معرفة ما هي تقنية ترسيب مرحلة البخار؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوع

ما هي تقنية ترسيب مرحلة البخار؟

ترسيب طور البخار هو تقنية تُستخدم لإنشاء أغشية رقيقة على ركيزة عن طريق ترسيب المواد من حالة البخار. وتحدث هذه العملية عادةً في بيئة فراغية أو بيئة غازية خاضعة للتحكم، مما يضمن التوزيع المتساوي ونقاء المادة المترسبة. ويمكن تصنيف هذه التقنية على نطاق واسع إلى ثلاثة أنواع رئيسية: الترسيب الكيميائي للبخار (CVD)، والترسيب الفيزيائي للبخار (PVD)، والترسيب بالبلازما.

ترسيب البخار الكيميائي (CVD): في عملية الترسيب الكيميائي بالبخار الكيميائي، توضع الركيزة في غرفة تفاعل مملوءة بسلائف غازية. تتفاعل هذه الغازات مع مادة الركيزة لتشكيل الطلاء المطلوب. وتتضمن العملية ثلاث خطوات رئيسية: تبخير مركب متطاير، والتحلل الحراري أو التفاعل الكيميائي للبخار، وترسيب نواتج التفاعل على الركيزة. وتتطلب عملية الترسيب بالترسيب الفيزيائي القابل للقسري درجات حرارة عالية نسبيًا (حوالي 1000 درجة مئوية) وضغوط تتراوح بين بضعة توررات إلى ما فوق الضغط الجوي.

الترسيب الفيزيائي للبخار (PVD): ينطوي الترسيب الفيزيائي بالتقنية الفيزيائية (PVD) على انتقال المواد من حالتها المكثفة إلى مرحلة البخار، وعادةً ما يتم ذلك من خلال عمليات مثل الرش والتبخير والمعالجة الحرارية في جو خامل. يشيع استخدام تقنيات مثل التبخير الحراري تحت التفريغ والترسيب بمسدس الإلكترون. تسمح هذه الطرق بترسيب مواد مختلفة بما في ذلك المعادن وأشباه الموصلات والمواد المركبة. ومع ذلك، ونظرًا لانخفاض طاقة الأيونات التي تؤثر على سطح الركيزة، غالبًا ما تحتاج الركيزة إلى تسخينها إلى درجات حرارة عالية (250 درجة مئوية إلى 350 درجة مئوية) لتحقيق بنية مجهرية مرضية.

ترسيب البلازما: تتضمن هذه الطريقة التسخين الفائق لغاز الطلاء إلى شكل أيوني، والذي يتفاعل بعد ذلك مع السطح الذري للجزء، عادةً عند ضغوط مرتفعة. وتعزز هذه العملية من تفاعلية المواد وكفاءة ترسيبها.

توفر كل تقنية من هذه التقنيات مزايا فريدة ويتم اختيارها بناءً على المتطلبات المحددة للتطبيق، مثل نوع المادة المراد ترسيبها، والسماكة والنقاء المطلوبين للفيلم، وظروف التشغيل.

اكتشف دقة وتعدد استخدامات تقنية ترسيب طور البخار مع KINTEK SOLUTION! بصفتنا مورد مختبرك الموثوق به، نقدم مجموعة شاملة من أنظمة الترسيب، المصممة خصيصًا لتطبيقات ترسيب البخار الكيميائي (CVD)، وترسيب البخار الفيزيائي (PVD)، وترسيب البلازما. بدءًا من تحقيق طلاءات عالية النقاء إلى تحسين خصائص المواد، دعنا نكون شريكك في تطوير احتياجاتك البحثية والإنتاجية. استكشف حلولنا المبتكرة اليوم وأطلق العنان لإمكانات تكنولوجيا الأغشية الرقيقة!

المنتجات ذات الصلة

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

مجموعة قارب تبخير السيراميك

مجموعة قارب تبخير السيراميك

يمكن استخدامه لترسيب البخار للعديد من المعادن والسبائك. يمكن أن تتبخر معظم المعادن تمامًا دون خسارة. سلال التبخر قابلة لإعادة الاستخدام.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.

بوتقة تبخر الجرافيت

بوتقة تبخر الجرافيت

أوعية للتطبيقات ذات درجات الحرارة العالية ، حيث يتم الاحتفاظ بالمواد في درجات حرارة عالية للغاية حتى تتبخر ، مما يسمح بترسيب الأغشية الرقيقة على ركائز.

CVD البورون مخدر الماس

CVD البورون مخدر الماس

الماس المغطى بالبورون CVD: مادة متعددة الاستخدامات تتيح التوصيل الكهربائي المخصص والشفافية البصرية والخصائص الحرارية الاستثنائية للتطبيقات في مجال الإلكترونيات والبصريات والاستشعار وتقنيات الكم.

قارب تبخير سيراميك مؤلمن

قارب تبخير سيراميك مؤلمن

وعاء لوضع الأغشية الرقيقة ؛ له جسم سيراميك مغطى بالألمنيوم لتحسين الكفاءة الحرارية والمقاومة الكيميائية. مما يجعلها مناسبة لمختلف التطبيقات.

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

قارب تبخير للمواد العضوية

قارب تبخير للمواد العضوية

يعتبر قارب التبخير للمواد العضوية أداة مهمة للتسخين الدقيق والموحد أثناء ترسيب المواد العضوية.

الفراغات أداة القطع

الفراغات أداة القطع

أدوات القطع الماسية CVD: مقاومة فائقة للتآكل، واحتكاك منخفض، وموصلية حرارية عالية للمواد غير الحديدية، والسيراميك، وتصنيع المركبات

CVD Diamond للإدارة الحرارية

CVD Diamond للإدارة الحرارية

ألماس CVD للإدارة الحرارية: ألماس عالي الجودة مع موصلية حرارية تصل إلى 2000 واط/م ك، مثالي لموزعات الحرارة، وثنائيات الليزر، وتطبيقات GaN على الماس (GOD).

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

915 ميجا هرتز MPCVD الماس آلة الماس 915MHz ونموها الفعال متعدد البلورات، يمكن أن تصل المساحة القصوى إلى 8 بوصات، ويمكن أن تصل مساحة النمو الفعال القصوى للبلورة الواحدة إلى 5 بوصات. تُستخدم هذه المعدات بشكل أساسي لإنتاج أفلام الماس متعدد الكريستالات كبيرة الحجم، ونمو الماس أحادي البلورة الطويل، ونمو الجرافين عالي الجودة في درجات حرارة منخفضة، وغيرها من المواد التي تتطلب طاقة توفرها بلازما الميكروويف للنمو.

الفاناديوم عالي النقاء (V) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

الفاناديوم عالي النقاء (V) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد عالية الجودة من الفاناديوم (V) لمختبرك؟ نحن نقدم مجموعة واسعة من الخيارات القابلة للتخصيص لتناسب احتياجاتك الفريدة ، بما في ذلك أهداف الرش ، والمساحيق ، والمزيد. اتصل بنا اليوم للحصول على أسعار تنافسية.


اترك رسالتك