معرفة ما هي عملية ترسيب البلازما؟ شرح 5 خطوات رئيسية
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ شهرين

ما هي عملية ترسيب البلازما؟ شرح 5 خطوات رئيسية

ترسيب البلازما هو عملية متطورة تستخدم لإنشاء أغشية رقيقة على مواد مختلفة.

وهي تنطوي على استخدام جسيمات مشحونة عالية الطاقة من البلازما لتحرير الذرات من المادة المستهدفة.

ثم يتم ترسيب هذه الذرات على ركيزة لتشكيل طبقة رقيقة.

هذه العملية متعددة الاستخدامات ويمكن تطبيقها على أجسام مختلفة الأحجام والأشكال.

ما هي عملية ترسيب البلازما؟ شرح 5 خطوات رئيسية

ما هي عملية ترسيب البلازما؟ شرح 5 خطوات رئيسية

1. إنشاء البلازما

يتم توليد البلازما عن طريق تأيين غاز الرشّ، وهو عادةً غاز خامل مثل الأرجون أو الزينون.

ويتم ذلك باستخدام التفريغ الكهربائي بين الأقطاب الكهربائية، وعادةً ما يكون ذلك عند طاقات تتراوح بين 100 - 300 فولت.

ويخلق هذا التفريغ غلافًا متوهجًا حول الركيزة، مما يساهم في الطاقة الحرارية التي تحرك التفاعلات الكيميائية.

2. تحرير الذرات

تؤدي الجسيمات المشحونة عالية الطاقة في البلازما إلى تآكل سطح المادة المستهدفة.

ويؤدي هذا التآكل إلى تحرير الذرات المتعادلة.

ويمكن لهذه الذرات المتعادلة أن تهرب من المجالات الكهرومغناطيسية القوية في البلازما وتتصادم مع الركيزة.

3. ترسيب الغشاء الرقيق

عند التصادم مع الركيزة، تترسب الذرات المحررة وتشكل طبقة رقيقة.

تحدث التفاعلات الكيميائية التي تؤدي إلى الترسيب أولاً في البلازما بسبب التصادمات بين جزيئات الغازات السليفة والإلكترونات عالية الطاقة.

ثم تستمر هذه التفاعلات على سطح الركيزة حيث ينمو الفيلم.

4. التحكم والتحسين

يمكن التحكم في خصائص الفيلم المترسب، مثل السُمك أو الصلابة أو معامل الانكسار، عن طريق ضبط المعلمات مثل معدلات تدفق الغاز ودرجات حرارة التشغيل.

وتؤدي معدلات تدفق الغاز الأعلى عمومًا إلى معدلات ترسيب أعلى.

5. ترسيب البخار الكيميائي المعزز بالبلازما (PECVD)

يستخدم هذا النوع من ترسيب البخار الكيميائي طاقة البلازما المتولدة عن طريق الترددات الراديوية أو التيار المباشر أو التفريغ بالموجات الدقيقة لتنشيط الغاز التفاعلي وترسيب الأغشية الرقيقة.

وتستخدم معدات الترسيب مزيجًا من الأيونات والإلكترونات الحرة والجذور الحرة والذرات المثارة والجزيئات لتغليف الركيزة بطبقات من المعادن والأكاسيد والنتريدات و/أو البوليمرات.

مواصلة الاستكشاف، استشر خبرائنا

اكتشف الإمكانيات المتطورة لتقنية الترسيب بالبلازما مع KINTEK SOLUTION.

تعمل أنظمتنا المتقدمة على تمكين الترسيب الدقيق للأغشية الرقيقة للعديد من التطبيقات، من الإلكترونيات الدقيقة إلى طلاء الأجهزة الطبية.

مع التحكم والتحسين في الطليعة، اكتشف كيف يمكن ل KINTEK SOLUTION رفع مستوى عمليات التصنيع لديك ودفع الابتكار في صناعتك.

اتصل بنا اليوم لإحداث ثورة في نهجك في علوم المواد والتصنيع المتقدم.

المنتجات ذات الصلة

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

915 ميجا هرتز MPCVD الماس آلة الماس 915MHz ونموها الفعال متعدد البلورات، يمكن أن تصل المساحة القصوى إلى 8 بوصات، ويمكن أن تصل مساحة النمو الفعال القصوى للبلورة الواحدة إلى 5 بوصات. تُستخدم هذه المعدات بشكل أساسي لإنتاج أفلام الماس متعدد الكريستالات كبيرة الحجم، ونمو الماس أحادي البلورة الطويل، ونمو الجرافين عالي الجودة في درجات حرارة منخفضة، وغيرها من المواد التي تتطلب طاقة توفرها بلازما الميكروويف للنمو.

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

KT-PE12 Slide PECVD System: نطاق طاقة واسع ، تحكم في درجة الحرارة قابل للبرمجة ، تسخين / تبريد سريع مع نظام انزلاقي ، تحكم في التدفق الكتلي MFC ومضخة تفريغ.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

عالية النقاء البلاديوم (Pd) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

عالية النقاء البلاديوم (Pd) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد بلاديوم ميسورة التكلفة لمختبرك؟ نحن نقدم حلولًا مخصصة بنقاوة وأشكال وأحجام مختلفة - من أهداف الرش إلى مساحيق نانومتر ومساحيق الطباعة ثلاثية الأبعاد. تصفح مجموعتنا الآن!

بوتقة تبخر الجرافيت

بوتقة تبخر الجرافيت

أوعية للتطبيقات ذات درجات الحرارة العالية ، حيث يتم الاحتفاظ بالمواد في درجات حرارة عالية للغاية حتى تتبخر ، مما يسمح بترسيب الأغشية الرقيقة على ركائز.

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

اكتشف مزايا أفران التلبيد بالبلازما الشرارة لتحضير المواد بسرعة وبدرجة حرارة منخفضة. تسخين موحد ومنخفض التكلفة وصديق للبيئة.

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن KT-CTF14 متعدد مناطق التسخين CVD - تحكم دقيق في درجة الحرارة وتدفق الغاز للتطبيقات المتقدمة. درجة حرارة قصوى تصل إلى 1200 درجة مئوية، ومقياس تدفق الكتلة MFC بـ 4 قنوات، وجهاز تحكم بشاشة TFT تعمل باللمس مقاس 7 بوصة.


اترك رسالتك