معرفة ما هي درجة حرارة البولي سيليكون في تقنية LPCVD؟ (شرح 5 نقاط رئيسية)
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ شهرين

ما هي درجة حرارة البولي سيليكون في تقنية LPCVD؟ (شرح 5 نقاط رئيسية)

عادةً ما تتراوح درجة حرارة البولي سيليكون في الترسيب الكيميائي للبولي سيليكون في الترسيب الكيميائي منخفض الضغط (LPCVD) من 600 درجة مئوية إلى 650 درجة مئوية تقريبًا.

يعد نطاق درجة الحرارة هذا مناسبًا لترسيب أغشية البولي سيليكون عالية الجودة، والتي تعتبر ضرورية لملامسات البوابات في أجهزة أشباه الموصلات.

ما هي درجة حرارة البولي سيليكون في تقنية LPCVD؟ (شرح 5 نقاط رئيسية)

ما هي درجة حرارة البولي سيليكون في تقنية LPCVD؟ (شرح 5 نقاط رئيسية)

1. نظرة عامة على عملية LPCVD

تقنية LPCVD هي طريقة مستخدمة في صناعة أشباه الموصلات لترسيب الأغشية الرقيقة من مواد مثل البولي سيليكون ونتريد السيليكون وثاني أكسيد السيليكون.

تعمل هذه العملية تحت ضغوط منخفضة، عادةً أقل من 133 باسكال، مما يعزز انتشار الغازات المتفاعلة ويحسن من انتظام ترسيب الفيلم عبر الركيزة.

2. درجة الحرارة في LPCVD

تعد درجة الحرارة في عمليات LPCVD معلمة حاسمة تؤثر على جودة وخصائص الأفلام المودعة.

بالنسبة للبولي سيليكون، يتم الترسيب عادةً في درجات حرارة تتراوح بين 600 درجة مئوية و650 درجة مئوية.

ويضمن نطاق درجة الحرارة هذا أن يكون لفيلم البولي سيليكون تغطية جيدة على مراحل، ونقاء عالٍ، وخصائص كهربائية ممتازة.

3. تأثير درجة الحرارة على ترسيب البولي سيليكون

في نطاق درجة الحرارة المحددة، تخضع الغازات المتفاعلة المستخدمة في عملية LPCVD (مثل السيلان أو ثنائي كلورو السيليكون) للتحلل الحراري، مما يؤدي إلى ترسيب البولي سيليكون على الركيزة.

وتساعد درجة الحرارة المرتفعة في تحقيق معدل ترسيب مرتفع وتضمن أن تكون طبقة البولي سيليكون كثيفة وخالية من العيوب.

4. مقارنة مع عمليات LPCVD الأخرى

في حين يتم ترسيب البولي سيليكون عند درجة حرارة تتراوح بين 600 و650 درجة مئوية تقريبًا، قد تتطلب مواد أخرى مثل ثاني أكسيد السيليكون ونتريد السيليكون درجات حرارة مختلفة.

على سبيل المثال، يمكن ترسيب ثاني أكسيد السيليكون عند حوالي 650 درجة مئوية، ونتريد السيليكون عند درجات حرارة أعلى تصل إلى 740 درجة مئوية.

هذه الاختلافات في درجات الحرارة تتناسب مع التفاعلات الكيميائية المحددة المطلوبة لترسيب كل مادة.

5. مزايا تقنية LPCVD للبولي سيليكون

يوفر استخدام تقنية LPCVD لترسيب البولي سيليكون العديد من المزايا، بما في ذلك الإنتاجية العالية والتوحيد الجيد والقدرة على ترسيب الأغشية في درجات حرارة منخفضة نسبيًا مقارنةً بطرق CVD الأخرى.

وهذا يجعل من تقنية LPCVD خيارًا مثاليًا لإنتاج أغشية البولي سيليكون عالية الجودة المستخدمة في مختلف تطبيقات أشباه الموصلات.

مواصلة الاستكشاف، استشر خبرائنا

اكتشف الدقة الكامنة وراء أفلام البولي سيليكون عالية الجودة مع KINTEK SOLUTION.

تم تصميم أحدث أنظمة LPCVD المتطورة لدينا لتحقيق درجات الحرارة المثلى لترسيب البولي سيليكون، مما يضمن الحصول على أفضل الأفلام في فئتها لأجهزة أشباه الموصلات الخاصة بك.

مع KINTEK، أنت لا تحصل على المعدات فحسب، بل تستثمر في مستقبل تكنولوجيا أشباه الموصلات.

اتصل بنا اليوم لاستكشاف كيف يمكن لحلولنا أن ترفع إنتاجك إلى آفاق جديدة!

المنتجات ذات الصلة

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

ماكينة ألماس MPCVD 915 ميجا هرتز

915 ميجا هرتز MPCVD الماس آلة الماس 915MHz ونموها الفعال متعدد البلورات، يمكن أن تصل المساحة القصوى إلى 8 بوصات، ويمكن أن تصل مساحة النمو الفعال القصوى للبلورة الواحدة إلى 5 بوصات. تُستخدم هذه المعدات بشكل أساسي لإنتاج أفلام الماس متعدد الكريستالات كبيرة الحجم، ونمو الماس أحادي البلورة الطويل، ونمو الجرافين عالي الجودة في درجات حرارة منخفضة، وغيرها من المواد التي تتطلب طاقة توفرها بلازما الميكروويف للنمو.

مكبس التصفيح بالتفريغ

مكبس التصفيح بالتفريغ

استمتع بتجربة التصفيح النظيف والدقيق مع مكبس التصفيح بالتفريغ الهوائي. مثالية لربط الرقاقات وتحويلات الأغشية الرقيقة وتصفيح LCP. اطلب الآن!

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

فرن تفريغ الهواء مع بطانة من الألياف الخزفية

فرن تفريغ الهواء مع بطانة من الألياف الخزفية

فرن تفريغ الهواء مع بطانة عازلة من الألياف الخزفية متعددة الكريستالات لعزل حراري ممتاز ومجال درجة حرارة موحد. اختر من بين 1200 ℃ أو 1700 ℃ كحد أقصى لدرجة حرارة العمل مع أداء تفريغ عالي وتحكم دقيق في درجة الحرارة.

فرن الفراغ 2200 ℃ التنغستن

فرن الفراغ 2200 ℃ التنغستن

جرب الفرن المعدني المقاوم للصهر مع فرن التفريغ التنغستن الخاص بنا. قادرة على الوصول إلى 2200 درجة مئوية ، مما يجعلها مثالية لتلبيد السيراميك المتقدم والمعادن المقاومة للصهر. اطلب الآن للحصول على نتائج عالية الجودة.

شريط علامة تبويب بطارية الليثيوم

شريط علامة تبويب بطارية الليثيوم

شريط PI بوليميد ، بني بشكل عام ، والمعروف أيضًا باسم شريط الإصبع الذهبي ، ومقاومة درجات الحرارة العالية 280 ℃ ، لمنع تأثير الختم الحراري لغراء عروة البطارية الناعم ، ومناسب للغراء الناعم لوضع علامة تبويب البطارية.

CVD Diamond للإدارة الحرارية

CVD Diamond للإدارة الحرارية

ألماس CVD للإدارة الحرارية: ألماس عالي الجودة مع موصلية حرارية تصل إلى 2000 واط/م ك، مثالي لموزعات الحرارة، وثنائيات الليزر، وتطبيقات GaN على الماس (GOD).

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

فرن الرسم البياني للفيلم ذو الموصلية الحرارية العالية

فرن الرسم البياني للفيلم ذو الموصلية الحرارية العالية

فرن الجرافيت للفيلم ذو الموصلية الحرارية العالية لديه درجة حرارة موحدة، استهلاك منخفض للطاقة ويمكن أن يعمل بشكل مستمر.

فرن تلبيد الضغط الفراغي

فرن تلبيد الضغط الفراغي

تم تصميم أفران تلبيد الضغط الفراغي لتطبيقات الضغط الساخن ذات درجة الحرارة العالية في تلبيد المعادن والسيراميك. تضمن ميزاته المتقدمة التحكم الدقيق في درجة الحرارة، وصيانة موثوقة للضغط، وتصميمًا قويًا للتشغيل السلس.


اترك رسالتك