معرفة ما هو ترسيب الطبقة الذرية لتقنية النانو؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوع

ما هو ترسيب الطبقة الذرية لتقنية النانو؟

ترسيب الطبقة الذرية (ALD) هي تقنية متطورة تُستخدم في تكنولوجيا النانو للترسيب الدقيق للأغشية الرقيقة للغاية، والتي عادةً ما تكون بسماكة بضعة نانومترات. وتتميز هذه الطريقة بمستوى عالٍ من الاتساق والتوافق والطبيعة المحدودة ذاتيًا، مما يسمح بنمو الأغشية الرقيقة طبقة تلو الأخرى بشكل متحكم فيه. تعمل عملية التفريد الذائب الأحادي الذائب عن طريق إدخال الغازات السليفة وتفاعلها بالتتابع مع سطح الركيزة، مما يضمن اكتمال كل طبقة قبل تطبيق الطبقة التالية. هذه العملية ضرورية في مجالات مختلفة بما في ذلك هندسة أشباه الموصلات والأنظمة الكهروميكانيكية الدقيقة (MEMS) والحفز وتصنيع الإلكترونيات الدقيقة.

شرح مفصل:

  1. آلية الاستحلاب الذائب الأحادي الذائب:

  2. ينطوي الاستحلاب الذائب الأحادي الذائب على استخدام اثنين أو أكثر من الغازات السليفة التي يتم إدخالها في غرفة التفاعل واحدًا تلو الآخر. تتفاعل كل سليفة مع سطح الركيزة حتى يتم شغل جميع المواقع التفاعلية، وعند هذه النقطة يتوقف التفاعل بشكل طبيعي. وتضمن خاصية التحديد الذاتي هذه ترسيب كل طبقة بشكل موحد، وتتكرر العملية لكل طبقة لاحقة. يتم نبض السلائف بالتناوب، ولا تتواجد أبدًا في الغرفة في وقت واحد، مما يساعد في الحفاظ على نقاء وسلامة الفيلم.

    • مزايا عملية الاستحلاب الذائب الأحادي الذائب:الدقة والتحكم:
    • توفر تقنية ALD مستوى استثنائيًا من التحكم في سُمك الأغشية المودعة حتى المستوى الذري. هذه الدقة أمر بالغ الأهمية للتطبيقات التي يمكن أن تؤثر فيها حتى الاختلافات الطفيفة في السُمك بشكل كبير على الأداء.المطابقة:
    • إن قدرة تقنية ALD على ترسيب أغشية موحدة على الأشكال الهندسية المعقدة والهياكل ذات نسبة العرض إلى الارتفاع العالية تجعلها لا تقدر بثمن في الصناعات التي تحتوي الأجهزة على تصميمات معقدة.تعدد الاستخدامات:
  3. يمكن استخدام تقنية ALD على مجموعة واسعة من الركائز ولمختلف التطبيقات، من الإلكترونيات الدقيقة إلى الأجهزة الطبية الحيوية.تطبيقات الاستحلال بالتحلل الضوئي الذائب:

  4. تُستخدم تقنية ALD على نطاق واسع في صناعة أشباه الموصلات، لا سيما في تصنيع ترانزستورات أكسيد الفلزات وأكسيد الموصلات التكميلية (CMOS) عالية الأداء. كما أنها ضرورية في إنتاج رؤوس التسجيل المغناطيسي، ومداخن بوابات MOSFET، ومكثفات DRAM، والذواكر الكهروضوئية غير المتطايرة. وبعيدًا عن الإلكترونيات، يُستخدم الاستحلاب المستخلص الأحادي الذري لتعديل خصائص سطح الأجهزة الطبية الحيوية، مما يعزز توافقها ووظائفها عند زراعتها في الجسم.

تطور وتميُّز تقنية ALD:

المنتجات ذات الصلة

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

نيتريد الألومنيوم (AlN) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

نيتريد الألومنيوم (AlN) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

مواد عالية الجودة من نيتريد الألومنيوم (AlN) بأشكال وأحجام مختلفة للاستخدام المعملي وبأسعار مناسبة. اكتشف مجموعتنا من أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد. الحلول المخصصة المتاحة.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

هدف رش نيتريد التنتالوم (TaN) / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هدف رش نيتريد التنتالوم (TaN) / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اكتشف مواد Tantalum Nitride ذات الأسعار المعقولة لاحتياجات المختبر. ينتج خبراؤنا أشكالًا ودرجات نقاء مخصصة لتلبية مواصفاتك الفريدة. اختر من بين مجموعة متنوعة من أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد.

نيتريد الألومنيوم (AlN) صفائح خزفية

نيتريد الألومنيوم (AlN) صفائح خزفية

نيتريد الألومنيوم (AlN) له خصائص التوافق الجيد مع السيليكون. لا يتم استخدامه فقط كمساعد تلبيد أو مرحلة تقوية للخزف الإنشائي ، ولكن أداءه يفوق بكثير أداء الألومينا.

نيتريد التيتانيوم (TiN) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

نيتريد التيتانيوم (TiN) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد ميسورة التكلفة من نيتريد التيتانيوم (TiN) لمختبرك؟ تكمن خبرتنا في إنتاج مواد مخصصة بأشكال وأحجام مختلفة لتلبية احتياجاتك الفريدة. نحن نقدم مجموعة واسعة من المواصفات والأحجام لأهداف الرش ، والطلاء ، وأكثر من ذلك.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.

CVD البورون مخدر الماس

CVD البورون مخدر الماس

الماس المغطى بالبورون CVD: مادة متعددة الاستخدامات تتيح التوصيل الكهربائي المخصص والشفافية البصرية والخصائص الحرارية الاستثنائية للتطبيقات في مجال الإلكترونيات والبصريات والاستشعار وتقنيات الكم.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

CVD Diamond للإدارة الحرارية

CVD Diamond للإدارة الحرارية

ألماس CVD للإدارة الحرارية: ألماس عالي الجودة مع موصلية حرارية تصل إلى 2000 واط/م ك، مثالي لموزعات الحرارة، وثنائيات الليزر، وتطبيقات GaN على الماس (GOD).

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.


اترك رسالتك