معرفة ما هو نمو الأنابيب النانوية الكربونية في درجات الحرارة المنخفضة؟ (شرح 5 نقاط رئيسية)
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ شهرين

ما هو نمو الأنابيب النانوية الكربونية في درجات الحرارة المنخفضة؟ (شرح 5 نقاط رئيسية)

يمثل نمو الأنابيب النانوية الكربونية النانوية في درجات حرارة منخفضة تقدماً كبيراً في تكنولوجيا النانو. فهو يسمح بنمو الأنابيب النانوية الكربونية عند درجات حرارة أقل بكثير من 800 درجة مئوية النموذجية المطلوبة لنمو الأنابيب النانوية الكربونية عالية الجودة. وهذا أمر بالغ الأهمية لمختلف التطبيقات، بما في ذلك دمج أنابيب CNTs مع الإلكترونيات الدقيقة التقليدية.

شرح 5 نقاط رئيسية

ما هو نمو الأنابيب النانوية الكربونية في درجات الحرارة المنخفضة؟ (شرح 5 نقاط رئيسية)

1. ترسيب البخار الكيميائي المعزز بالبلازما (PECVD)

الترسيب بالبخار الكيميائي المعزز بالبلازما هي تقنية تستخدم البلازما لتقليل درجة حرارة ترسيب الأغشية. وتُعد هذه التقنية مفيدة بشكل خاص لزراعة النانوتينات ثلاثية الأبعاد في درجات حرارة أقل من 400 درجة مئوية. وهي تفتح إمكانيات لدمج النانوتينات CNTs مع مختلف الركائز التي لا تتحمل درجات الحرارة المرتفعة، مثل الزجاج.

2. ترسيب البخار الكيميائي التحفيزي (CVD)

في الترسيب الكيميائي القابل للسير الذاتية التحفيزي، يتم استخدام محفز معدني لبدء التفاعلات بين غاز السلائف والركيزة. وهذا يتيح نمو النانوتينات ثلاثية الأبعاد في درجات حرارة منخفضة. وتُعد هذه الطريقة ضرورية لنمو النيتروز والجرافين عند درجات حرارة أقل بكثير من تلك المطلوبة بدون محفز.

3. التأثير على تكامل الأجهزة

تُعد القدرة على تنمية أنابيب CNTs في درجات حرارة منخفضة أمرًا مهمًا لتطوير الأجهزة الإلكترونية النانوية. فهي تسمح بتحضير النانوتينات النانوية الصلبة في الموقع، والتي يمكن دمجها مع تكنولوجيا معالجة الإلكترونيات الدقيقة التقليدية. وهذا التكامل هو المفتاح لتحقيق سعة كبيرة للغاية ودوائر متكاملة على نطاق واسع للغاية.

4. اعتبارات المعالجة

في حين أن خفض درجة حرارة المعالجة يمكن أن يزيد من معدل حفر حمض الهيدروفلوريك (HF) ويوفر المزيد من الخيارات لتغيير معامل الانكسار، إلا أنه قد يؤدي أيضًا إلى زيادة كثافة الثقب. يُعد تحقيق التوازن بين هذه الخصائص أمرًا بالغ الأهمية لتحسين نمو أنابيب النفثالينات المدمجة في درجات حرارة منخفضة.

5. آلية النمو واستهلاك الطاقة

قد ينطوي نمو ألياف CNTs عند درجات حرارة منخفضة على آليات مثل "التكوين الشبيه بالبلمرة" ويتطلب أوقات بقاء مثالية للحفاظ على معدلات نمو عالية. يمكن لتركيزات أعلى من مصادر الكربون والهيدروجين أن تساهم في تحقيق معدلات نمو أعلى ولكنها قد تزيد أيضًا من استهلاك الطاقة.

مواصلة الاستكشاف، استشر خبرائنا

فتح آفاق جديدة في مجال الإلكترونيات النانوية وتكامل الإلكترونيات الدقيقة. ثق بشركة KINTEK SOLUTION للحصول على مواد وحلول فائقة تتخطى حدود الممكن.اكتشف قوة نمو النانوتينات النانوية المتناهية الصغر التي يمكن التحكم في درجة حرارتها اليوم!

المنتجات ذات الصلة

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

أنبوب حماية مزدوج سداسي البورون نيتريد (HBN)

أنبوب حماية مزدوج سداسي البورون نيتريد (HBN)

يعتبر سيراميك نيتريد البورون السداسي مادة صناعية ناشئة. بسبب بنيته المتشابهة مع الجرافيت والعديد من أوجه التشابه في الأداء ، يطلق عليه أيضًا "الجرافيت الأبيض".

فرن الجرافيت بدرجة حرارة عالية للغاية

فرن الجرافيت بدرجة حرارة عالية للغاية

يستخدم فرن الجرافيت ذو درجة الحرارة العالية التسخين بالتردد المتوسط في بيئة الفراغ أو الغاز الخامل. يولد الملف التعريفي مجالًا مغناطيسيًا متناوبًا، مما يؤدي إلى تيارات دوامية في بوتقة الجرافيت، والتي تسخن وتشع الحرارة إلى قطعة العمل، مما يصل إلى درجة الحرارة المطلوبة. يستخدم هذا الفرن في المقام الأول لرسم وتلبيد المواد الكربونية، مواد ألياف الكربون، والمواد المركبة الأخرى.

IGBT فرن الجرافيت التجريبي

IGBT فرن الجرافيت التجريبي

فرن الجرافيت التجريبي IGBT، وهو حل مخصص للجامعات والمؤسسات البحثية، يتميز بكفاءة تسخين عالية، وسهولة في الاستخدام، وتحكم دقيق في درجة الحرارة.

CVD Diamond للإدارة الحرارية

CVD Diamond للإدارة الحرارية

ألماس CVD للإدارة الحرارية: ألماس عالي الجودة مع موصلية حرارية تصل إلى 2000 واط/م ك، مثالي لموزعات الحرارة، وثنائيات الليزر، وتطبيقات GaN على الماس (GOD).

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن KT-CTF14 متعدد مناطق التسخين CVD - تحكم دقيق في درجة الحرارة وتدفق الغاز للتطبيقات المتقدمة. درجة حرارة قصوى تصل إلى 1200 درجة مئوية، ومقياس تدفق الكتلة MFC بـ 4 قنوات، وجهاز تحكم بشاشة TFT تعمل باللمس مقاس 7 بوصة.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

المختبر فراغ إمالة أنبوب دوار furance

المختبر فراغ إمالة أنبوب دوار furance

اكتشف تعدد استخدامات الفرن الدوار للمختبر: مثالي للتكليس ، والتجفيف ، والتلبيد ، وتفاعلات درجات الحرارة العالية. وظائف الدوران والإمالة القابلة للتعديل للتسخين الأمثل. مناسبة للفراغ وبيئات الجو التي يتم التحكم فيها. تعلم المزيد الآن!

فرن الرسم الجرافيتي العمودي الكبير

فرن الرسم الجرافيتي العمودي الكبير

فرن الجرافيت العمودي الكبير ذو درجة الحرارة العالية هو نوع من الأفران الصناعية المستخدمة لجرافت المواد الكربونية، مثل ألياف الكربون وأسود الكربون. إنه فرن عالي الحرارة يمكن أن يصل إلى درجات حرارة تصل إلى 3100 درجة مئوية.

فرن الجرافيت المستمر

فرن الجرافيت المستمر

فرن الجرافيت ذو درجة الحرارة العالية هو عبارة عن معدات احترافية لمعالجة المواد الكربونية بالجرافيت. إنها معدات رئيسية لإنتاج منتجات الجرافيت عالية الجودة. لديها درجة حرارة عالية وكفاءة عالية وتدفئة موحدة. إنها مناسبة لمختلف علاجات درجات الحرارة العالية وعلاجات الجرافيت. يستخدم على نطاق واسع في صناعة المعادن والإلكترونيات والفضاء وما إلى ذلك.

فرن الجرافيت ذو درجة الحرارة العالية العمودي

فرن الجرافيت ذو درجة الحرارة العالية العمودي

فرن جرافيت عمودي ذو درجة حرارة عالية لكربنة وجرافيت مواد الكربون حتى 3100 درجة مئوية. مناسب للجرافيت على شكل خيوط ألياف الكربون والمواد الأخرى الملبدة في بيئة كربونية. تطبيقات في علم المعادن والإلكترونيات والفضاء لإنتاج منتجات جرافيت عالية الجودة مثل الأقطاب الكهربائية والبوتقات.

فرن الرسم البياني للفيلم ذو الموصلية الحرارية العالية

فرن الرسم البياني للفيلم ذو الموصلية الحرارية العالية

فرن الجرافيت للفيلم ذو الموصلية الحرارية العالية لديه درجة حرارة موحدة، استهلاك منخفض للطاقة ويمكن أن يعمل بشكل مستمر.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

قارب كربون جرافيت - فرن أنبوب مختبر بغطاء

قارب كربون جرافيت - فرن أنبوب مختبر بغطاء

إن أفران أنبوب مختبر الجرافيت الكربوني المغطاة عبارة عن أوعية أو أوعية متخصصة مصنوعة من مادة الجرافيت المصممة لتحمل درجات الحرارة العالية للغاية والبيئات العدوانية كيميائيًا.

فرن أنبوبة التسخين Rtp

فرن أنبوبة التسخين Rtp

احصل على تسخين بسرعة البرق مع فرن أنبوب التسخين السريع RTP. مصمم للتسخين والتبريد الدقيق والعالي السرعة مع سكة انزلاقية مريحة وشاشة تحكم TFT تعمل باللمس. اطلب الآن للمعالجة الحرارية المثالية!

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

915 ميجا هرتز MPCVD الماس آلة الماس 915MHz ونموها الفعال متعدد البلورات، يمكن أن تصل المساحة القصوى إلى 8 بوصات، ويمكن أن تصل مساحة النمو الفعال القصوى للبلورة الواحدة إلى 5 بوصات. تُستخدم هذه المعدات بشكل أساسي لإنتاج أفلام الماس متعدد الكريستالات كبيرة الحجم، ونمو الماس أحادي البلورة الطويل، ونمو الجرافين عالي الجودة في درجات حرارة منخفضة، وغيرها من المواد التي تتطلب طاقة توفرها بلازما الميكروويف للنمو.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

الكربون عالي النقاء (C) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

الكربون عالي النقاء (C) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد كربونية (C) ميسورة التكلفة لاحتياجات مختبرك؟ لا مزيد من البحث! تأتي موادنا المُنتجة والمصممة بخبرة في مجموعة متنوعة من الأشكال والأحجام والنقاء. اختر من بين الأهداف المتساقطة ومواد الطلاء والمساحيق والمزيد.

CVD البورون مخدر الماس

CVD البورون مخدر الماس

الماس المغطى بالبورون CVD: مادة متعددة الاستخدامات تتيح التوصيل الكهربائي المخصص والشفافية البصرية والخصائص الحرارية الاستثنائية للتطبيقات في مجال الإلكترونيات والبصريات والاستشعار وتقنيات الكم.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.

بوتقة تبخر الجرافيت

بوتقة تبخر الجرافيت

أوعية للتطبيقات ذات درجات الحرارة العالية ، حيث يتم الاحتفاظ بالمواد في درجات حرارة عالية للغاية حتى تتبخر ، مما يسمح بترسيب الأغشية الرقيقة على ركائز.


اترك رسالتك