معرفة ما هي عملية الأغشية الرقيقة في أشباه الموصلات؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوع

ما هي عملية الأغشية الرقيقة في أشباه الموصلات؟

تنطوي عمليات الأغشية الرقيقة في أشباه الموصلات على ترسيب طبقات من المواد الموصلة وأشباه الموصلات والمواد العازلة على ركيزة، عادةً ما تكون رقاقة من السيليكون أو كربيد السيليكون. هذه الأغشية الرقيقة ضرورية لتصنيع الدوائر المتكاملة وأجهزة أشباه الموصلات المنفصلة. وتتسم هذه العملية بالدقة العالية وتتطلب نقشًا دقيقًا باستخدام تقنيات الطباعة الحجرية لإنشاء العديد من الأجهزة النشطة وغير النشطة في وقت واحد.

ملخص عملية الأغشية الرقيقة:

  1. ترسيب الأغشية الرقيقة: تبدأ العملية بترسيب الأغشية الرقيقة على ركيزة. ويتم تحقيق ذلك من خلال تقنيات ترسيب مختلفة مثل ترسيب البخار الكيميائي (CVD) والترسيب الفيزيائي للبخار (PVD) والترسيب بالطبقة الذرية (ALD). تضمن هذه الطرق تشكيل طبقة موحدة وعالية الجودة من المواد على الركيزة.
  2. النمذجة والطباعة الحجرية: بعد الترسيب، يتم نقش كل طبقة باستخدام تقنيات الطباعة الحجرية. وينطوي ذلك على استخدام أشعة الضوء أو أشعة الإلكترون لنقل نمط هندسي من قناع ضوئي إلى مادة حساسة للضوء على الرقاقة. وتعد هذه الخطوة بالغة الأهمية لتحديد العناصر الوظيفية لجهاز أشباه الموصلات.
  3. الدمج والتصنيع: يتم بعد ذلك دمج الطبقات المنقوشة لتشكيل جهاز شبه موصل كامل. يتضمن ذلك خطوات متعددة من الترسيب والنقش والحفر لإنشاء المكونات والدوائر الإلكترونية المطلوبة.

شرح تفصيلي:

  • ترسيب الأغشية الرقيقة: يعتمد اختيار تقنية الترسيب على المادة والخصائص المطلوبة للفيلم الرقيق. على سبيل المثال، غالبًا ما تُستخدم تقنية CVD لترسيب طبقات السيليكون ومركباته، بينما تُستخدم تقنية PVD لترسيب الأغشية الرقيقة للمعادن. ومن ناحية أخرى، تسمح تقنية التفتيت بالترسيب بالتحلل الذري المستقل بتحكم دقيق للغاية في سماكة الطبقة الرقيقة وتكوينها، مما يجعلها مثالية للأجهزة المعقدة.
  • النمذجة والطباعة الحجرية: الطباعة الحجرية هي خطوة أساسية في تحديد وظائف جهاز أشباه الموصلات. وتُستخدم تقنيات مثل الطباعة الليثوغرافية الضوئية والطباعة الحجرية بالحزمة الإلكترونية لإنشاء أنماط من شأنها توجيه عمليات الحفر والتخدير اللاحقة. تؤثر دقة هذه الأنماط بشكل مباشر على أداء الجهاز وتصغير حجمه.
  • الدمج والتصنيع: بعد أن يتم نقش كل طبقة، يتم دمجها من خلال سلسلة من خطوات الترسيب والتخدير والحفر الإضافية. تُعد عملية الدمج هذه ضرورية لضمان عمل الجهاز على النحو المنشود، حيث تساهم كل طبقة في الخصائص الإلكترونية الكلية للجهاز.

المراجعة والتصحيح:

يصف المحتوى المقدم بدقة عملية الأغشية الرقيقة في أشباه الموصلات، مع التركيز على أهمية تقنيات الترسيب وتقنيات الطباعة الحجرية. إن شرح كيفية مساهمة هذه العمليات في تصنيع أجهزة أشباه الموصلات واضح ويتماشى مع الممارسات المتبعة في مجال تصنيع أشباه الموصلات. لا توجد تصحيحات واقعية ضرورية.

المنتجات ذات الصلة

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

السيليكون بالأشعة تحت الحمراء / السيليكون عالي المقاومة / عدسة السيليكون البلورية الأحادية

السيليكون بالأشعة تحت الحمراء / السيليكون عالي المقاومة / عدسة السيليكون البلورية الأحادية

يعتبر السيليكون (Si) على نطاق واسع أحد أكثر المواد المعدنية والبصرية متانة للتطبيقات في نطاق الأشعة تحت الحمراء القريبة (NIR) ، حوالي 1 ميكرومتر إلى 6 ميكرومتر.

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

CVD Diamond للإدارة الحرارية

CVD Diamond للإدارة الحرارية

ألماس CVD للإدارة الحرارية: ألماس عالي الجودة مع موصلية حرارية تصل إلى 2000 واط/م ك، مثالي لموزعات الحرارة، وثنائيات الليزر، وتطبيقات GaN على الماس (GOD).

نيتريد السيليكون (كربيد السيليكون) سيراميك دقيق لتصنيع الألواح الخزفية

نيتريد السيليكون (كربيد السيليكون) سيراميك دقيق لتصنيع الألواح الخزفية

صفيحة نيتريد السيليكون هي مادة خزفية شائعة الاستخدام في صناعة المعادن بسبب أدائها المنتظم في درجات حرارة عالية.

الإلكترون شعاع بوتقة

الإلكترون شعاع بوتقة

في سياق تبخر حزمة الإلكترون ، البوتقة عبارة عن حاوية أو حامل مصدر يستخدم لاحتواء وتبخير المادة المراد ترسيبها على الركيزة.

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر الجرافيت بوتقة

تقنية تستخدم بشكل رئيسي في مجال إلكترونيات الطاقة. إنه فيلم جرافيت مصنوع من مادة مصدر الكربون عن طريق ترسيب المواد باستخدام تقنية شعاع الإلكترون.

شعاع الإلكترون التبخر طلاء التنغستن بوتقة / الموليبدينوم بوتقة

شعاع الإلكترون التبخر طلاء التنغستن بوتقة / الموليبدينوم بوتقة

تُستخدم بوتقات التنجستن والموليبدينوم بشكل شائع في عمليات تبخر الحزمة الإلكترونية نظرًا لخصائصها الحرارية والميكانيكية الممتازة.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

CVD البورون مخدر الماس

CVD البورون مخدر الماس

الماس المغطى بالبورون CVD: مادة متعددة الاستخدامات تتيح التوصيل الكهربائي المخصص والشفافية البصرية والخصائص الحرارية الاستثنائية للتطبيقات في مجال الإلكترونيات والبصريات والاستشعار وتقنيات الكم.

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

شعاع الإلكترون طلاء التبخر بوتقة النحاس خالية من الأكسجين

شعاع الإلكترون طلاء التبخر بوتقة النحاس خالية من الأكسجين

عند استخدام تقنيات تبخير الحزمة الإلكترونية ، فإن استخدام بوتقات النحاس الخالية من الأكسجين يقلل من خطر تلوث الأكسجين أثناء عملية التبخر.

بوتقة تبخر الجرافيت

بوتقة تبخر الجرافيت

أوعية للتطبيقات ذات درجات الحرارة العالية ، حيث يتم الاحتفاظ بالمواد في درجات حرارة عالية للغاية حتى تتبخر ، مما يسمح بترسيب الأغشية الرقيقة على ركائز.

قارب تبخير سيراميك مؤلمن

قارب تبخير سيراميك مؤلمن

وعاء لوضع الأغشية الرقيقة ؛ له جسم سيراميك مغطى بالألمنيوم لتحسين الكفاءة الحرارية والمقاومة الكيميائية. مما يجعلها مناسبة لمختلف التطبيقات.

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسن بالبلازما الدوارة المائلة (PECVD)

نقدم فرن PECVD الدوار المائل من أجل ترسيب دقيق للغشاء الرقيق. استمتع بمصدر المطابقة التلقائية ، والتحكم في درجة الحرارة القابل للبرمجة PID ، والتحكم في مقياس تدفق الكتلة MFC عالي الدقة. ميزات أمان مدمجة لراحة البال.

ورقة زجاج الكوارتز البصري مقاومة درجات الحرارة العالية

ورقة زجاج الكوارتز البصري مقاومة درجات الحرارة العالية

اكتشف قوة الألواح الزجاجية الضوئية من أجل المعالجة الدقيقة للضوء في الاتصالات السلكية واللاسلكية وعلم الفلك وغيرهما. أطلق العنان للتطورات في التكنولوجيا البصرية بوضوح استثنائي وخصائص انكسار مخصصة.

400-700nm الطول الموجي المضاد للانعكاس / زجاج طلاء AR

400-700nm الطول الموجي المضاد للانعكاس / زجاج طلاء AR

يتم تطبيق طلاءات AR على الأسطح البصرية لتقليل الانعكاس. يمكن أن تكون طبقة واحدة أو طبقات متعددة مصممة لتقليل الضوء المنعكس من خلال التداخل المدمر.

الأشعة تحت الحمراء طلاء طلاء الياقوت ورقة / الركيزة الياقوت / نافذة الياقوت

الأشعة تحت الحمراء طلاء طلاء الياقوت ورقة / الركيزة الياقوت / نافذة الياقوت

مصنوعة من الياقوت ، وتتميز الركيزة بخصائص كيميائية وبصرية وفيزيائية لا مثيل لها. تتميز بمقاومتها الرائعة للصدمات الحرارية ودرجات الحرارة المرتفعة وتآكل الرمال والمياه.

سيلينيد الزنك ، ZnSe ، نافذة / ركيزة / عدسة بصرية

سيلينيد الزنك ، ZnSe ، نافذة / ركيزة / عدسة بصرية

يتكون سيلينيد الزنك عن طريق تصنيع بخار الزنك مع غاز H2Se ، مما ينتج عنه رواسب تشبه الصفائح على حساسات الجرافيت.

نافذة كبريتيد الزنك (ZnS) / لوح ملح

نافذة كبريتيد الزنك (ZnS) / لوح ملح

تتمتع نوافذ Optics Zinc Sulphide (ZnS) بنقل الأشعة تحت الحمراء الممتاز بين 8-14 ميكرون ، وقوة ميكانيكية ممتازة وخمول كيميائي للبيئات القاسية (أصعب من ZnSe Windows)

الزجاج البصري المصقول من الصودا والجير للمختبر

الزجاج البصري المصقول من الصودا والجير للمختبر

يتم إنشاء زجاج الصودا والجير ، المفضل على نطاق واسع كركيزة عازلة لترسب الغشاء الرقيق / السميك ، عن طريق الزجاج المصهور العائم على القصدير المصهور. تضمن هذه الطريقة سماكة موحدة وأسطحًا مسطحة بشكل استثنائي.


اترك رسالتك