معرفة ما هو الترسيب الفراغي أو التبخر الحراري الفراغي VTE؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوع

ما هو الترسيب الفراغي أو التبخر الحراري الفراغي VTE؟

الترسيب بالتفريغ، وتحديداً التبخير الحراري أو التبخير الحراري بالتفريغ (VTE)، هو طريقة تستخدم في التصنيع والأبحاث لترسيب أغشية رقيقة من المواد على ركيزة. تتضمن هذه العملية تسخين المادة في حجرة تفريغ الهواء حتى تتبخر ثم تتكثف على الركيزة.

العملية:

تبدأ عملية التبخير الحراري بغرفة تفريغ، مصنوعة عادةً من الفولاذ المقاوم للصدأ، والتي تضم بوتقة أو قاربًا مصنوعًا من مواد حرارية مثل التنجستن أو الموليبدينوم. وتوضع المادة المراد ترسيبها، والمعروفة باسم المبخر، داخل هذه البوتقة أو القارب. وتعد بيئة التفريغ مهمة للغاية لأنها تمنع المادة المتبخرة من الاصطدام بجزيئات الغاز، مما يضمن عملية ترسيب نظيفة. يتراوح ضغط التفريغ من 10^-5 إلى 10^-9 تور، اعتمادًا على المستوى المطلوب من التلوث في الفيلم المترسب. ولتحقيق ترسيب فعال، يجب أن يصل ضغط بخار المادة إلى 10 mTorr على الأقل.طرق التبخير:

  1. يمكن تحقيق التبخير الحراري من خلال طريقتين أساسيتين:
  2. التسخين الكهربائي: ويتضمن ذلك تسخين المادة باستخدام أسلاك مسخنة كهربائيًا أو في بوتقات مصنوعة من مواد ذات نقاط انصهار أعلى. هذه الطريقة مناسبة للمواد التي ليس لها درجات انصهار عالية للغاية.

التسخين بالشعاع الإلكتروني: بالنسبة للمواد ذات درجات انصهار أعلى، يمكن استخدام شعاع إلكتروني لتسخين المادة وتبخيرها. تسمح هذه الطريقة بالتحكم الدقيق في عملية التسخين ويمكنها التعامل مع نطاق أوسع من المواد.

ظروف التفريغ:

يتراوح الضغط الأساسي المطلوب في جهاز الطلاء عادةً بين 10^-7 و10^-5 ملي بار، اعتمادًا على نوعية الطبقة المطلوبة. وتُعد بيئة التفريغ العالية هذه ضرورية للترسيب الفيزيائي للبخار (PVD)، مما يضمن ترسب المواد على الركيزة دون تداخل من جزيئات الغاز.

التطبيقات:

المنتجات ذات الصلة

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

بوتقة تبخر الجرافيت

بوتقة تبخر الجرافيت

أوعية للتطبيقات ذات درجات الحرارة العالية ، حيث يتم الاحتفاظ بالمواد في درجات حرارة عالية للغاية حتى تتبخر ، مما يسمح بترسيب الأغشية الرقيقة على ركائز.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.

فرن الصهر بالحث الفراغي

فرن الصهر بالحث الفراغي

اختبر الصهر الدقيق مع فرن الصهر بالرفع الفراغي. مثالية للمعادن أو السبائك عالية نقطة الانصهار ، مع التكنولوجيا المتقدمة للصهر الفعال. اطلب الآن للحصول على نتائج عالية الجودة.

فرن أنبوبي عمودي

فرن أنبوبي عمودي

ارتقِ بتجاربك مع فرن الأنبوب العمودي. تصميم متعدد الاستخدامات يسمح بالتشغيل في مختلف البيئات وتطبيقات المعالجة الحرارية. اطلب الآن للحصول على نتائج دقيقة!

فرن الضغط الساخن الأنبوبي الفراغي

فرن الضغط الساخن الأنبوبي الفراغي

تقليل ضغط التشكيل وتقصير وقت التلبيد باستخدام فرن الضغط الساخن الأنبوبي المفرغ من الهواء للمواد عالية الكثافة والحبيبات الدقيقة. مثالي للمعادن المقاومة للحرارة.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

قارب تبخير سيراميك مؤلمن

قارب تبخير سيراميك مؤلمن

وعاء لوضع الأغشية الرقيقة ؛ له جسم سيراميك مغطى بالألمنيوم لتحسين الكفاءة الحرارية والمقاومة الكيميائية. مما يجعلها مناسبة لمختلف التطبيقات.

مجموعة قارب تبخير السيراميك

مجموعة قارب تبخير السيراميك

يمكن استخدامه لترسيب البخار للعديد من المعادن والسبائك. يمكن أن تتبخر معظم المعادن تمامًا دون خسارة. سلال التبخر قابلة لإعادة الاستخدام.

الإلكترون شعاع بوتقة

الإلكترون شعاع بوتقة

في سياق تبخر حزمة الإلكترون ، البوتقة عبارة عن حاوية أو حامل مصدر يستخدم لاحتواء وتبخير المادة المراد ترسيبها على الركيزة.

شعاع الإلكترون طلاء التبخر بوتقة النحاس خالية من الأكسجين

شعاع الإلكترون طلاء التبخر بوتقة النحاس خالية من الأكسجين

عند استخدام تقنيات تبخير الحزمة الإلكترونية ، فإن استخدام بوتقات النحاس الخالية من الأكسجين يقلل من خطر تلوث الأكسجين أثناء عملية التبخر.

الموليبدينوم / التنغستن / التنتالوم قارب التبخر

الموليبدينوم / التنغستن / التنتالوم قارب التبخر

تُستخدم مصادر قوارب التبخير في أنظمة التبخير الحراري وهي مناسبة لترسيب المعادن والسبائك والمواد المختلفة. تتوفر مصادر قوارب التبخير بسماكات مختلفة من التنغستن والتنتالوم والموليبدينوم لضمان التوافق مع مجموعة متنوعة من مصادر الطاقة. كحاوية، يتم استخدامه لتبخير المواد بالفراغ. يمكن استخدامها لترسيب الأغشية الرقيقة لمواد مختلفة، أو مصممة لتكون متوافقة مع تقنيات مثل تصنيع شعاع الإلكترون.

شعاع الإلكترون التبخر طلاء التنغستن بوتقة / الموليبدينوم بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر طلاء التنغستن بوتقة / الموليبدينوم بوتقة

تُستخدم بوتقات التنجستن والموليبدينوم بشكل شائع في عمليات تبخر الحزمة الإلكترونية نظرًا لخصائصها الحرارية والميكانيكية الممتازة.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.


اترك رسالتك