معرفة ما هي المواد النانوية التي يتم تصنيعها عن طريق ترسيب البخار الكيميائي؟
الصورة الرمزية للمؤلف

فريق التقنية · Kintek Solution

محدث منذ أسبوع

ما هي المواد النانوية التي يتم تصنيعها عن طريق ترسيب البخار الكيميائي؟

الترسيب الكيميائي بالبخار الكيميائي (CVD) هو طريقة متعددة الاستخدامات ومستخدمة على نطاق واسع لتخليق مجموعة متنوعة من المواد النانوية، وخاصة المواد النانوية القائمة على الكربون والأغشية الرقيقة. وتتضمن هذه العملية تحلل أو تفاعل السلائف الغازية على ركيزة تحت ظروف محكومة، وعادةً ما تكون في فراغ وفي درجات حرارة مرتفعة. وتعد هذه الطريقة فعالة بشكل خاص لإنتاج مواد عالية الجودة وعالية الأداء على مقياس النانو.

المواد النانوية القائمة على الكربون التي يتم تصنيعها بواسطة التفريغ القابل للتحويل القابل للتحويل:

  1. الفوليرين: وهي عبارة عن مجموعات كروية أو أسطوانية أو بيضاوية الشكل من ذرات الكربون. يمكن استخدام CVD لإنتاج الفوليرين عن طريق تبخير مصادر الكربون في ظروف محددة.
  2. الأنابيب النانوية الكربونية (CNTs): الأنابيب النانوية الكربونية النانوية (CNTs) عبارة عن صفائح جرافين ملفوفة تشكل أنابيب. ويُعد التفريغ القابل للقنوات CVD طريقة شائعة لتخليقها، حيث يتم استخدام الهيدروكربونات والمحفزات المعدنية لتنمية أنابيب الكربون النانوية على ركائز.
  3. ألياف الكربون النانوية (CNFs): على غرار ألياف الكربون النانوية CNTs ولكن ببنية مختلفة، يمكن أيضًا تصنيع ألياف الكربون النانوية باستخدام تقنية CVD، وغالبًا بمساعدة محفزات معدنية.
  4. الجرافين: عبارة عن طبقة واحدة من ذرات الكربون مرتبة في شبكة سداسية الشكل، ويمكن تصنيع الجرافين عن طريق القطع القابل للقطع على القسطرة عن طريق تفكيك الهيدروكربونات على ركائز معدنية ثم نقل طبقة الجرافين إلى ركائز أخرى.

مواد نانوية أخرى يتم تصنيعها بواسطة CVD:

  • لا يقتصر استخدام تقنية CVD على المواد القائمة على الكربون؛ فهي تُستخدم أيضًا لتخليق:البنى النانوية الخزفية:
  • باستخدام السلائف المناسبة، يمكن ترسيب المواد الخزفية في هياكل نانوية.الكربيدات:

وهي مركبات من الكربون مع عناصر أقل سالبية إلكترونية، ويمكن تشكيل هياكلها النانوية باستخدام تقنيات التفريغ القابل للقطع CVD.المتغيرات من CVD:

  • يتم تعزيز تعدد استخدامات CVD من خلال تعديلات وتحسينات مختلفة على العملية الأساسية، بما في ذلك:
  • CVD بالضغط المنخفض CVD (LPCVD) وCVD بالضغط الجوي CVD (APCVD): تعمل هذه المتغيرات على ضبط الضغط لتحسين عملية الترسيب.
  • التفريغ القابل للسير الذاتية المعزز بالبلازما (PECVD): يستخدم البلازما لتعزيز معدلات التفاعل الكيميائي، مما يسمح بدرجات حرارة ترسيب أقل.

CVD بمساعدة الضوء و CVD بمساعدة الليزر: يستخدمان الضوء لبدء أو تعزيز التفاعلات الكيميائية، مما يوفر تحكمًا دقيقًا في عملية الترسيب.

تحديات ومزايا التفريغ القابل للسير الذاتية:

المنتجات ذات الصلة

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

معدات رسم طلاء نانو الماس HFCVD

يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، ويستخدم طريقة طور البخار الكيميائي (طريقة CVD للاختصار) لطلاء الطلاء المركب التقليدي بالماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب.

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

صنع العميل آلة CVD متعددة الاستخدامات لفرن أنبوب CVD

احصل على فرن CVD الخاص بك مع الفرن متعدد الاستخدامات KT-CTF16. وظائف انزلاق ودوران وإمالة قابلة للتخصيص للحصول على تفاعلات دقيقة. اطلب الان!

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

آلة طلاء PECVD بترسيب التبخر المحسن بالبلازما

قم بترقية عملية الطلاء الخاصة بك باستخدام معدات الطلاء PECVD. مثالية لمصابيح LED وأشباه موصلات الطاقة والنظم الكهروميكانيكية الصغرى والمزيد. يودع أغشية صلبة عالية الجودة في درجات حرارة منخفضة.

نيتريد السيليكون (Si3N4) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

نيتريد السيليكون (Si3N4) هدف الرش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

احصل على مواد نيتريد السيليكون (Si3N4) ميسورة التكلفة لتلبية احتياجات المختبر. نحن ننتج ونخصص أشكالًا وأحجامًا ودرجات نقاء مختلفة لتناسب متطلباتك. تصفح مجموعتنا من الأهداف المتساقطة والمساحيق والمزيد.

نيتريد التيتانيوم (TiN) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

نيتريد التيتانيوم (TiN) هدف رشاش / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هل تبحث عن مواد ميسورة التكلفة من نيتريد التيتانيوم (TiN) لمختبرك؟ تكمن خبرتنا في إنتاج مواد مخصصة بأشكال وأحجام مختلفة لتلبية احتياجاتك الفريدة. نحن نقدم مجموعة واسعة من المواصفات والأحجام لأهداف الرش ، والطلاء ، وأكثر من ذلك.

CVD Diamond للإدارة الحرارية

CVD Diamond للإدارة الحرارية

ألماس CVD للإدارة الحرارية: ألماس عالي الجودة مع موصلية حرارية تصل إلى 2000 واط/م ك، مثالي لموزعات الحرارة، وثنائيات الليزر، وتطبيقات GaN على الماس (GOD).

CVD البورون مخدر الماس

CVD البورون مخدر الماس

الماس المغطى بالبورون CVD: مادة متعددة الاستخدامات تتيح التوصيل الكهربائي المخصص والشفافية البصرية والخصائص الحرارية الاستثنائية للتطبيقات في مجال الإلكترونيات والبصريات والاستشعار وتقنيات الكم.

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة الرنان الأسطوانية MPCVD لنمو المختبر والماس

تعرف على آلة الرنان الأسطواني MPCVD ، وهي طريقة ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما بالميكروويف المستخدمة في زراعة الأحجار الكريمة والأغشية الماسية في صناعات المجوهرات وأشباه الموصلات. اكتشف مزاياها الفعالة من حيث التكلفة مقارنة بأساليب HPHT التقليدية.

سبائك النيكل والكروم (NiCr) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

سبائك النيكل والكروم (NiCr) الرش الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبات

احصل على مواد عالية الجودة من سبائك النيكل والكروم (NiCr) لاحتياجات معملك وبأسعار معقولة. اختر من بين مجموعة كبيرة من الأشكال والأحجام ، بما في ذلك أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد. مصممة لتناسب متطلباتك الفريدة.

نيتريد الألومنيوم (AlN) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

نيتريد الألومنيوم (AlN) الاخرق الهدف / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

مواد عالية الجودة من نيتريد الألومنيوم (AlN) بأشكال وأحجام مختلفة للاستخدام المعملي وبأسعار مناسبة. اكتشف مجموعتنا من أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد. الحلول المخصصة المتاحة.

هدف رش نيتريد التنتالوم (TaN) / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

هدف رش نيتريد التنتالوم (TaN) / مسحوق / سلك / كتلة / حبيبة

اكتشف مواد Tantalum Nitride ذات الأسعار المعقولة لاحتياجات المختبر. ينتج خبراؤنا أشكالًا ودرجات نقاء مخصصة لتلبية مواصفاتك الفريدة. اختر من بين مجموعة متنوعة من أهداف الرش والطلاء والمساحيق والمزيد.

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF PECVD نظام تردد الراديو ترسيب البخار الكيميائي المحسن بالبلازما

RF-PECVD هو اختصار لعبارة "ترسيب البخار الكيميائي المعزز ببلازما التردد اللاسلكي." ترسب مادة DLC (فيلم الكربون الشبيه بالماس) على ركائز الجرمانيوم والسيليكون. يتم استخدامه في نطاق الطول الموجي للأشعة تحت الحمراء 3-12um.

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD

طلاء الماس CVD: موصلية حرارية فائقة وجودة كريستالية والتصاق لأدوات القطع والاحتكاك والتطبيقات الصوتية

الفراغات أداة القطع

الفراغات أداة القطع

أدوات القطع الماسية CVD: مقاومة فائقة للتآكل، واحتكاك منخفض، وموصلية حرارية عالية للمواد غير الحديدية، والسيراميك، وتصنيع المركبات

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

آلة رنان الجرس MPCVD لنمو المختبر والماس

احصل على أغشية ألماس عالية الجودة باستخدام آلة Bell-jar Resonator MPCVD المصممة لنمو المختبر والماس. اكتشف كيف يعمل ترسيب البخار الكيميائي بالبلازما الميكروويف على زراعة الماس باستخدام غاز الكربون والبلازما.


اترك رسالتك