عند استخدام تقنيات تبخير الحزمة الإلكترونية ، فإن استخدام بوتقات النحاس الخالية من الأكسجين يقلل من خطر تلوث الأكسجين أثناء عملية التبخر.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

شعاع الإلكترون التبخر طلاء التنغستن بوتقة / الموليبدينوم بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر طلاء التنغستن بوتقة / الموليبدينوم بوتقة

تُستخدم بوتقات التنجستن والموليبدينوم بشكل شائع في عمليات تبخر الحزمة الإلكترونية نظرًا لخصائصها الحرارية والميكانيكية الممتازة.

الإلكترون شعاع بوتقة

الإلكترون شعاع بوتقة

في سياق تبخر حزمة الإلكترون ، البوتقة عبارة عن حاوية أو حامل مصدر يستخدم لاحتواء وتبخير المادة المراد ترسيبها على الركيزة.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

بوتقة تبخر الجرافيت

بوتقة تبخر الجرافيت

أوعية للتطبيقات ذات درجات الحرارة العالية ، حيث يتم الاحتفاظ بالمواد في درجات حرارة عالية للغاية حتى تتبخر ، مما يسمح بترسيب الأغشية الرقيقة على ركائز.

كربيد البورون (BC) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

كربيد البورون (BC) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد كربيد البورون عالية الجودة بأسعار معقولة لاحتياجات معملك. نقوم بتخصيص مواد BC من درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة ، بما في ذلك أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد.

شعاع الإلكترون طلاء التبخر موصل بوتقة نيتريد البورون (بوتقة BN)

شعاع الإلكترون طلاء التبخر موصل بوتقة نيتريد البورون (بوتقة BN)

بوتقة نيتريد البورون عالية النقاء وسلسة لطلاء تبخير شعاع الإلكترون ، مع أداء دوران حراري ودرجات حرارة عالية.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

طلاء تبخر شعاع الإلكترون / طلاء الذهب / بوتقة التنجستن / بوتقة الموليبدينوم

طلاء تبخر شعاع الإلكترون / طلاء الذهب / بوتقة التنجستن / بوتقة الموليبدينوم

تعمل هذه البوتقات كحاويات لمادة الذهب التي تم تبخيرها بواسطة حزمة تبخير الإلكترون مع توجيه شعاع الإلكترون بدقة للترسيب الدقيق.

نيتريد السيليكون (كربيد السيليكون) سيراميك دقيق لتصنيع الألواح الخزفية

نيتريد السيليكون (كربيد السيليكون) سيراميك دقيق لتصنيع الألواح الخزفية

صفيحة نيتريد السيليكون هي مادة خزفية شائعة الاستخدام في صناعة المعادن بسبب أدائها المنتظم في درجات حرارة عالية.

السيليكون عالي النقاء (Si) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

السيليكون عالي النقاء (Si) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من السيليكون لمختبرك؟ لا مزيد من البحث! تأتي مواد السيليكون (Si) المُنتجة حسب الطلب لدينا في درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة لتناسب متطلباتك الفريدة. تصفح مجموعتنا المختارة من الأهداف المتساقطة والمساحيق والرقائق والمزيد. اطلب الان!

السيليكون بالأشعة تحت الحمراء / السيليكون عالي المقاومة / عدسة السيليكون البلورية الأحادية

السيليكون بالأشعة تحت الحمراء / السيليكون عالي المقاومة / عدسة السيليكون البلورية الأحادية

يعتبر السيليكون (Si) على نطاق واسع أحد أكثر المواد المعدنية والبصرية متانة للتطبيقات في نطاق الأشعة تحت الحمراء القريبة (NIR) ، حوالي 1 ميكرومتر إلى 6 ميكرومتر.

الزجاج البصري المصقول من الصودا والجير للمختبر

الزجاج البصري المصقول من الصودا والجير للمختبر

يتم إنشاء زجاج الصودا والجير ، المفضل على نطاق واسع كركيزة عازلة لترسب الغشاء الرقيق / السميك ، عن طريق الزجاج المصهور العائم على القصدير المصهور. تضمن هذه الطريقة سماكة موحدة وأسطحًا مسطحة بشكل استثنائي.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

ورقة زجاج الكوارتز البصري مقاومة درجات الحرارة العالية

ورقة زجاج الكوارتز البصري مقاومة درجات الحرارة العالية

اكتشف قوة الألواح الزجاجية الضوئية من أجل المعالجة الدقيقة للضوء في الاتصالات السلكية واللاسلكية وعلم الفلك وغيرهما. أطلق العنان للتطورات في التكنولوجيا البصرية بوضوح استثنائي وخصائص انكسار مخصصة.

عالية النقاء ثاني أكسيد السيليكون (SiO2) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

عالية النقاء ثاني أكسيد السيليكون (SiO2) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

هل تبحث عن مواد ثاني أكسيد السيليكون لمختبرك؟ تأتي مواد SiO2 المصممة بخبرة في درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة. تصفح مجموعتنا الواسعة من المواصفات اليوم!

فرن الضغط الساخن الأنبوبي الفراغي

فرن الضغط الساخن الأنبوبي الفراغي

تقليل ضغط التشكيل وتقصير وقت التلبيد باستخدام فرن الضغط الساخن الأنبوبي المفرغ من الهواء للمواد عالية الكثافة والحبيبات الدقيقة. مثالي للمعادن المقاومة للحرارة.

غشاء تبادل الأنيون

غشاء تبادل الأنيون

أغشية تبادل الأنيون (AEMs) عبارة عن أغشية شبه قابلة للنفاذ ، وعادة ما تكون مصنوعة من متماثلات شاردة ، مصممة لتوصيل الأنيونات ولكنها ترفض الغازات مثل الأكسجين أو الهيدروجين.

لوحة الكربون الجرافيت - متوازنة

لوحة الكربون الجرافيت - متوازنة

يتم ضغط الجرافيت الكربوني المتساوي الساكن من الجرافيت عالي النقاء. إنها مادة ممتازة لتصنيع فوهات الصواريخ ومواد التباطؤ والمواد العاكسة لمفاعل الجرافيت.

رغوة النيكل

رغوة النيكل

تعتبر رغوة النيكل عملية معالجة عميقة عالية التقنية ، ويتم تصنيع النيكل المعدني في إسفنجة رغوية ، ذات هيكل شبكي كامل ثلاثي الأبعاد.

رغوة نحاسية

رغوة نحاسية

تتميز رغوة النحاس بموصلية حرارية جيدة ويمكن استخدامها على نطاق واسع للتوصيل الحراري وتبديد الحرارة للمحركات / الأجهزة الكهربائية والمكونات الإلكترونية.

نيتريد البورون (BN) لوح سيراميك

نيتريد البورون (BN) لوح سيراميك

لا تستخدم ألواح السيراميك نيتريد البورون (BN) ماء الألمنيوم للرطوبة ، ويمكن أن توفر حماية شاملة لسطح المواد التي تلامس مباشرة الألمنيوم المصهور والمغنيسيوم وسبائك الزنك وخبثها.

نيتريد الألومنيوم (AlN) صفائح خزفية

نيتريد الألومنيوم (AlN) صفائح خزفية

نيتريد الألومنيوم (AlN) له خصائص التوافق الجيد مع السيليكون. لا يتم استخدامه فقط كمساعد تلبيد أو مرحلة تقوية للخزف الإنشائي ، ولكن أداءه يفوق بكثير أداء الألومينا.

ورق كربون للبطاريات

ورق كربون للبطاريات

غشاء تبادل البروتون الرقيق مع مقاومة منخفضة ؛ الموصلية العالية للبروتون كثافة تيار نفاذ الهيدروجين المنخفضة ؛ حياة طويلة؛ مناسب لفواصل الإلكتروليت في خلايا وقود الهيدروجين وأجهزة الاستشعار الكهروكيميائية.


اترك رسالتك