معرفة ما هو الاخرق البلازما المغنطرون؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوع

ما هو الاخرق البلازما المغنطرون؟

الرش المغنطروني بالبلازما هو تقنية طلاء متطورة تستخدم بيئة البلازما لترسيب الأغشية الرقيقة على الركائز. تنطوي العملية على استخدام بلازما محصورة مغناطيسيًا، مما يعزز كفاءة عملية الرش عن طريق زيادة التفاعلات بين الإلكترونات وذرات الغاز بالقرب من المادة المستهدفة.

ملخص العملية:

تعمل عملية الرش المغنطروني بالبلازما عن طريق إنشاء بلازما داخل غرفة مفرغة من الهواء، حيث يتم قصف المادة المستهدفة بأيونات نشطة. يتم تسريع هذه الأيونات، التي عادةً ما تكون من غاز مثل الأرجون، بواسطة مجال كهربائي وتتصادم مع الهدف، مما يتسبب في طرد الذرات من سطح الهدف. وبعد ذلك تنتقل هذه الذرات المقذوفة عبر الفراغ وتترسب على الركيزة مكونة طبقة رقيقة. ويؤدي المجال المغناطيسي دورًا حاسمًا في هذه العملية من خلال احتجاز الإلكترونات وزيادة وقت بقائها في البلازما، وبالتالي تعزيز تأين جزيئات الغاز والكفاءة الكلية لعملية الرش.

  1. الشرح التفصيلي:إنشاء البلازما:

  2. في الرش المغنطروني المغنطروني، يتم توليد البلازما عن طريق إدخال غاز (عادةً الأرجون) في غرفة مفرغة من الهواء وتطبيق مجال كهربائي. يقوم المجال الكهربائي بتأيين ذرات الغاز، مما يخلق بلازما من الأيونات موجبة الشحنة والإلكترونات الحرة.

  3. الحصر المغناطيسي:

  4. يتم وضع مجال مغناطيسي بشكل استراتيجي حول المادة المستهدفة. تم تصميم هذا المجال لحبس الإلكترونات، مما يجعلها تتبع مسارات دائرية بالقرب من سطح الهدف. ويزيد هذا الحصر من احتمال حدوث تصادمات بين الإلكترونات وذرات الغاز، مما يزيد بدوره من معدل تأين الغاز.رش المواد المستهدفة:

  5. تنجذب الأيونات النشطة من البلازما إلى المادة الهدف سالبة الشحنة بسبب المجال الكهربائي. وعندما تصطدم هذه الأيونات بالهدف، فإنها تتسبب في قذف الذرات أو "رشها" من سطح الهدف.

ترسيب الغشاء الرقيق:

تنتقل الذرات المنبثقة عبر الفراغ وتترسب على ركيزة تقع في مكان قريب. وتؤدي عملية الترسيب هذه إلى تكوين غشاء رقيق بسماكة وتوحيد متحكم فيهما.

المنتجات ذات الصلة

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

فرن التلبيد بالبلازما الشرارة فرن SPS

اكتشف مزايا أفران التلبيد بالبلازما الشرارة لتحضير المواد بسرعة وبدرجة حرارة منخفضة. تسخين موحد ومنخفض التكلفة وصديق للبيئة.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

فرن صهر القوس الكهربائي بالحث الفراغي

فرن صهر القوس الكهربائي بالحث الفراغي

قم بتطوير مواد قابلة للثبات بسهولة باستخدام نظام الغزل المصهور بالتفريغ. مثالي للبحث والعمل التجريبي باستخدام المواد غير المتبلورة والجريزوفولفين. اطلب الآن للحصول على نتائج فعالة.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

المغنيسيوم عالي النقاء (Mn) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

المغنيسيوم عالي النقاء (Mn) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

هل تبحث عن مواد مغنيسيوم (Mn) ميسورة التكلفة لاحتياجات مختبرك؟ لقد جعلتك الأحجام والأشكال والنقاء المخصصة لدينا مغطاة. اكتشف مجموعتنا المتنوعة اليوم!

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

فرن الضغط الساخن الأنبوبي الفراغي

فرن الضغط الساخن الأنبوبي الفراغي

تقليل ضغط التشكيل وتقصير وقت التلبيد باستخدام فرن الضغط الساخن الأنبوبي المفرغ من الهواء للمواد عالية الكثافة والحبيبات الدقيقة. مثالي للمعادن المقاومة للحرارة.

عالية النقاء البلاتين (نقطة) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

عالية النقاء البلاتين (نقطة) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

أهداف رش البلاتين عالية النقاء (Pt) ومساحيق وأسلاك وكتل وحبيبات بأسعار معقولة. تم تصميمه وفقًا لاحتياجاتك الخاصة بأحجام وأشكال متنوعة متاحة للتطبيقات المختلفة.

الإلكترون شعاع بوتقة

الإلكترون شعاع بوتقة

في سياق تبخر حزمة الإلكترون ، البوتقة عبارة عن حاوية أو حامل مصدر يستخدم لاحتواء وتبخير المادة المراد ترسيبها على الركيزة.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

KT-PE12 Slide PECVD System: نطاق طاقة واسع ، تحكم في درجة الحرارة قابل للبرمجة ، تسخين / تبريد سريع مع نظام انزلاقي ، تحكم في التدفق الكتلي MFC ومضخة تفريغ.

فرن الرسوم البيانية للمواد السلبية

فرن الرسوم البيانية للمواد السلبية

فرن الرسم البياني لإنتاج البطاريات لديه درجة حرارة موحدة واستهلاك منخفض للطاقة. فرن الجرافيت للمواد الكهربائية السالبة: حل جرافيتي فعال لإنتاج البطاريات ووظائف متقدمة لتعزيز أداء البطارية.

فرن تفريغ الموليبدينوم

فرن تفريغ الموليبدينوم

اكتشف مزايا فرن تفريغ الموليبدينوم عالي التكوين المزود بدرع عازل للحرارة. مثالي لبيئات التفريغ عالية النقاء مثل نمو بلورات الياقوت والمعالجة الحرارية.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

شعاع الإلكترون طلاء التبخر بوتقة النحاس خالية من الأكسجين

شعاع الإلكترون طلاء التبخر بوتقة النحاس خالية من الأكسجين

عند استخدام تقنيات تبخير الحزمة الإلكترونية ، فإن استخدام بوتقات النحاس الخالية من الأكسجين يقلل من خطر تلوث الأكسجين أثناء عملية التبخر.

شعاع الإلكترون التبخر طلاء التنغستن بوتقة / الموليبدينوم بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر طلاء التنغستن بوتقة / الموليبدينوم بوتقة

تُستخدم بوتقات التنجستن والموليبدينوم بشكل شائع في عمليات تبخر الحزمة الإلكترونية نظرًا لخصائصها الحرارية والميكانيكية الممتازة.

فرن الصهر بالحث الفراغي فرن الصهر القوسي

فرن الصهر بالحث الفراغي فرن الصهر القوسي

احصل على تركيبة سبيكة دقيقة مع فرن الصهر بالحث الفراغي الخاص بنا. مثالي للفضاء، والطاقة النووية، والصناعات الإلكترونية. اطلب الآن لصهر وسبك المعادن والسبائك بفعالية.


اترك رسالتك