معرفة ما هي الغازات الأولية في PECVD؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوع

ما هي الغازات الأولية في PECVD؟

وعادةً ما تكون الغازات السليفة في الترسيب الكيميائي بالبخار المعزز بالبلازما (PECVD) غازات تفاعلية تتأين تحت تأثير البلازما لتكوين مجموعات نشطة في حالة الإثارة. ثم تنتشر هذه المجموعات إلى سطح الركيزة وتخضع لتفاعلات كيميائية لإكمال نمو الفيلم. وتشمل الغازات السليفة الشائعة السيلان والأكسجين والغازات الأخرى التي يمكن أن تشكل طلاءات رقيقة على الركائز، مثل المعادن والأكسيدات والنتريدات والبوليمرات.

شرح مفصل:

  1. دور الغازات السليفة في PECVD:

  2. في PECVD، يتم إدخال الغازات السليفة في غرفة التفاعل في حالة غازية. وتعمل البلازما، التي يتم توليدها بواسطة الترددات الراديوية (RF) أو التيار المباشر (DC) أو التفريغ بالموجات الدقيقة، على تنشيط هذه الغازات. وتشكّل عملية التأين هذه بلازما تحتوي على أيونات وإلكترونات حرة وجذور حرة وذرات وجزيئات مثارة. هذه الأنواع المنشطة ضرورية لعملية الترسيب لأنها تتفاعل مع الركيزة لترسيب الأغشية الرقيقة.

    • أنواع غازات السلائف:السيلان (SiH4):
    • يشيع استخدامه لترسيب الأغشية القائمة على السيليكون، مثل ثاني أكسيد السيليكون أو نيتريد السيليكون.الأكسجين (O2):
    • غالبًا ما يستخدم مع غازات أخرى لتكوين أكاسيد.الهيدروجين (H2):
    • يستخدم للمساعدة في اختزال أو تحلل الأنواع السليفة عند درجات حرارة منخفضة.الغازات العضوية:
  3. لترسيب الأغشية البوليمرية، تُستخدم غازات مثل الفلوروكربونات والهيدروكربونات والسيليكونات.آلية تكوين الفيلم:

  4. تعمل البلازما على تعزيز النشاط الكيميائي للأنواع التفاعلية، مما يسمح للتفاعلات الكيميائية بالاستمرار في درجات حرارة أقل بكثير مقارنةً بالتقنية التقليدية للتصوير المقطعي على الزجاج. تعمل البلازما على تفتيت الغازات السليفة مما يخلق أنواعًا تفاعلية عالية التفاعل يمكن أن تتفاعل مع الركيزة أو مع بعضها البعض لتشكيل الفيلم المطلوب. هذه العملية فعالة حتى في درجات الحرارة المنخفضة، وهو أمر بالغ الأهمية للركائز الحساسة للحرارة العالية.

  5. أهمية الضغط المنخفض في عملية PECVD:

    • تُجرى معظم عمليات PECVD عند ضغط منخفض لتثبيت بلازما التفريغ عن طريق زيادة متوسط المسار الحر لأنواع البلازما. تضمن بيئة الضغط المنخفض هذه وصول الأنواع التفاعلية بفعالية إلى سطح الركيزة، مما يعزز من توحيد وجودة الفيلم المترسب.
    • الاختلافات في تقنيات PECVD:RF-PECVD:

يستخدم بلازما التردد اللاسلكي، والتي يمكن توليدها عن طريق الاقتران السعوي (CCP) أو الاقتران الاستقرائي (ICP). وعادةً ما يولد الاقتران الاستقرائي كثافة أعلى من البلازما، مما يؤدي إلى تفكك أكثر كفاءة للسلائف.

VHF-PECVD:

المنتجات ذات الصلة

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

KT-PE12 Slide PECVD System: نطاق طاقة واسع ، تحكم في درجة الحرارة قابل للبرمجة ، تسخين / تبريد سريع مع نظام انزلاقي ، تحكم في التدفق الكتلي MFC ومضخة تفريغ.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

915 ميجا هرتز MPCVD الماس آلة الماس 915MHz ونموها الفعال متعدد البلورات، يمكن أن تصل المساحة القصوى إلى 8 بوصات، ويمكن أن تصل مساحة النمو الفعال القصوى للبلورة الواحدة إلى 5 بوصات. تُستخدم هذه المعدات بشكل أساسي لإنتاج أفلام الماس متعدد الكريستالات كبيرة الحجم، ونمو الماس أحادي البلورة الطويل، ونمو الجرافين عالي الجودة في درجات حرارة منخفضة، وغيرها من المواد التي تتطلب طاقة توفرها بلازما الميكروويف للنمو.

خلية تفاعل تدفق السائل خلية الانتشار الغازي

خلية تفاعل تدفق السائل خلية الانتشار الغازي

هل تبحث عن خلية التحليل الكهربائي لنشر الغاز عالية الجودة؟ تتميز خلية تفاعل تدفق السائل لدينا بمقاومة استثنائية للتآكل ومواصفات كاملة ، مع خيارات قابلة للتخصيص متاحة لتناسب احتياجاتك. اتصل بنا اليوم!

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

فرن الصهر بالحث الفراغي فرن الصهر القوسي

فرن الصهر بالحث الفراغي فرن الصهر القوسي

احصل على تركيبة سبيكة دقيقة مع فرن الصهر بالحث الفراغي الخاص بنا. مثالي للفضاء، والطاقة النووية، والصناعات الإلكترونية. اطلب الآن لصهر وسبك المعادن والسبائك بفعالية.

نيتريد السيليكون (Si3N4) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

نيتريد السيليكون (Si3N4) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد نيتريد السيليكون (Si3N4) ميسورة التكلفة لتلبية احتياجات المختبر. نحن ننتج ونخصص أشكالًا وأحجامًا ودرجات نقاء مختلفة لتناسب متطلباتك. تصفح مجموعتنا من الأهداف المتساقطة والمساحيق والمزيد.

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن KT-CTF14 متعدد مناطق التسخين CVD - تحكم دقيق في درجة الحرارة وتدفق الغاز للتطبيقات المتقدمة. درجة حرارة قصوى تصل إلى 1200 درجة مئوية، ومقياس تدفق الكتلة MFC بـ 4 قنوات، وجهاز تحكم بشاشة TFT تعمل باللمس مقاس 7 بوصة.


اترك رسالتك