معرفة ما نوع الغاز المطلوب لتكوين البلازما بطريقة PVD؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوع

ما نوع الغاز المطلوب لتكوين البلازما بطريقة PVD؟

لتكوين البلازما في طريقة الترسيب الفيزيائي للبخار (PVD)، يلزم وجود غاز بخصائص محددة. يجب أن يكون الغاز قادرًا على التأين بسهولة ويجب ألا يتفاعل كيميائيًا مع المادة المستهدفة. يشيع استخدام غاز الأرجون لهذا الغرض بسبب طبيعته الخاملة ووزنه الذري المناسب.

غاز الأرجون في PVD:

الأرجون غاز خامل، مما يعني أنه لا يتحد كيميائيًا مع الذرات أو المركبات الأخرى. هذه الخاصية مهمة للغاية في تقنية PVD لأنها تضمن بقاء مادة الطلاء نقية عند انتقالها إلى مرحلة البخار في غرفة التفريغ. ويُعد استخدام الأرجون في عملية الرش بالرش، وهي طريقة شائعة في الطلاء بالبطاريات الفائقة البخرية، مفيدًا بشكل خاص لأن وزنه الذري كافٍ للتأثير على ذرات المادة المستهدفة دون التسبب في أي تفاعلات كيميائية. وهذا يسمح بالنقل الفعال لبخار المادة المستهدفة إلى الركيزة دون تلوث.توليد البلازما في تقنية PVD:

في تقنية PVD، يتم توليد البلازما عادةً عن طريق تطبيق جهد كهربائي على أقطاب كهربائية في غاز عند ضغوط منخفضة. ويمكن تسهيل هذه العملية من خلال أنواع مختلفة من مصادر الطاقة، مثل الترددات الراديوية (RF) أو الترددات المتوسطة (MF) أو طاقة التيار المباشر (DC). تعمل الطاقة الصادرة من هذه المصادر على تأيين الغاز، مما يؤدي إلى تكوين إلكترونات وأيونات وجذور متعادلة. وفي حالة الأرغون، تكون عملية التأين حاسمة لإنشاء وسط البلازما الضروري لعملية الرش بالرش. وتعمل البلازما على تعزيز كفاءة الترسيب من خلال تعزيز التفاعلات الكيميائية وإنشاء مواقع نشطة على الركائز، وهي ضرورية لتشكيل الأغشية الرقيقة ذات الخصائص المرغوبة.

دور البلازما في طلاء PVD:

المنتجات ذات الصلة

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

KT-PE12 Slide PECVD System: نطاق طاقة واسع ، تحكم في درجة الحرارة قابل للبرمجة ، تسخين / تبريد سريع مع نظام انزلاقي ، تحكم في التدفق الكتلي MFC ومضخة تفريغ.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

915 ميجا هرتز MPCVD الماس آلة الماس 915MHz ونموها الفعال متعدد البلورات، يمكن أن تصل المساحة القصوى إلى 8 بوصات، ويمكن أن تصل مساحة النمو الفعال القصوى للبلورة الواحدة إلى 5 بوصات. تُستخدم هذه المعدات بشكل أساسي لإنتاج أفلام الماس متعدد الكريستالات كبيرة الحجم، ونمو الماس أحادي البلورة الطويل، ونمو الجرافين عالي الجودة في درجات حرارة منخفضة، وغيرها من المواد التي تتطلب طاقة توفرها بلازما الميكروويف للنمو.

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

اكتشف مزايا أفران التلبيد بالبلازما الشرارة لتحضير المواد بسرعة وبدرجة حرارة منخفضة. تسخين موحد ومنخفض التكلفة وصديق للبيئة.

خلية تفاعل تدفق السائل خلية الانتشار الغازي

خلية تفاعل تدفق السائل خلية الانتشار الغازي

هل تبحث عن خلية التحليل الكهربائي لنشر الغاز عالية الجودة؟ تتميز خلية تفاعل تدفق السائل لدينا بمقاومة استثنائية للتآكل ومواصفات كاملة ، مع خيارات قابلة للتخصيص متاحة لتناسب احتياجاتك. اتصل بنا اليوم!

عالية النقاء البلاديوم (Pd) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

عالية النقاء البلاديوم (Pd) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد بلاديوم ميسورة التكلفة لمختبرك؟ نحن نقدم حلولًا مخصصة بنقاوة وأشكال وأحجام مختلفة - من أهداف الرش إلى مساحيق نانومتر ومساحيق الطباعة ثلاثية الأبعاد. تصفح مجموعتنا الآن!

فرن الصهر بالحث الفراغي فرن الصهر القوسي

فرن الصهر بالحث الفراغي فرن الصهر القوسي

احصل على تركيبة سبيكة دقيقة مع فرن الصهر بالحث الفراغي الخاص بنا. مثالي للفضاء، والطاقة النووية، والصناعات الإلكترونية. اطلب الآن لصهر وسبك المعادن والسبائك بفعالية.


اترك رسالتك