معرفة كيف تُصنع الأغشية الرقيقة لأشباه الموصلات؟ - شرح 5 طرق رئيسية
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ شهرين

كيف تُصنع الأغشية الرقيقة لأشباه الموصلات؟ - شرح 5 طرق رئيسية

يتم إنشاء الأغشية الرقيقة لأشباه الموصلات من خلال عملية تنطوي على ترسيب طبقات رقيقة للغاية على رقاقة رقاقة السيليكون.

وهذه العملية ضرورية لأداء أجهزة أشباه الموصلات.

فحتى العيوب الطفيفة يمكن أن تؤثر بشكل كبير على وظائفها.

والطريقتان الأساسيتان المستخدمتان في ترسيب الأغشية الرقيقة في صناعة أشباه الموصلات هما الترسيب الكيميائي بالبخار (CVD) والترسيب الفيزيائي بالبخار (PVD).

كيف تُصنع الأغشية الرقيقة لأشباه الموصلات؟ - شرح 5 طرق رئيسية

كيف تُصنع الأغشية الرقيقة لأشباه الموصلات؟ - شرح 5 طرق رئيسية

1. ترسيب البخار الكيميائي (CVD)

ترسيب البخار الكيميائي هو التقنية الأكثر استخداماً نظراً لدقتها العالية.

في هذه العملية، يتم إدخال السلائف الغازية في غرفة تفاعل عالية الحرارة حيث تخضع لتفاعل كيميائي.

ويتحول هذا التفاعل إلى طلاء صلب على الركيزة.

تسمح هذه الطريقة بإنشاء طبقات رقيقة جداً وموحدة ضرورية لأداء أجهزة أشباه الموصلات.

2. ترسيب البخار الفيزيائي (PVD)

ترسيب البخار الفيزيائي هو طريقة أخرى تُستخدم لإنشاء طلاءات عالية النقاء.

وهي تنطوي على تقنيات مثل الاخرق أو التبخير الحراري أو التبخير بالحزمة الإلكترونية.

في عملية الرش بالرش، تُقذف الذرات من مادة مستهدفة (عادةً ما تكون معدنًا) بسبب قصفها بجسيمات نشطة، وعادةً ما تكون أيونات.

ثم تترسب هذه الذرات المقذوفة على الركيزة مكونة طبقة رقيقة.

يتضمن التبخير الحراري تسخين المادة في الفراغ حتى تتبخر.

ثم تترسب الذرات المتبخرة على الركيزة.

يستخدم التبخير بالحزمة الإلكترونية شعاعًا إلكترونيًا لتسخين المادة وتبخيرها.

3. أهمية الأغشية الرقيقة في أشباه الموصلات

تلعب الأغشية الرقيقة دوراً حاسماً في تصنيع أجهزة أشباه الموصلات.

وكلما أصبحت الأجهزة أصغر حجماً وأكثر تعقيداً، تزداد أهمية جودة ودقة هذه الأغشية الرقيقة.

يمكن أن تكون الأغشية مصنوعة من مواد مختلفة، بما في ذلك المعادن الموصلة أو أكاسيد المعادن غير الموصلة للمعادن، اعتمادًا على المتطلبات المحددة لتطبيق أشباه الموصلات.

4. عملية التصنيع

تبدأ العملية برقاقة سيليكون رقيقة ونقية.

وفوق هذه الركيزة، يتم ترسيب كومة من الأغشية الرقيقة المصممة بعناية.

ثم يتم نقش كل طبقة باستخدام تقنيات الطباعة الحجرية.

وهذا يسمح بالتصنيع المتزامن لعدد كبير من الأجهزة النشطة وغير النشطة.

هذه العملية المعقدة لوضع الطبقات والنمذجة هي ما يمكّن من إنشاء دوائر متكاملة معقدة وأجهزة أشباه موصلات منفصلة.

5. الخلاصة

باختصار، تُصنع الأغشية الرقيقة لأشباه الموصلات باستخدام طرق دقيقة للغاية مثل CVD و PVD.

تسمح هذه الطرق بترسيب طبقات رقيقة للغاية وعالية الجودة على رقائق السيليكون.

هذه الطبقات ضرورية لوظائف الأجهزة الإلكترونية الحديثة وأدائها.

مواصلة الاستكشاف، استشر خبرائنا

أطلق العنان لإمكانات أجهزة أشباه الموصلات الخاصة بك مع KINTEK SOLUTION - مصدرك المفضل لأحدث أنظمة الترسيب الكيميائي بالبخار (CVD) والترسيب الفيزيائي بالبخار (PVD).

تضمن لك معداتنا المصممة بدقة ترسيب رقائق رقيقة للغاية وعالية الجودة للحصول على أداء لا مثيل له في أشباه الموصلات.

ارفع مستوى عملية التصنيع لديك وحفز الابتكار مع أحدث حلول KINTEK SOLUTION اليوم!

المنتجات ذات الصلة

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

CVD البورون مخدر الماس

CVD البورون مخدر الماس

الماس المغطى بالبورون CVD: مادة متعددة الاستخدامات تتيح التوصيل الكهربائي المخصص والشفافية البصرية والخصائص الحرارية الاستثنائية للتطبيقات في مجال الإلكترونيات والبصريات والاستشعار وتقنيات الكم.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

CVD Diamond للإدارة الحرارية

CVD Diamond للإدارة الحرارية

ألماس CVD للإدارة الحرارية: ألماس عالي الجودة مع موصلية حرارية تصل إلى 2000 واط/م ك، مثالي لموزعات الحرارة، وثنائيات الليزر، وتطبيقات GaN على الماس (GOD).

سيلينيد الزنك ، ZnSe ، نافذة / ركيزة / عدسة بصرية

سيلينيد الزنك ، ZnSe ، نافذة / ركيزة / عدسة بصرية

يتكون سيلينيد الزنك عن طريق تصنيع بخار الزنك مع غاز H2Se ، مما ينتج عنه رواسب تشبه الصفائح على حساسات الجرافيت.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

سيلينيد الإنديوم (In2Se3) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

سيلينيد الإنديوم (In2Se3) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اعثر على مواد Indium Selenide (In2Se3) ذات درجات نقاء وأشكال وأحجام مختلفة لاحتياجات معملك. يشمل نطاقنا أهداف الرش والطلاء والجزيئات والمزيد بأسعار معقولة. اطلب الان!

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

بوتقة تبخر الجرافيت

بوتقة تبخر الجرافيت

أوعية للتطبيقات ذات درجات الحرارة العالية ، حيث يتم الاحتفاظ بالمواد في درجات حرارة عالية للغاية حتى تتبخر ، مما يسمح بترسيب الأغشية الرقيقة على ركائز.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.

صفائح سيراميك نيتريد السيليكون (SiNi) السيراميك بالقطع الدقيق للسيراميك

صفائح سيراميك نيتريد السيليكون (SiNi) السيراميك بالقطع الدقيق للسيراميك

صفيحة نيتريد السيليكون هي مادة خزفية شائعة الاستخدام في صناعة المعادن نظرًا لأدائها الموحد في درجات الحرارة العالية.


اترك رسالتك