معرفة ما هي درجة حرارة الأمراض القلبية الوعائية القلبية الوعائية؟ 4 رؤى رئيسية
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوعين

ما هي درجة حرارة الأمراض القلبية الوعائية القلبية الوعائية؟ 4 رؤى رئيسية

الترسيب الكيميائي بالبخار الكيميائي (CVD) هي عملية تعمل عادةً في درجات حرارة عالية جدًا، تتراوح بين 900 درجة مئوية و2000 درجة مئوية.

وتعتبر درجات الحرارة العالية هذه ضرورية للتفاعلات الكيميائية التي تنطوي عليها عملية الترسيب.

أثناء عملية الترسيب بالترسيب القابل للقسري CVD، تتفاعل المواد الكيميائية في مرحلة البخار لتكوين طبقة صلبة على الركيزة.

وتزيد درجة الحرارة المرتفعة من معدل التفاعل عن طريق زيادة حركة جزيئات الغاز وتكرار تصادمها.

وهذا بدوره يسهل عملية الترسيب.

ومع ذلك، يمكن أن تشكل درجات الحرارة المرتفعة هذه العديد من التحديات.

فقد تتسبب في تشوه الأجزاء والتغيرات في بنية مادة الركيزة.

ويمكن أن يؤدي ذلك إلى تقليل الخواص الميكانيكية للركيزة وإضعاف الرابطة بين الركيزة والطلاء.

تحد هذه المشكلات من اختيار الركائز وتؤثر على جودة قطعة العمل.

ولمواجهة هذه التحديات، هناك اتجاه نحو تطوير عمليات التفريغ القابل للتبريد القابل للتحويل إلى نقش CVD بدرجة حرارة منخفضة وعالية التفريغ.

تعمل عمليات الترسيب الكيميائي القابل للتبخير الذاتي المعدّل، مثل الترسيب الكيميائي بالبخار الكيميائي المحسّن بالبلازما (PECVD) أو الترسيب الكيميائي بالبخار بمساعدة البلازما (PACVD)، في درجات حرارة منخفضة.

وتتراوح هذه العمليات عادةً من درجة حرارة الغرفة إلى 350 درجة مئوية.

وتعتبر عمليتا PECVD و PACVD مفيدة لأنها تقلل من الضغط بين طبقات الأغشية الرقيقة ذات معاملات التمدد الحراري المختلفة.

وهذا يساعد في الحفاظ على سلامة الجهاز أو الركيزة التي يتم طلاؤها.

كما أنه يعزز الأداء الكهربائي وجودة الترابط.

وباختصار، بينما تعمل تقنية CVD التقليدية في درجات حرارة عالية (600 درجة مئوية إلى 800 درجة مئوية)، أدت التطورات في التكنولوجيا إلى تطوير عمليات تعمل في درجات حرارة أقل بكثير.

هذه العمليات ذات درجات الحرارة المنخفضة مفيدة بشكل خاص للركائز والأجهزة الحساسة.

فهي تضمن طلاءات عالية الجودة دون المساس بالسلامة الهيكلية للركيزة.

مواصلة الاستكشاف، استشر خبرائنا

ما هي درجة حرارة الأمراض القلبية الوعائية القلبية الوعائية؟ 4 رؤى رئيسية

اكتشف كيف تقود KINTEK SOLUTION الطريق في تقنيات الطلاء بالحرارة المنخفضة المتقدمة!

توفر عملياتنا المبتكرة منخفضة الحرارة وعالية التفريغ، بما في ذلك PECVD و PACVD، دقة وكفاءة لا مثيل لها.

ثِق بنا لإحداث ثورة في تطبيقات التفريغ القابل للتبريد القابل للتفريغ باستخدام حلول تحافظ على سلامة الركائز وترفع جودة قطع العمل.

استمتع بمستقبل الترسيب الكيميائي مع KINTEK SOLUTION - حيث تلتقي أحدث التقنيات مع الموثوقية.

المنتجات ذات الصلة

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

CVD Diamond للإدارة الحرارية

CVD Diamond للإدارة الحرارية

ألماس CVD للإدارة الحرارية: ألماس عالي الجودة مع موصلية حرارية تصل إلى 2000 واط/م ك، مثالي لموزعات الحرارة، وثنائيات الليزر، وتطبيقات GaN على الماس (GOD).

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن KT-CTF14 متعدد مناطق التسخين CVD - تحكم دقيق في درجة الحرارة وتدفق الغاز للتطبيقات المتقدمة. درجة حرارة قصوى تصل إلى 1200 درجة مئوية، ومقياس تدفق الكتلة MFC بـ 4 قنوات، وجهاز تحكم بشاشة TFT تعمل باللمس مقاس 7 بوصة.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

CVD Diamond لأدوات التضميد

CVD Diamond لأدوات التضميد

استمتع بأداء لا يضاهى لفراغات CVD Diamond Dresser: التوصيل الحراري العالي، ومقاومة التآكل الاستثنائية، واستقلالية التوجيه.

فرن أنبوبة CVD ذو الحجرة المنقسمة مع ماكينة التفريغ بالبطاريات القابلة للتفريغ بالقنوات المرارية

فرن أنبوبة CVD ذو الحجرة المنقسمة مع ماكينة التفريغ بالبطاريات القابلة للتفريغ بالقنوات المرارية

فرن CVD ذو حجرة مجزأة فعالة ذات حجرة مجزأة مع محطة تفريغ لفحص العينة بسهولة وتبريد سريع. درجة حرارة قصوى تصل إلى 1200 درجة مئوية مع تحكم دقيق في مقياس التدفق الكتلي MFC.

CVD البورون مخدر الماس

CVD البورون مخدر الماس

الماس المغطى بالبورون CVD: مادة متعددة الاستخدامات تتيح التوصيل الكهربائي المخصص والشفافية البصرية والخصائص الحرارية الاستثنائية للتطبيقات في مجال الإلكترونيات والبصريات والاستشعار وتقنيات الكم.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

فرن أنبوبي عمودي

فرن أنبوبي عمودي

ارتقِ بتجاربك مع فرن الأنبوب العمودي. تصميم متعدد الاستخدامات يسمح بالتشغيل في مختلف البيئات وتطبيقات المعالجة الحرارية. اطلب الآن للحصول على نتائج دقيقة!

فرن الفراغ 2200 ℃ التنغستن

فرن الفراغ 2200 ℃ التنغستن

جرب الفرن المعدني المقاوم للصهر مع فرن التفريغ التنغستن الخاص بنا. قادرة على الوصول إلى 2200 درجة مئوية ، مما يجعلها مثالية لتلبيد السيراميك المتقدم والمعادن المقاومة للصهر. اطلب الآن للحصول على نتائج عالية الجودة.

فرن الضغط الساخن الأنبوبي الفراغي

فرن الضغط الساخن الأنبوبي الفراغي

تقليل ضغط التشكيل وتقصير وقت التلبيد باستخدام فرن الضغط الساخن الأنبوبي المفرغ من الهواء للمواد عالية الكثافة والحبيبات الدقيقة. مثالي للمعادن المقاومة للحرارة.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

الفراغات أداة القطع

الفراغات أداة القطع

أدوات القطع الماسية CVD: مقاومة فائقة للتآكل، واحتكاك منخفض، وموصلية حرارية عالية للمواد غير الحديدية، والسيراميك، وتصنيع المركبات

فرن الجرافيت ذو درجة الحرارة العالية العمودي

فرن الجرافيت ذو درجة الحرارة العالية العمودي

فرن جرافيت عمودي ذو درجة حرارة عالية لكربنة وجرافيت مواد الكربون حتى 3100 درجة مئوية. مناسب للجرافيت على شكل خيوط ألياف الكربون والمواد الأخرى الملبدة في بيئة كربونية. تطبيقات في علم المعادن والإلكترونيات والفضاء لإنتاج منتجات جرافيت عالية الجودة مثل الأقطاب الكهربائية والبوتقات.

فرن الرسم الجرافيتي العمودي الكبير

فرن الرسم الجرافيتي العمودي الكبير

فرن الجرافيت العمودي الكبير ذو درجة الحرارة العالية هو نوع من الأفران الصناعية المستخدمة لجرافت المواد الكربونية، مثل ألياف الكربون وأسود الكربون. إنه فرن عالي الحرارة يمكن أن يصل إلى درجات حرارة تصل إلى 3100 درجة مئوية.

فرن الفراغ مع بطانة ألياف السيراميك

فرن الفراغ مع بطانة ألياف السيراميك

فرن الفراغ مع بطانة عازلة من ألياف السيراميك متعددة الكريستالات لعزل حراري ممتاز ومجال درجة حرارة موحد. اختر من بين 1200 درجة أو 1700 درجة كحد أقصى. درجة حرارة العمل مع أداء الفراغ العالي والتحكم الدقيق في درجة الحرارة.

فرن تفريغ الهواء الساخن

فرن تفريغ الهواء الساخن

اكتشف مزايا فرن التفريغ بالكبس الساخن! تصنيع المعادن والمركبات المقاومة للحرارة الكثيفة والسيراميك والمركبات تحت درجة حرارة وضغط مرتفعين.

فرن فراغ الجرافيت 2200

فرن فراغ الجرافيت 2200

اكتشف قوة فرن الفراغ الجرافيت KT-VG - مع درجة حرارة تشغيل قصوى تبلغ 2200 ℃ ، فهو مثالي لتلبيد المواد المختلفة بالفراغ. تعلم المزيد الآن.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

915 ميجا هرتز MPCVD الماس آلة الماس 915MHz ونموها الفعال متعدد البلورات، يمكن أن تصل المساحة القصوى إلى 8 بوصات، ويمكن أن تصل مساحة النمو الفعال القصوى للبلورة الواحدة إلى 5 بوصات. تُستخدم هذه المعدات بشكل أساسي لإنتاج أفلام الماس متعدد الكريستالات كبيرة الحجم، ونمو الماس أحادي البلورة الطويل، ونمو الجرافين عالي الجودة في درجات حرارة منخفضة، وغيرها من المواد التي تتطلب طاقة توفرها بلازما الميكروويف للنمو.

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

فرن أنبوب منزلق PECVD مع آلة تغويز سائل PECVD

KT-PE12 Slide PECVD System: نطاق طاقة واسع ، تحكم في درجة الحرارة قابل للبرمجة ، تسخين / تبريد سريع مع نظام انزلاقي ، تحكم في التدفق الكتلي MFC ومضخة تفريغ.


اترك رسالتك