معرفة ما هي عملية نيتريد السيليكون بتقنية LPCVD؟ شرح 5 خطوات رئيسية
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ شهرين

ما هي عملية نيتريد السيليكون بتقنية LPCVD؟ شرح 5 خطوات رئيسية

تتضمن عملية الترسيب الكيميائي للبخار الكيميائي منخفض الضغط (LPCVD) لنيتريد السيليكون ترسيب طبقة نيتريد السيليكون عالية الجودة والكثيفة وغير المتبلورة على الركيزة.

وتُعد هذه العملية ضرورية في تصنيع أشباه الموصلات لمختلف التطبيقات، خاصةً في إنشاء الأقنعة والطبقات العازلة.

ما هي عملية نيتريد السيليكون بتقنية LPCVD؟ شرح 5 خطوات رئيسية

ما هي عملية نيتريد السيليكون بتقنية LPCVD؟ شرح 5 خطوات رئيسية

1. اختيار غاز السلائف

يعد اختيار ثنائي كلورو السيلان والأمونيا كغازات سليفة أمرًا بالغ الأهمية لأنهما يتفاعلان في ظروف LPCVD لتكوين نيتريد السيليكون.

يوفر ثنائي كلورو سيلان (SiH2Cl2) مصدر السليكون، بينما توفر الأمونيا (NH3) النيتروجين.

2. ظروف التفاعل

يتم إجراء التفاعل في بيئة منخفضة الضغط، عادةً ما يتراوح بين 0.1 إلى 1 تور، مما يسهل الترسيب المنتظم عبر الركيزة.

تضمن درجة الحرارة المرتفعة (700-800 درجة مئوية) التفاعل الكامل للغازات السليفة وتعزز تكوين طبقة كثيفة وموحدة من نيتريد السيليكون.

3. آلية الترسيب

في المفاعل، تتدفق غازات السلائف فوق الركيزة المسخنة حيث تتحلل حرارياً وتتفاعل لتكوين نيتريد السيليكون (Si3N4).

يمكن تلخيص التفاعل على النحو التالي: [3SiH2Cl2 + 4NH3 → Si3N4 + 6HCl + 6H2]

تتم إزالة حمض الهيدروكلوريك والهيدروجين كغازات عادم، تاركين وراءهما طبقة نيتريد السيليكون النقية على الركيزة.

4. التطبيقات والخصائص

طبقة نيتريد السيليكون التي تنتجها تقنية LPCVD غير متبلورة وكثيفة ومستقرة كيميائياً، مما يجعلها مثالية لمختلف التطبيقات في تصنيع أشباه الموصلات.

وهي بمثابة قناع للأكسدة الانتقائية للسيليكون (LOCOS)، وقناع صلب لعزل الخنادق الضحلة، وطبقة عازلة في المكثفات (على سبيل المثال، في DRAMs).

تُظهر الطبقة عادةً إجهاد شد عالٍ، والذي يمكن تعديله وفقًا للمتطلبات المحددة للتطبيق.

5. التحديات والتحكم

تتطلب هذه العملية تحكماً دقيقاً في درجة الحرارة والضغط ومعدلات تدفق الغاز لضمان ترسيب موحد ومنع العيوب.

في مفاعل الجدار الساخن، يجب تعويض تأثيرات النضوب في مفاعل الجدار الساخن للحفاظ على جودة غشاء متناسقة عبر الركيزة.

مواصلة الاستكشاف، استشر خبرائنا

أطلق العنان لقوة الدقة في عمليات أشباه الموصلات الخاصة بك مع معدات LPCVD من KINTEK SOLUTION.

اختبر تحكمًا وكفاءة لا مثيل لهما في إنتاج طبقات كثيفة غير متبلورة من نيتريد السيليكون التي تمهد الطريق لتطبيقات أشباه الموصلات المتفوقة.

ثق في تقنيتنا المتطورة وخبرتنا لرفع قدراتك التصنيعية.

اتصل بنا اليوم لاكتشاف كيف يمكن أن تكون KINTEK SOLUTION شريكك في الابتكار!

المنتجات ذات الصلة

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

صفائح سيراميك نيتريد السيليكون (SiNi) السيراميك بالقطع الدقيق للسيراميك

صفائح سيراميك نيتريد السيليكون (SiNi) السيراميك بالقطع الدقيق للسيراميك

صفيحة نيتريد السيليكون هي مادة خزفية شائعة الاستخدام في صناعة المعادن نظرًا لأدائها الموحد في درجات الحرارة العالية.

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

لوح سيراميك من كربيد السيليكون (SIC)

لوح سيراميك من كربيد السيليكون (SIC)

سيراميك نيتريد السيليكون (كذا) سيراميك مادة غير عضوية لا يتقلص أثناء التلبيد. إنه مركب رابطة تساهمية عالي القوة ومنخفض الكثافة ومقاوم لدرجة الحرارة العالية.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

915 ميجا هرتز MPCVD الماس آلة الماس 915MHz ونموها الفعال متعدد البلورات، يمكن أن تصل المساحة القصوى إلى 8 بوصات، ويمكن أن تصل مساحة النمو الفعال القصوى للبلورة الواحدة إلى 5 بوصات. تُستخدم هذه المعدات بشكل أساسي لإنتاج أفلام الماس متعدد الكريستالات كبيرة الحجم، ونمو الماس أحادي البلورة الطويل، ونمو الجرافين عالي الجودة في درجات حرارة منخفضة، وغيرها من المواد التي تتطلب طاقة توفرها بلازما الميكروويف للنمو.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

نيتريد السيليكون (Si3N4) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

نيتريد السيليكون (Si3N4) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد نيتريد السيليكون (Si3N4) ميسورة التكلفة لتلبية احتياجات المختبر. نحن ننتج ونخصص أشكالًا وأحجامًا ودرجات نقاء مختلفة لتناسب متطلباتك. تصفح مجموعتنا من الأهداف المتساقطة والمساحيق والمزيد.

صفائح كربيد السيليكون (SIC) الخزفية المقاومة للاهتراء

صفائح كربيد السيليكون (SIC) الخزفية المقاومة للاهتراء

تتكون صفيحة سيراميك كربيد السيليكون (كذا) من كربيد السيليكون عالي النقاء ومسحوق فائق النقاء، والذي يتكون عن طريق التشكيل بالاهتزاز والتلبيد بدرجة حرارة عالية.

CVD Diamond للإدارة الحرارية

CVD Diamond للإدارة الحرارية

ألماس CVD للإدارة الحرارية: ألماس عالي الجودة مع موصلية حرارية تصل إلى 2000 واط/م ك، مثالي لموزعات الحرارة، وثنائيات الليزر، وتطبيقات GaN على الماس (GOD).

فرن تلبيد الضغط الفراغي

فرن تلبيد الضغط الفراغي

تم تصميم أفران تلبيد الضغط الفراغي لتطبيقات الضغط الساخن ذات درجة الحرارة العالية في تلبيد المعادن والسيراميك. تضمن ميزاته المتقدمة التحكم الدقيق في درجة الحرارة، وصيانة موثوقة للضغط، وتصميمًا قويًا للتشغيل السلس.


اترك رسالتك