معرفة ما هو ترسيب البخار الكيميائي في فرن الأمراض القلبية الوعائية؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ 5 أيام

ما هو ترسيب البخار الكيميائي في فرن الأمراض القلبية الوعائية؟

الترسيب الكيميائي بالبخار الكيميائي (CVD) هو طريقة تُستخدم لتخليق الطلاءات أو المواد النانوية عن طريق تفاعل غازات السلائف على سطح الركيزة. تُستخدم هذه العملية على نطاق واسع في صناعة أشباه الموصلات لترسيب مواد مختلفة مثل المواد العازلة والمواد المعدنية ومواد السبائك المعدنية. تنطوي عملية التفريغ القابل للقنوات CVD على استخدام أنبوب كوارتز ساخن حيث يتم تزويد الغازات المصدرية وتتفاعل لتكوين رواسب غشاء على الركيزة. تعمل هذه العملية عادةً عند الضغط الجوي أو أقل بقليل من الضغط الجوي مع معدلات تدفق في النظام الصفحي، وتتميز بتكوين طبقة حدية حيث تنخفض سرعة الغاز إلى الصفر عند الركيزة.

شرح تفصيلي:

  1. نظرة عامة على العملية:

  2. في عملية التفريغ القابل للذوبان بالقنوات CVD، يتم تعريض الركيزة إلى سلائف متطايرة تتفاعل و/أو تتحلل على السطح لإنتاج الترسبات المطلوبة. وتكون هذه السلائف عادةً غازات أو أبخرة تحتوي على العناصر اللازمة للترسيب. لا يشكل التفاعل المادة المرغوبة على الركيزة فحسب، بل ينتج عنه أيضًا منتجات ثانوية متطايرة يتم إزالتها بواسطة تيار الغاز من خلال غرفة التفاعل.ظروف التشغيل:

  3. تُجرى عمليات التفريد القابل للتصوير المقطعي الذاتي في درجات حرارة مرتفعة، تتراوح عادةً بين 500 درجة مئوية و1100 درجة مئوية. هذه البيئة ذات درجات الحرارة المرتفعة ضرورية لحدوث التفاعلات الكيميائية بفعالية. يعمل النظام تحت ظروف جوية محكومة في الغلاف الجوي، وغالباً ما يتطلب نظام ضخ الفراغ للحفاظ على بيئة نظيفة خالية من الأكسجين ولإدارة الضغط، خاصة في أنظمة التفريغ القابل للتحويل القابل للتحويل إلى نقدي (CVD) منخفض الضغط.

    • مكوّنات نظام التفريغ القابل للتفكيك القابل للذوبان:
    • يتضمن نظام CVD النموذجي عدة مكونات رئيسية:الفرن:
    • تسخين الركيزة إلى درجة الحرارة المطلوبة.نظام التحكم:
    • يدير درجة الحرارة، ومعدلات تدفق الغاز، وغيرها من المعلمات.نظام الضخ بالتفريغ:
    • يضمن خلو غرفة التفاعل من الملوثات ويحافظ على الضغط المطلوب.نظام التنظيف:
  4. يزيل المنتجات الثانوية الضارة والغازات الزائدة من النظام.نظام تبريد الغازات:

  5. يبرد الغازات قبل دخولها إلى غرفة التفاعل.آلية الترسيب:

تتحد مادة الترسيب، والتي يمكن أن تختلف تبعاً للتطبيق، مع مادة سليفة (غالباً ما تكون هاليد أو هيدريد) التي تجهز وتنقل المادة إلى الركيزة. ويدخل هذا المزيج إلى غرفة تفريغ حيث تشكل مادة الترسيب طبقة موحدة على الركيزة، وتتفكك السليفة وتخرج عن طريق الانتشار.

المنتجات ذات الصلة

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن أنبوبة CVD متعدد مناطق التسخين المتعدد CVD فرن CVD الأنبوبية

فرن KT-CTF14 متعدد مناطق التسخين CVD - تحكم دقيق في درجة الحرارة وتدفق الغاز للتطبيقات المتقدمة. درجة حرارة قصوى تصل إلى 1200 درجة مئوية، ومقياس تدفق الكتلة MFC بـ 4 قنوات، وجهاز تحكم بشاشة TFT تعمل باللمس مقاس 7 بوصة.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

فرن أنبوبة CVD ذو الحجرة المنقسمة مع ماكينة التفريغ بالبطاريات القابلة للتفريغ بالقنوات المرارية

فرن أنبوبة CVD ذو الحجرة المنقسمة مع ماكينة التفريغ بالبطاريات القابلة للتفريغ بالقنوات المرارية

فرن CVD ذو حجرة مجزأة فعالة ذات حجرة مجزأة مع محطة تفريغ لفحص العينة بسهولة وتبريد سريع. درجة حرارة قصوى تصل إلى 1200 درجة مئوية مع تحكم دقيق في مقياس التدفق الكتلي MFC.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

CVD البورون مخدر الماس

CVD البورون مخدر الماس

الماس المغطى بالبورون CVD: مادة متعددة الاستخدامات تتيح التوصيل الكهربائي المخصص والشفافية البصرية والخصائص الحرارية الاستثنائية للتطبيقات في مجال الإلكترونيات والبصريات والاستشعار وتقنيات الكم.

CVD Diamond للإدارة الحرارية

CVD Diamond للإدارة الحرارية

ألماس CVD للإدارة الحرارية: ألماس عالي الجودة مع موصلية حرارية تصل إلى 2000 واط/م ك، مثالي لموزعات الحرارة، وثنائيات الليزر، وتطبيقات GaN على الماس (GOD).


اترك رسالتك