معرفة ما هي مكونات MOCVD؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ 5 أيام

ما هي مكونات MOCVD؟

تشتمل مكونات MOCVD (الترسيب الكيميائي الكيميائي المعدني العضوي للبخار العضوي على نظام إمداد المصدر، ونظام نقل الغاز ونظام التحكم في التدفق، وغرفة التفاعل ونظام التحكم في درجة الحرارة، ونظام إنذار معالجة غاز الذيل وحماية السلامة ونظام التشغيل الأوتوماتيكي ونظام التحكم الإلكتروني. ويلعب كل مكون دورًا حاسمًا في التشغيل الدقيق والآمن لعملية الترسيب الكيميائي بالبخار الموزاييكانيكي.

نظام إمداد المصدر:

نظام الإمداد بالمصدر في عملية MOCVD مسؤول عن توفير السلائف المعدنية العضوية اللازمة والغازات التفاعلية. هذه السلائف عادةً ما تكون مركبات فلزية عضوية، ويمكن أن تشمل الغازات التفاعلية الهيدروجين أو النيتروجين أو الغازات الخاملة الأخرى. ويضمن النظام توصيل هذه المواد إلى غرفة التفاعل بطريقة محكومة، وهو أمر بالغ الأهمية لجودة نمو الأغشية الرقيقة وقابليتها للتكرار.نظام نقل الغاز والتحكم في التدفق:

هذا النظام جزء لا يتجزأ من خلط السلائف والغازات التفاعلية عند مدخل غرفة التفاعل. ويعمل تحت ظروف تدفق وضغط محكومة لضمان التوزيع والتركيز المناسبين للغازات. الدقة في تدفق الغازات ضرورية للحفاظ على التفاعلات الكيميائية المطلوبة أثناء عملية الترسيب.

غرفة التفاعل ونظام التحكم في درجة الحرارة:

غرفة التفاعل هي المكان الذي يحدث فيه الترسيب الفعلي للمواد على الركيزة. وعادةً ما تكون غرفة كوارتز ذات جدار بارد أو غرفة من الفولاذ المقاوم للصدأ تعمل تحت ضغط جوي أو ضغط منخفض. ويحافظ نظام التحكم في درجة الحرارة على الركيزة عند درجة حرارة دقيقة، تتراوح عادةً بين 500-1200 درجة مئوية، وهو أمر بالغ الأهمية لتفاعلات التحلل الحراري اللازمة لنمو الفيلم.نظام إنذار معالجة غاز الذيل والحماية من الغازات الخلفية:

نظرًا للطبيعة القابلة للاشتعال والانفجار والسامة للمواد المصدرية المستخدمة في MOCVD، فإن نظام معالجة الغازات المتخلفة ضروري للتعامل مع هذه الغازات وتحييدها بأمان بعد استخدامها في غرفة التفاعل. ويراقب نظام إنذار حماية السلامة النظام بحثًا عن أي مخاطر محتملة وينبه المشغلين إلى أي مشاكل، مما يضمن سلامة العملية.

المنتجات ذات الصلة

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن KT-CTF14 متعدد مناطق التسخين CVD - تحكم دقيق في درجة الحرارة وتدفق الغاز للتطبيقات المتقدمة. درجة حرارة قصوى تصل إلى 1200 درجة مئوية، ومقياس تدفق الكتلة MFC بـ 4 قنوات، وجهاز تحكم بشاشة TFT تعمل باللمس مقاس 7 بوصة.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

فرن أنبوبة CVD ذو الحجرة المنقسمة مع ماكينة التفريغ بالبطاريات القابلة للتفريغ بالقنوات المرارية

فرن أنبوبة CVD ذو الحجرة المنقسمة مع ماكينة التفريغ بالبطاريات القابلة للتفريغ بالقنوات المرارية

فرن CVD ذو حجرة مجزأة فعالة ذات حجرة مجزأة مع محطة تفريغ لفحص العينة بسهولة وتبريد سريع. درجة حرارة قصوى تصل إلى 1200 درجة مئوية مع تحكم دقيق في مقياس التدفق الكتلي MFC.

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

KT-PE12 Slide PECVD System: نطاق طاقة واسع ، تحكم في درجة الحرارة قابل للبرمجة ، تسخين / تبريد سريع مع نظام انزلاقي ، تحكم في التدفق الكتلي MFC ومضخة تفريغ.

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

915 ميجا هرتز MPCVD الماس آلة الماس 915MHz ونموها الفعال متعدد البلورات، يمكن أن تصل المساحة القصوى إلى 8 بوصات، ويمكن أن تصل مساحة النمو الفعال القصوى للبلورة الواحدة إلى 5 بوصات. تُستخدم هذه المعدات بشكل أساسي لإنتاج أفلام الماس متعدد الكريستالات كبيرة الحجم، ونمو الماس أحادي البلورة الطويل، ونمو الجرافين عالي الجودة في درجات حرارة منخفضة، وغيرها من المواد التي تتطلب طاقة توفرها بلازما الميكروويف للنمو.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

شعاع الإلكترون التبخر طلاء التنغستن بوتقة / الموليبدينوم بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر طلاء التنغستن بوتقة / الموليبدينوم بوتقة

تُستخدم بوتقات التنجستن والموليبدينوم بشكل شائع في عمليات تبخر الحزمة الإلكترونية نظرًا لخصائصها الحرارية والميكانيكية الممتازة.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية


اترك رسالتك